[發明專利]一種用于動態二次離子質譜儀的樣品的制備方法及其制得的樣品有效
| 申請號： | 202010055783.9 | 申請日： | 2020-01-17 |
| 公開（公告）號： | CN111257071B | 公開（公告）日： | 2022-10-21 |
| 發明（設計）人： | 吳夢雪;劉嘉輝;朱雷;華佑南;李曉旻 | 申請（專利權）人： | 勝科納米（蘇州）股份有限公司 |
| 主分類號： | G01N1/28 | 分類號： | G01N1/28;G01N1/36;G01N27/62 |
| 代理公司： | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人： | 邊人洲 |
| 地址： | 215123 江蘇省蘇州市工業園*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 動態 二次 離子 質譜儀 樣品 制備 方法 及其 | ||
1.一種用于動態二次離子質譜儀的樣品的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
將邊長或直徑小于等于2mm的樣品的待測面朝下放置在平整的載體上，所述載體的熔點高于250℃；
在所述樣品的兩側放置固定片，所述固定片的一面與所述載體的上表面貼合，所述固定片具有導電性且熔點高于250℃；
沿所述固定片和所述樣品的外圍放置阻擋物，所述阻擋物的底面與所述載體的上表面貼合；
在所述阻擋物內的載體上加入液體鑲埋材料，至所述鑲埋材料凝固；
取出得到兩側連接有固定片的樣品；
研磨所述兩側連接有固定片的樣品的側面和背面以去除鑲埋材料；
去除鑲埋材料后的兩側連接有固定片的樣品的待測面鍍金屬層。
2.根據權利要求1所述的用于動態二次離子質譜儀的樣品的制備方法，其特征在于，所述樣品的厚度小于8mm，不大于2mm。
3.根據權利要求1所述的用于動態二次離子質譜儀的樣品的制備方法，其特征在于，所述固定片的邊長范圍在2mm至10mm，所述固定片的厚度與所述樣品的厚度之差不超過2mm。
4.根據權利要求3所述的用于動態二次離子質譜儀的樣品的制備方法，其特征在于，所述阻擋物圍起的形狀為長方形、正方形、五邊形、六邊形、八邊形、圓形和橢圓形中的任一種。
5.根據權利要求1所述的用于動態二次離子質譜儀的樣品的制備方法，其特征在于，所述載體為載玻片。
6.根據權利要求1所述的用于動態二次離子質譜儀的樣品的制備方法，其特征在于，所述固定片在使用前其中一面拋光，并且拋光面與載體的上表面貼合。
7.根據權利要求6所述的用于動態二次離子質譜儀的樣品的制備方法，其特征在于，所述固定片為硅片或金屬片。
8.權利要求1-7任一項所述的用于動態二次離子質譜儀的樣品的制備方法制得的用于動態二次離子質譜儀的樣品。
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