[發明專利]銅離子濃度監控方法

有效

• 申請號: 202010054568.7
• 申請日: 2020-01-17
• 公開（公告）號: CN113138215B
• 公開（公告）日: 2023-10-03
• 發明（設計）人: 鄭文鋒;許吉昌;孫尚培;許宏瑋
• 申請（專利權）人: 先豐通訊股份有限公司
• 主分類號: G01N27/28
• 分類號: G01N27/28;G01N27/30;G01N27/416
• 代理公司: 北京申翔知識產權代理有限公司 11214
• 代理人: 趙夢雯;艾晶

1.一種銅離子濃度監控方法，其特征在于，其包括以下步驟：

提供一含有銅離子的待測溶液；

提供一監控裝置；

于一特定電位區間內，借由該監控裝置測定該待測溶液的一循環伏安曲線，該循環伏安曲線具有一峰電流值；

提供復數組濃度已知的銅離子標準溶液，于該特定電位區間，借由該監控裝置測定該復數組標準溶液的循環伏安曲線，每一濃度的標準溶液的循環伏安曲線具有一峰電流值，以該復數組標準溶液的銅離子濃度值及其相對應的循環伏安曲線的峰電流值確定一線性方程式，該線性方程式為Y＝AX+B，其中Y表示該峰電流值，A表示該線性方程式的斜率，X表示銅離子濃度，B表示該線性方程式的截距；以及

以該線性方程式及該待測溶液的循環伏安曲線的峰電流值，確定該待測溶液的銅離子濃度。

2.如權利要求1所述的銅離子濃度監控方法，其特征在于，該監控裝置具有一容置槽，該容置槽配置有一流入口及一流出口，并有一工作電極、一輔助電極、一參考電極、一安培計及一伏特計配置于該容置槽內，該伏特計連接于該工作電極與該參考電極之間，且另有相連接的供電單元以及控制單元，該供電單元與該工作電極以及該輔助電極電性連接，該安培計則連接于該輔助電極與該供電單元之間。

3.如權利要求2所述的銅離子濃度監控方法，其特征在于，該工作電極以及該輔助電極為鉑圓環電極。

4.如權利要求2所述的銅離子濃度監控方法，其特征在于，該參考電極為飽和甘汞電極。

5.如權利要求2所述的銅離子濃度監控方法，其特征在于，該容置槽內設有至少一隔板。

6.如權利要求1至4任一所述的銅離子濃度監控方法，其特征在于，該特定電位區間為0.1伏特～0.9伏特。

7.如權利要求1至4任一所述的銅離子濃度監控方法，其特征在于，該監控裝置配置于一蝕刻槽，以連續方式對該蝕刻槽內的待測溶液進行監控。

8.如權利要求1至4任一所述的銅離子濃度監控方法，其特征在于，該線性方程式中A值為54.019，B值為-0.4159。