[發明專利]磁頭以及具備磁頭的盤裝置有效
| 申請號: | 202010050037.0 | 申請日: | 2020-01-17 |
| 公開(公告)號: | CN112466339B | 公開(公告)日: | 2022-03-01 |
| 發明(設計)人: | 渡邊徹;山根正巳;小泉岳 | 申請(專利權)人: | 株式會社東芝;東芝電子元件及存儲裝置株式會社 |
| 主分類號: | G11B5/11 | 分類號: | G11B5/11;G11B5/187;G11B5/60 |
| 代理公司: | 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人: | 李今子 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 磁頭 以及 具備 裝置 | ||
公開磁頭及具備磁頭的盤裝置。磁頭具備滑塊、記錄頭及讀取頭、第1熱致動器及第2熱致動器。記錄頭具備具有從空氣支撐面突出的頂端部的主磁極和具有從空氣支撐面突出的頂端部且與主磁極的頂端部的后側隔開寫入空隙而相向的第1屏蔽部。第1屏蔽部的頂端部具備具有與主磁極的頂端部隔開寫入空隙而相向的第1屏蔽部邊緣和相對第1屏蔽部邊緣離開而位于后端側的第2屏蔽部邊緣的頂端面,主磁極的頂端部從頂端面突出地設置。在將主磁極的頂端部與第2屏蔽部邊緣之間的長度設為L1、將主磁極的頂端部的突出量設為h2、將磁頭的浮起俯仰角設為D1、將記錄頭的突出俯仰角設為D2(包括零)的情況下,記錄頭滿足L1≧h2/(D1+D2)的關系。
關聯申請
本申請享受以日本專利申請2019-163226號(申請日:2019年9月6日)為基礎申請的優先權。本申請通過參照該基礎申請而包含基礎申請的所有內容。
技術領域
本發明的實施方式涉及磁頭以及具備磁頭的盤裝置。
背景技術
作為盤裝置,例如,磁盤裝置具備具有磁記錄層的旋轉自如的盤狀的記錄介質和針對記錄介質的磁記錄層進行數據的記錄、再現的磁頭。磁頭具有滑塊和設置于滑塊的再現頭以及記錄頭。在這樣的磁盤裝置中,為了提高記錄密度,特別是線記錄密度,需要減小再現頭、記錄頭與磁盤之間的間隙。
為了降低上述間隙,提出了在再現頭以及記錄頭的附近具備埋入于滑塊的熱致動器的磁盤裝置。根據該磁盤裝置,利用熱致動器使滑塊的一部分、再現頭以及記錄頭向記錄介質的表面側膨出,從而能夠降低上述間隙。
在上述磁盤裝置中,在將上述間隙設定為預定的間隙時,通過熱致動器使再現頭以及記錄頭的突出量增加,臨時接觸到記錄介質,以該接觸時的突出量為基準,以使與記錄介質的間隙成為期望的間隙的方式控制熱致動器。然而,在如上所述使磁頭接觸到記錄介質的情況下,根據磁頭的形狀,存在記錄頭的主磁極部接觸到記錄介質而主磁極部磨損等受到損傷的可能性。
發明內容
本發明的實施方式提供防止磁極部的損傷且可靠性提高的磁頭、以及具備磁頭的盤裝置。
實施方式提供一種磁頭,具備:滑塊,具備具有后端及前端的空氣支撐面;記錄頭,設置于所述滑塊,所述記錄頭具備具有從所述空氣支撐面突出的頂端部且產生記錄磁場的主磁極和具有從所述空氣支撐面突出的頂端部且與所述主磁極的頂端部的后側隔開寫入空隙而相向的第1屏蔽部;讀取頭,設置于所述滑塊且相對所述記錄頭位于所述前端側;第1熱致動器,設置于所述滑塊且控制所述記錄頭的突出量;以及第2熱致動器,設置于所述滑塊且控制所述讀取頭的突出量。所述第1屏蔽部的頂端部具備具有與所述主磁極的頂端部隔開寫入空隙而相向的第1屏蔽部邊緣和相對所述第1屏蔽部邊緣離開而位于所述后端側的第2屏蔽部邊緣的頂端面,所述主磁極的頂端部從所述頂端面突出地設置。在將所述主磁極的頂端部與所述第2屏蔽部邊緣之間的長度設為L1、將所述主磁極的頂端部從所述頂端面的突出量設為h2、將該磁頭的浮起俯仰角設為D1、將所述記錄頭的突出俯仰角設為D2(包括零)的情況下,所述記錄頭滿足L1≥h2/(D1+D2)的關系。
附圖說明
圖1是概略地示出第1實施方式所涉及的硬盤驅動器(HDD)的框圖。
圖2是概略地示出所述HDD中的磁頭、懸架、磁盤的側面圖。
圖3是將所述磁頭的頭部放大而示出的剖面圖。
圖4是將記錄頭的頂端部放大而示出的剖面圖。
圖5是所述記錄頭的頂端部的側面圖。
圖6是從ABS側觀察所述記錄頭的俯視圖。
圖7是示意地示出所述頭部的側面圖。
圖8是概略地示出通過熱致動器使記錄頭部分突出的狀態的所述頭部的側面圖。
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