[發(fā)明專利]一種糾正鹵素檢漏儀數(shù)據(jù)偏差的裝置、系統(tǒng)及方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010053641.9 | 申請日: | 2020-01-17 |
| 公開(公告)號: | CN111089684A | 公開(公告)日: | 2020-05-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 金學(xué)江 | 申請(專利權(quán))人: | 上海科石科技發(fā)展有限公司 |
| 主分類號: | G01M3/20 | 分類號: | G01M3/20 |
| 代理公司: | 上海碩力知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31251 | 代理人: | 董磊 |
| 地址: | 201315 上海市浦東*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 糾正 鹵素 檢漏 數(shù)據(jù) 偏差 裝置 系統(tǒng) 方法 | ||
本發(fā)明涉及氣體檢漏儀技術(shù)領(lǐng)域,公開了一種糾正鹵素檢漏儀數(shù)據(jù)偏差的裝置、系統(tǒng)及方法。所述鹵素檢漏儀采用高頻磁場低壓電離原理,糾正鹵素檢漏儀數(shù)據(jù)偏差的裝置包括:殼體,所述殼體設(shè)有用于氣體流通的腔室,所述腔室的出氣口用于與所述鹵素檢漏儀連接;除濕組件,用于去除進(jìn)入所述腔室的鹵素氣體中的水分。通過在鹵素檢漏儀的前端設(shè)置糾正鹵素檢漏儀數(shù)據(jù)偏差的裝置,對進(jìn)入鹵素檢漏儀中的氣體進(jìn)行去水分,以解決鹵素檢漏儀數(shù)據(jù)產(chǎn)生偏差的問題。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及氣體檢漏儀技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種糾正鹵素檢漏儀數(shù)據(jù)偏差的裝置、系統(tǒng)及方法。
背景技術(shù)
鹵族元素指周期系ⅦA族元素。包括氟(F)、氯(Cl)、溴(Br)、碘(I)、砹(At),簡稱鹵素。它們在自然界都以典型的鹽類存在,是成鹽元素。鹵族元素的單質(zhì)都是雙原子分子,它們的物理性質(zhì)的改變都是很有規(guī)律的,隨著分子量的增大,鹵素分子間的色散力逐漸增強(qiáng),顏色變深,它們的熔點(diǎn)、沸點(diǎn)、密度、原子體積也依次遞增。
鹵素氣體檢漏儀是廣泛用于化工、制冷、高壓電氣等涉及鹵素氣體生產(chǎn)及使用相關(guān)行業(yè)的分析儀器。由于檢測對象的化學(xué)特性,此類儀器多用于檢漏、泄漏報警和安全防護(hù),因此其計量性能指標(biāo)尤為重要。
但是現(xiàn)有的采用高頻磁場低壓電離原理的鹵素檢漏儀在不同的環(huán)境中采集的數(shù)據(jù)會產(chǎn)生偏差,因此,亟需設(shè)計一種糾正鹵素檢漏儀數(shù)據(jù)偏差的裝置。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供了一種糾正鹵素檢漏儀數(shù)據(jù)偏差的裝置、系統(tǒng)及方法,通過在鹵素檢漏儀的前端設(shè)置糾正鹵素檢漏儀數(shù)據(jù)偏差的裝置,對進(jìn)入鹵素檢漏儀中的氣體進(jìn)行去水分,以解決鹵素檢漏儀由于自然環(huán)境中濕度差異數(shù)據(jù)產(chǎn)生偏差的問題。
本發(fā)明提供的技術(shù)方案如下:
一種糾正鹵素檢漏儀數(shù)據(jù)偏差的裝置,所述鹵素檢漏儀采用高頻磁場低壓電離原理,包括:
殼體,所述殼體設(shè)有用于氣體流通的腔室,所述腔室的出氣口用于與所述鹵素檢漏儀連接;
除濕組件,用于去除進(jìn)入所述腔室的鹵素氣體中的水分。
本技術(shù)方案中,發(fā)明人發(fā)現(xiàn),高頻磁場低壓電離原理的檢漏儀產(chǎn)品在使用過程中,受水分影響較大,水分高低影響電離產(chǎn)生的電壓值。例如:在無氟類氣體的自然環(huán)境下60%濕度時,鹵素檢漏儀產(chǎn)生電壓值為0.30V,而在干燥氮?dú)猸h(huán)境下(國標(biāo)氮?dú)?,相同的鹵素檢漏儀產(chǎn)生的電壓值為0.14V。設(shè)備的實(shí)際應(yīng)用環(huán)境一般均為自然環(huán)境,而自然環(huán)境的水分也是不穩(wěn)定的,隨時變化的。所以假定在60%濕度環(huán)境下校驗(yàn)的鹵素檢漏儀,嚴(yán)格來講,隨著水分的變化必須隨時進(jìn)行基數(shù)校準(zhǔn)。作為現(xiàn)場使用的檢漏工具,使用環(huán)境的水分是一直處于變化和沒有規(guī)律的,不可能有水分穩(wěn)定的環(huán)境。就此可見,電離產(chǎn)生的電壓值信號作為獲得的檢測氟類氣體濃度原始數(shù)據(jù),該電壓值在氟類氣體濃度未變化的情況下隨濕度變化而變化。
由此,發(fā)明人認(rèn)為對于這樣的鹵素檢漏儀可以研究水分對于鹵素檢漏儀的影響程度而加以數(shù)據(jù)處理。經(jīng)研究發(fā)現(xiàn),在不同的鹵素類氣體濃度下,濕度對于鹵素檢漏儀產(chǎn)生的電壓值的影響是不一致的,無法在程序上做一維的數(shù)據(jù)處理。所以無法使用數(shù)據(jù)處理的方法來解決鹵素檢漏儀受水分影響產(chǎn)生偏差的問題。
通過設(shè)置一種糾正鹵素檢漏儀數(shù)據(jù)偏差的裝置對進(jìn)入鹵素檢漏儀中的氣體進(jìn)行水分去除,同時,該裝置不能阻礙鹵素類氣體的進(jìn)出,對鹵素類氣體不能有黏附,不能影響鹵素檢漏儀中響應(yīng)時間和恢復(fù)時間的技術(shù)參數(shù),從而解決鹵素檢漏儀受水分影響產(chǎn)生偏差的問題。
優(yōu)選地,所述除濕組件為干燥劑,所述干燥劑設(shè)置在所述腔室內(nèi)。
本技術(shù)方案中,帶水分的鹵素類氣體在經(jīng)過該中空的殼體時,水分被殼體內(nèi)部的干燥劑吸收,達(dá)到干燥氣體的目的,此裝置使同濃度鹵素類氣體在鹵素檢漏儀產(chǎn)生的電壓值成為確定值,也就是唯一的濃度值,水分對于鹵素檢漏儀電壓值的影響被排除。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海科石科技發(fā)展有限公司,未經(jīng)上海科石科技發(fā)展有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010053641.9/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 數(shù)據(jù)顯示系統(tǒng)、數(shù)據(jù)中繼設(shè)備、數(shù)據(jù)中繼方法、數(shù)據(jù)系統(tǒng)、接收設(shè)備和數(shù)據(jù)讀取方法
- 數(shù)據(jù)記錄方法、數(shù)據(jù)記錄裝置、數(shù)據(jù)記錄媒體、數(shù)據(jù)重播方法和數(shù)據(jù)重播裝置
- 數(shù)據(jù)發(fā)送方法、數(shù)據(jù)發(fā)送系統(tǒng)、數(shù)據(jù)發(fā)送裝置以及數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)
- 數(shù)據(jù)顯示系統(tǒng)、數(shù)據(jù)中繼設(shè)備、數(shù)據(jù)中繼方法及數(shù)據(jù)系統(tǒng)
- 數(shù)據(jù)嵌入裝置、數(shù)據(jù)嵌入方法、數(shù)據(jù)提取裝置及數(shù)據(jù)提取方法
- 數(shù)據(jù)管理裝置、數(shù)據(jù)編輯裝置、數(shù)據(jù)閱覽裝置、數(shù)據(jù)管理方法、數(shù)據(jù)編輯方法以及數(shù)據(jù)閱覽方法
- 數(shù)據(jù)發(fā)送和數(shù)據(jù)接收設(shè)備、數(shù)據(jù)發(fā)送和數(shù)據(jù)接收方法
- 數(shù)據(jù)發(fā)送裝置、數(shù)據(jù)接收裝置、數(shù)據(jù)收發(fā)系統(tǒng)、數(shù)據(jù)發(fā)送方法、數(shù)據(jù)接收方法和數(shù)據(jù)收發(fā)方法
- 數(shù)據(jù)發(fā)送方法、數(shù)據(jù)再現(xiàn)方法、數(shù)據(jù)發(fā)送裝置及數(shù)據(jù)再現(xiàn)裝置
- 數(shù)據(jù)發(fā)送方法、數(shù)據(jù)再現(xiàn)方法、數(shù)據(jù)發(fā)送裝置及數(shù)據(jù)再現(xiàn)裝置





