[發明專利]圖像處理方法及裝置、電子設備和存儲介質在審
| 申請號: | 202010055513.8 | 申請日: | 2020-01-17 |
| 公開(公告)號: | CN111275641A | 公開(公告)日: | 2020-06-12 |
| 發明(設計)人: | 葉鑫;王昊然;王甜甜;嚴瓊 | 申請(專利權)人: | 深圳市商湯科技有限公司 |
| 主分類號: | G06T5/00 | 分類號: | G06T5/00;G06T7/90 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇 |
| 地址: | 518054 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 圖像 處理 方法 裝置 電子設備 存儲 介質 | ||
1.一種圖像處理方法,其特征在于,包括:
對待處理圖像進行去光暈處理,得到去光暈圖像及光暈圖像;
根據所述光暈圖像及所述去光暈圖像,得到所述待處理圖像的光暈占比圖;
根據所述光暈占比圖對所述待處理圖像進行飽和度調整,得到目標圖像;
根據所述目標圖像及所述去光暈圖像,得到調整后的去光暈圖像。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述調整后的去光暈圖像中任一像素點的至少兩個色彩通道對應的像素值之間的比值,與所述目標圖像中所述像素點的至少兩個個色彩通道對應的像素值之間的比值相同;
所述調整后的去光暈圖像中所述像素點的至少兩個個色彩通道對應的像素值的和,與所述去光暈圖像中所述像素點的至少兩個個色彩通道對應的像素值的和相同。
3.根據權利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述對待處理圖像進行去光暈處理,得到去光暈圖像及光暈圖像,包括:
對所述待處理圖像進行去光暈處理,得到去光暈圖像;
針對所述待處理圖像中任一位置對應的像素點,所述待處理圖像中所述像素點的至少兩個色彩通道對應的像素值,分別與所述去光暈圖像中相同位置對應的像素點的至少兩個色彩通道對應的像素值相減,得到所述光暈圖像。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的方法,其特征在于,所述根據所述光暈圖像及所述去光暈圖像,得到所述待處理圖像的光暈占比圖,包括:
針對所述光暈圖像中任一位置對應的像素點,對所述光暈圖像中所述像素點的至少兩個色彩通道對應的像素值求和,得到第一數值,及對所述去光暈圖像中相同位置對應的所述像素點的至少兩個色彩通道對應的像素值求和,得到第二數值;
將所述第一數值及所述第二數值的比值確定為所述光暈占比;
根據各個像素點對應的光暈占比,得到光暈占比圖。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的方法,其特征在于,所述根據所述光暈占比圖對所述待處理圖像進行飽和度調整,得到目標圖像,包括:
針對所述待處理圖像中的任一像素點,獲取所述像素點對應的飽和度調整力度;
根據所述像素點對應的光暈占比及所述飽和度調整力度,得到所述像素點對應的色彩通道調整值;
根據所述色彩通道調整值及所述像素點的至少兩個色彩通道對應的像素值,得到目標圖像。
6.根據權利要求5所述的方法,其特征在于,所述根據所述像素點對應的光暈占比及所述飽和度調整力度,得到所述像素點對應的色彩通道調整值,包括:
根據所述待處理圖像的像素值,得到對應的掩碼圖像;
根據初始飽和度調整力度及所述像素點在所述掩碼圖像中對應的掩碼值,確定所述飽和度調整力度;
根據所述像素點對應的光暈占比、所述飽和度調整力度及所述像素點對應的色彩通道總數,確定色彩通道調整值。
7.根據權利要求6所述的方法,其特征在于,所述掩碼圖像包括亮度掩碼圖像和距離掩碼圖像中的任一種,其中,
所述亮度掩碼圖像用于標識所述待處理圖像中各像素點的像素值與中間像素值的大小關系,所述中間像素值為所述待處理圖像中像素點的像素值的上限與像素值的下限的中間值;
所述距離掩碼圖像用于標識所述待處理圖像中各像素點與高光像素點的距離關系,所述高光像素點為所述待處理圖像中任一色彩通道對應的像素值大于像素閾值的像素點。
8.一種圖像處理裝置,其特征在于,包括:
第一處理模塊,用于對待處理圖像進行去光暈處理,得到去光暈圖像及光暈圖像;
第二處理模塊,用于根據所述光暈圖像及所述去光暈圖像,得到所述待處理圖像的光暈占比圖;
調整模塊,用于根據所述光暈占比圖對所述待處理圖像進行飽和度調整,得到目標圖像;
第三處理模塊,用于根據所述目標圖像及所述去光暈圖像,得到調整后的去光暈圖像。
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