[發明專利]一種混合法制備ITO造粒粉體的方法在審
| 申請號: | 202010048933.3 | 申請日: | 2020-01-16 |
| 公開(公告)號: | CN111138202A | 公開(公告)日: | 2020-05-12 |
| 發明(設計)人: | 史海月;陳志強;郭朋;馬闖 | 申請(專利權)人: | 洛陽晶聯光電材料有限責任公司 |
| 主分類號: | C04B35/626 | 分類號: | C04B35/626;C04B35/453 |
| 代理公司: | 柳州市榮久專利商標事務所(普通合伙) 45113 | 代理人: | 韋微 |
| 地址: | 471100 河南省洛陽市洛陽空港*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 混合法 制備 ito 造粒粉體 方法 | ||
本發明涉及一種混合法制備ITO造粒粉體的方法,包括以下步驟:(1)稱取氧化銦和氧化錫粉體備用;(2)分散劑和粘結劑溶于去離子水中;(3)將氧化銦和氧化錫粉體分散于步驟(2)的溶液中,(4)將漿料放入超聲波儀器中進行預分散,得到待研磨漿料;(5)將待研磨漿料置于球磨機中進行研磨;(6)往漿料中加入消泡劑,攪拌進行消泡;(7)將混合漿料進行噴霧干燥,得到ITO造粒粉。該方法將所有物料和添加劑(分散劑、粘結劑)同時加入,超聲與攪拌共同作用將漿料預分散后,再投入研磨機進行砂磨,既能利用機械混合法獲得靶材的晶粒尺寸小且均勻的優點,又解決了混合法制備ITO粒時存在的良好成分均勻性和高活性難以兼得的問題。
技術領域
本發明屬于氧化銦錫復合粉體制備技術領域,涉及一種混粉法制備ITO造粒粉體的方法,特別涉及一種高均勻性、高活性的ITO造粒粉體的制備方法。
背景技術
ITO靶材是制備ITO導電玻璃的重要原料,通常是采用磁控濺射的方法將ITO靶材制備成ITO薄膜,其性能是決定導電玻璃產品質量、生產效率、成品率的關鍵因素。ITO造粒粉體的品質是決定ITO靶材性能高低的重要因素,要求ITO造粒粉體純度高、活性好、均勻一致。
制備ITO粉末的主要方法有機械混合法、噴霧熱分解法、溶膠凝膠法、水熱合成法、共沉淀法等。目前在工業上應用的主要是共沉淀法和機械混合法,國內廠家多采用前者,日韓等企業多采用后者。
化學共沉淀法是以金屬或金屬鹽為原料,制備混合鹽溶液,利用氨水或者NaOH等作為沉淀劑,將金屬鹽溶液水解,得到氫氧化物沉淀,經過洗滌去除雜質離子,在高于氫氧化物分解溫度的溫度下進行煅燒,制得氧化銦錫粉體。將該粉體、適量的添加劑、去離子水或有機溶劑混合形成漿料在球磨機中進行球磨,再經過噴霧干燥即得到ITO造粒粉體。該工藝可得到銦錫分布均勻的造粒粉,但是該工藝外加沉淀劑,導致顆粒粒徑不均一,影響粉體的燒結活性,難以制備出超高密度靶材,所得靶材晶粒尺寸較大。
機械混合法是將氧化銦、氧化錫按質量比90:10配好后在球磨機容器中混合,再加入適量的添加劑、去離子水或有機溶劑形成漿料,并進行長時間機械球磨后,經過噴霧干燥即得到ITO造粒粉體。該方法在世界上是較為普遍,所得粉體燒結活性高,晶粒尺寸小且均勻,適用于高端TFT領域,但也存在著一定的問題:由于是機械混合,所以氧化銦和氧化錫的混合均勻性是一個重要考察因素,漿料中兩者的均勻性決定著靶材的均勻性,通常的做法是延長球磨時間,但是過長時間的研磨會引起分散劑失效而團聚,粉體顆粒表面由于長時間的機械摩擦而使活性降低等缺點。
中國專利201610400659.5公開了一種制備高性能ITO造粒粉的方法,其在制備過程依然是采用與現有機械混合法相同的加料順序,即先將氧化銦、氧化錫、分散劑在攪拌桶內配成漿料,然后在球磨機中研磨到一定尺寸后,再加入粘結劑研磨一段時間,噴霧干燥一次造粒后還需要加入分散劑進行高速分散,然后再通過噴霧干燥進行二次造粒,雖然在一定程度上提高了粉體活性,但是其操作復雜,需要分別在不同的物料桶中進行,要多次轉移物料,即分別需要從攪拌桶向球磨機轉移物料,從球磨機向噴霧干燥裝置轉移物料,高速分散裝置向噴霧干燥裝置轉移物料,在實際的操作中很麻煩,物料的轉移實際上會浪費不少的時間;且在不同的機器中物料一定會粘在內部很多,難以轉移干凈,造成物料浪費。
發明內容
本發明要解決的技術問題是:提供一種混合法制備ITO造粒粉體的方法,該方法將所有物料和添加劑(分散劑、粘結劑)同時加入,超聲與攪拌共同作用將漿料預分散后,再投入研磨機進行砂磨,既能利用機械混合法獲得靶材的晶粒尺寸小且均勻的優點,又解決了混合法制備ITO粒時存在的良好成分均勻性和高活性難以兼得的問題。
解決上述技術問題的技術方案是:一種混合法制備ITO造粒粉體的方法,包括以下步驟:
(1)將氧化銦粉體和氧化錫粉體按照質量比為9:1稱取備用;
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