[發明專利]一種復雜環境用水基清洗劑及清洗方法

有效

• 申請號: 202010054303.7
• 申請日: 2020-01-17
• 公開（公告）號: CN111040893B
• 公開（公告）日: 2021-09-21
• 發明（設計）人: 甘貴生;曹華東;劉歆;江兆琪;陳仕琦;許乾柱
• 申請（專利權）人: 重慶理工大學
• 主分類號: C11D1/83
• 分類號: C11D1/83;C11D3/60;C11D3/04;C11D3/28;C11D3/37;C11D11/00
• 代理公司: 重慶博凱知識產權代理有限公司 50212
• 代理人: 李曉兵

1.一種復雜環境下用于去除電子元件表面助焊劑殘留的水基清洗劑，其特征在于，由以下重量百分比的原料制成：表面活性劑：3%~12%；緩蝕劑：0.01%~0.25%；消泡劑：0.1%~0.3%；余量為去離子水，各成分重量百分比之和為100%；

所述表面活性劑為非離子表面活性劑和陰離子表面活性劑復配而成，其中，非離子表面活性劑的重量百分比不小于所述表面活性劑總量的30%，陰離子表面活性劑的重量百分比不大于所述表面活性劑總量的70%；所述非離子表面活性劑占所述水基清洗劑總量的質量百分比為1%~10%，所述陰離子表面活性劑占所述水基清洗劑總量的質量百分比為1%~10%；

所述非離子表面活性劑為椰子油脂肪酸二乙酰胺、聚山梨酸酯60、三羥乙基胺、失水山梨醇單油酸酯、烷基酚聚氧乙烯醚類表面活性劑混合物；所述陰離子表面活性劑為十二烷基二苯醚磺酸鈉鹽；所述緩蝕劑為鉬酸鈉、苯并三氮唑混合物；所述消泡劑為聚醚類無硅消泡劑；所述清洗劑的PH值為8.5~12.0，所述復雜環境指高溫、高酸性環境。