[發(fā)明專利]彩膜基板、顯示面板和顯示裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010057184.0 | 申請(qǐng)日: | 2020-01-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113138484A | 公開(公告)日: | 2021-07-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 石戈;劉玉杰;舒適;黃維;張世玉;王宇瑤;林允植;陳小川;董學(xué);祝明;楊松 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1335 | 分類號(hào): | G02F1/1335;G02F1/1339;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 張琛 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 彩膜基板 顯示 面板 顯示裝置 | ||
1.一種彩膜基板,包括:
襯底基板;
設(shè)置于所述襯底基板的色轉(zhuǎn)換層;
設(shè)置在所述色轉(zhuǎn)換層遠(yuǎn)離所述襯底基板一側(cè)的覆蓋層;和
設(shè)置在所述覆蓋層遠(yuǎn)離所述襯底基板一側(cè)的偏振層,
其中,所述偏振層包括線柵偏振器,并且,所述覆蓋層包括第一覆蓋子層和第二覆蓋子層,所述第一覆蓋子層位于所述色轉(zhuǎn)換層遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè),所述第二覆蓋子層位于所述第一覆蓋子層遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè),所述第一覆蓋子層的材料不同于所述第二覆蓋子層的材料。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板,還包括:設(shè)置在所述覆蓋層與所述偏振層之間的緩沖層,其中,所述緩沖層包括第一緩沖子層和第二緩沖子層,所述第一緩沖子層設(shè)置在所述線柵偏振器靠近所述襯底基板的一側(cè),所述第二緩沖子層設(shè)置在所述第一緩沖子層靠近所述襯底基板的一側(cè),所述第一緩沖子層的材料的折射率小于所述第二緩沖子層的材料的折射率。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的彩膜基板,還包括:設(shè)置在所述偏振層遠(yuǎn)離所述襯底基板一側(cè)的保護(hù)層,其中,所述保護(hù)層包括第一保護(hù)子層和第二保護(hù)子層,所述第一保護(hù)子層設(shè)置在所述線柵偏振器遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè),所述第二保護(hù)子層設(shè)置在所述第一保護(hù)子層遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè),所述第一保護(hù)子層的材料的折射率小于所述第二保護(hù)子層的材料的折射率。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的彩膜基板,還包括設(shè)置在所述色轉(zhuǎn)換層靠近所述襯底基板一側(cè)的濾光層,
其中,所述濾光層包括第一濾光結(jié)構(gòu)、第二濾光結(jié)構(gòu)和第三濾光結(jié)構(gòu),所述第一濾光結(jié)構(gòu)用于允許具有第一波長(zhǎng)范圍的光透過,所述第二濾光結(jié)構(gòu)用于允許具有第二波長(zhǎng)范圍的光透過,所述第三濾光結(jié)構(gòu)用于允許具有第三波長(zhǎng)范圍的光透過,所述第一波長(zhǎng)范圍、所述第二波長(zhǎng)范圍和所述第三波長(zhǎng)范圍彼此不相同。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的彩膜基板,其中,所述色轉(zhuǎn)換層包括第一量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)和第二量子點(diǎn)結(jié)構(gòu),所述第一量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)用于將入射到其上的具有第三波長(zhǎng)范圍的光轉(zhuǎn)換成具有第一波長(zhǎng)范圍的光,所述第二量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)用于將入射到其上的具有第三波長(zhǎng)范圍的光轉(zhuǎn)換成具有第二波長(zhǎng)范圍的光,
其中,所述彩膜基板包括多個(gè)像素,每個(gè)像素至少包括第一子像素、第二子像素和第三子像素,所述第一子像素包括所述第一量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)和所述第一濾光結(jié)構(gòu),所述第二子像素包括所述第二量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)和所述第二濾光結(jié)構(gòu),所述第三子像素包括所述第三濾光結(jié)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的彩膜基板,其中,所述第三子像素還包括透明結(jié)構(gòu),所述透明結(jié)構(gòu)允許入射到其上的具有第三波長(zhǎng)范圍的光直接透過,所述透明結(jié)構(gòu)位于所述第三濾光結(jié)構(gòu)遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的彩膜基板,其中,所述第一量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)在所述襯底基板上的正投影落入所述第一濾光結(jié)構(gòu)在所述襯底基板上的正投影內(nèi),所述第二量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)在所述襯底基板上的正投影落入所述第二濾光結(jié)構(gòu)在所述襯底基板上的正投影內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的彩膜基板,其中,所述透明結(jié)構(gòu)在所述襯底基板上的正投影落入所述第三濾光結(jié)構(gòu)在所述襯底基板上的正投影內(nèi)。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的彩膜基板,其中,所述第一濾光結(jié)構(gòu)的厚度等于所述第二濾光結(jié)構(gòu)的厚度,所述第一量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)的厚度等于所述第二量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)的厚度,所述第三濾光結(jié)構(gòu)的厚度等于所述第一濾光結(jié)構(gòu)與所述第一量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)的厚度之和,
并且,所述第一濾光結(jié)構(gòu)的厚度小于所述第一量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)的厚度。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的彩膜基板,其中,所述第一濾光結(jié)構(gòu)的厚度、所述第二濾光結(jié)構(gòu)的厚度和所述第三濾光結(jié)構(gòu)的厚度彼此相等,所述第一量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)的厚度、所述第二量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)的厚度和所述透明結(jié)構(gòu)的厚度彼此相等,
并且,所述第一濾光結(jié)構(gòu)的厚度小于所述第一量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)的厚度。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





