[發(fā)明專利]一種全無機P/N異質(zhì)結(jié)硒化銻/鈣鈦礦太陽能電池及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010053001.8 | 申請日: | 2020-01-17 |
| 公開(公告)號: | CN111244220B | 公開(公告)日: | 2021-10-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 尹龍衛(wèi);付琳 | 申請(專利權(quán))人: | 山東大學(xué) |
| 主分類號: | H01L31/072 | 分類號: | H01L31/072;H01L31/0216;H01L31/18 |
| 代理公司: | 濟南金迪知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 37219 | 代理人: | 韓獻(xiàn)龍 |
| 地址: | 250199 山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 無機 異質(zhì)結(jié)硒化銻 鈣鈦礦 太陽能電池 及其 制備 方法 | ||
1.一種全無機P/N異質(zhì)結(jié)硒化銻/鈣鈦礦太陽能電池,其特征在于,包括從下至上依次排列的FTO導(dǎo)電玻璃基底、二氧化鈦(TiO2)層、無機CsPbBrI2鈣鈦礦層、硒化處理的Sb2Se3層以及金屬對電極層;
所述FTO導(dǎo)電玻璃基底的厚度為140-160nm;所述二氧化鈦層的厚度為20-30nm;所述金屬對電極為銀對電極或金對電極;所述金屬對電極層的厚度為40-60nm;所述無機CsPbBrI2鈣鈦礦層的厚度為240-260nm,所述無機CsPbBrI2鈣鈦礦為n型半導(dǎo)體;
所述硒化處理的Sb2Se3層是厚度為140-160nm的Sb2Se3層上沉積厚度為10-20nm的Se層,然后經(jīng)退火處理制備得到;具體制備方法如下:在真空度小于1*10-4Pa下,以5-15℃/min的升溫速率升溫至120℃,固體粉末Se蒸發(fā)并沉積在Sb2Se3層上,得到Se層,經(jīng)惰性氣氛中、250-350℃退火處理10-20min即得硒化處理的Sb2Se3層;
無機CsPbBrI2鈣鈦礦層和硒化處理的Sb2Se3層形成異質(zhì)結(jié),異質(zhì)結(jié)的相對能帶位置為二型異質(zhì)結(jié)(type-2);所述硒化處理的Sb2Se3層的厚度為150-180nm;硒化處理的Sb2Se3為p型半導(dǎo)體。
2.如權(quán)利要求1所述全無機P/N異質(zhì)結(jié)硒化銻/鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,包括步驟:
(1)FTO導(dǎo)電玻璃經(jīng)刻蝕、洗滌、干燥、紫外臭氧處理制備得到FTO導(dǎo)電玻璃基底;
(2)將鈦異丙醇、稀鹽酸和無水乙醇混合均勻得到二氧化鈦前驅(qū)體溶液;然后旋涂在FTO導(dǎo)電玻璃基底上,經(jīng)干燥、高溫退火處理得到二氧化鈦層;
(3)以CsBr和PbI2為原料,采用旋涂法或真空熱蒸發(fā)法,然后經(jīng)退火處理得到無機CsPbBrI2鈣鈦礦層;
(4)采用真空熱蒸發(fā)法將Sb2Se3沉積在無機CsPbBrI2鈣鈦礦層上,得到Sb2Se3層;然后采用真空熱蒸發(fā)法將Se沉積在Sb2Se3層上,得到Se層,經(jīng)退火處理即得硒化處理的Sb2Se3層;最后采用真空熱蒸發(fā)法將金屬對電極沉積在硒化處理的Sb2Se3層上得到金屬對電極層,即得到全無機P/N異質(zhì)結(jié)硒化銻/鈣鈦礦太陽能電池。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述全無機P/N異質(zhì)結(jié)硒化銻/鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,其特征在于,步驟(2)中,包括以下條件中的一項或多項:
a、鈦異丙醇、稀鹽酸和無水乙醇的體積比為0.1-0.2:0.01-0.03:1;所述稀鹽酸的摩爾濃度為1-3mol/L;
b、所述旋涂是使用勻膠機將二氧化鈦前驅(qū)體溶液旋涂在FTO導(dǎo)電玻璃基底上,旋涂轉(zhuǎn)速為1500-2500rpm,旋涂時間為20-40秒;
c、干燥溫度為80-120℃,干燥時間為5-15分鐘;高溫退化處理是于空氣中,400-600℃處理20-40分鐘。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
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