[發(fā)明專利]制冷設備及其化霜控制方法、裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010057698.6 | 申請日: | 2020-01-19 |
| 公開(公告)號: | CN111238121B | 公開(公告)日: | 2021-07-06 |
| 發(fā)明(設計)人: | 楊志永 | 申請(專利權(quán))人: | 珠海格力電器股份有限公司;合肥晶弘電器有限公司 |
| 主分類號: | F25D11/00 | 分類號: | F25D11/00;F25D21/06;F25D29/00 |
| 代理公司: | 廣州華進聯(lián)合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 張彬彬 |
| 地址: | 519000 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 制冷 設備 及其 控制 方法 裝置 | ||
1.一種制冷設備的化霜控制方法,其特征在于,包括:
以第一預設時長為周期,周期性檢測制冷設備在對應周期內(nèi)是否頻繁使用;
當檢測到所述制冷設備未頻繁使用時,在預設化霜間隔的基礎上逐漸增大化霜間隔對所述制冷設備進行化霜控制;
當檢測到所述制冷設備頻繁使用時,以所述預設化霜間隔對所述制冷設備進行化霜控制;
所述以第一預設時長為周期,周期性檢測制冷設備在對應周期內(nèi)是否頻繁使用的步驟,包括:
以第一預設時長為周期,周期性獲取制冷設備的開門次數(shù)和開門時間信息;
根據(jù)所述開門次數(shù)和/或所述開門時間判斷所述制冷設備是否頻繁使用;
所述當檢測到所述制冷設備未頻繁使用時,在預設化霜間隔的基礎上逐漸增大化霜間隔對所述制冷設備進行化霜控制為:當檢測到當前周期內(nèi)所述制冷設備未頻繁使用時,下一周期時在預設化霜間隔的基礎上逐漸增大化霜間隔對所述制冷設備進行化霜控制;
所述當檢測到所述制冷設備頻繁使用時,以所述預設化霜間隔對所述制冷設備進行化霜控制為:當檢測到當前周期內(nèi)所述制冷設備頻繁使用時,下一周期時以所述預設化霜間隔對所述制冷設備進行化霜控制。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化霜控制方法,其特征在于,所述在預設化霜間隔的基礎上逐漸增大化霜間隔對所述制冷設備進行化霜控制的步驟,包括:
隨著化霜次數(shù)的增加,在預設化霜間隔的基礎上以第二預設時長逐漸增大化霜間隔對所述制冷設備進行化霜控制,直至化霜間隔達到預設最大化霜間隔。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的化霜控制方法,其特征在于,所述隨著化霜次數(shù)的增加,在預設化霜間隔的基礎上以第二預設時長逐漸增大化霜間隔對所述制冷設備進行化霜控制,直至化霜間隔達到預設最大化霜間隔包括:
t1=t0+n*t2
其中,t1為化霜間隔,t0為預設化霜間隔,n為化霜次數(shù),t2為第二預設時長,*表示相乘。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化霜控制方法,其特征在于,所述當檢測到所述制冷設備未頻繁使用時,還包括:
控制所述制冷設備的壓縮機在初始轉(zhuǎn)速的基礎上降低轉(zhuǎn)速運行。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的化霜控制方法,其特征在于,所述當檢測到所述制冷設備頻繁使用時,還包括:
控制所述壓縮機以所述初始轉(zhuǎn)速運行。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化霜控制方法,其特征在于,所述以第一預設時長為周期,周期性檢測制冷設備在對應周期內(nèi)是否頻繁使用的步驟之前,還包括:
檢測用戶是否對制冷設備有功能要求;
若否,則執(zhí)行所述以第一預設時長為周期,周期性檢測制冷設備在對應周期內(nèi)是否頻繁使用。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的化霜控制方法,其特征在于,所述檢測用戶是否對制冷設備有功能要求的步驟之后,還包括:
若是,則控制所述制冷設備根據(jù)對應的功能要求運行。
8.一種制冷設備的化霜控制裝置,其特征在于,包括:
使用檢測模塊,用于以第一預設時長為周期,周期性檢測制冷設備在對應周期內(nèi)是否頻繁使用;
第一化霜控制模塊,用于當檢測到所述制冷設備未頻繁使用時,在預設化霜間隔的基礎上逐漸增大化霜間隔對所述制冷設備進行化霜控制;
第二化霜控制模塊,用于當檢測到所述制冷設備頻繁使用時,以所述預設化霜間隔對所述制冷設備進行化霜控制;
所述使用檢測模塊還用于以第一預設時長為周期,周期性獲取制冷設備的開門次數(shù)和開門時間信息;根據(jù)所述開門次數(shù)和/或所述開門時間判斷所述制冷設備是否頻繁使用;
所述第一化霜控制模塊還用于當檢測到當前周期內(nèi)所述制冷設備未頻繁使用時,下一周期時在預設化霜間隔的基礎上逐漸增大化霜間隔對所述制冷設備進行化霜控制,
所述第二化霜控制模塊還用于當檢測到當前周期內(nèi)所述制冷設備頻繁使用時,下一周期時以所述預設化霜間隔對所述制冷設備進行化霜控制。
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