[發(fā)明專利]一種高精度的非視距追蹤定位方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010047328.4 | 申請日: | 2020-01-16 |
| 公開(公告)號: | CN111257827B | 公開(公告)日: | 2023-07-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 楊小鳳 | 申請(專利權(quán))人: | 玉林師范學(xué)院 |
| 主分類號: | G01S5/02 | 分類號: | G01S5/02 |
| 代理公司: | 廣州海心聯(lián)合專利代理事務(wù)所(普通合伙) 44295 | 代理人: | 王洪娟 |
| 地址: | 537000 廣西*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 高精度 視距 追蹤 定位 方法 | ||
1.一種高精度的非視距追蹤定位方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1:獲取待定位節(jié)點與相應(yīng)的基站之間的距離其中1≤i≤A,A為基站數(shù)目,A≥3,t為采樣樣本序號;
S2:根據(jù)回聲狀態(tài)高斯過程ESGP對所述距離進(jìn)行計算得到所述待定位節(jié)點的坐標(biāo)和定位方差,并將所述坐標(biāo)和定位方差進(jìn)行輸出;
根據(jù)所述回聲狀態(tài)高斯過程ESGP計算所述待定位節(jié)點的坐標(biāo)和定位方差包括以下具體步驟:
S21:根據(jù)均勻分布或高斯分布隨機(jī)產(chǎn)生輸入權(quán)值矩陣WI、內(nèi)部權(quán)值矩陣W和反饋權(quán)值矩陣WF,并根據(jù)輸入權(quán)值矩陣WI、內(nèi)部權(quán)值矩陣W、反饋權(quán)值矩陣WF以及各所述距離得到輸入矢量rt,
rt=[ut;xt],
其中,xt為回聲狀態(tài)網(wǎng)絡(luò)ESN的狀態(tài)矢量,
xt=f(WIut+Wxt-1+WFyt-1),
yt為待定位節(jié)點的坐標(biāo),yt=[at?bt],初始狀態(tài)矢量x0=0;
S22:將輸入矢量rt中的一半采樣樣本作為訓(xùn)練輸入數(shù)據(jù)dt得到訓(xùn)練輸出數(shù)據(jù)另一半的采樣樣本作為測試輸入數(shù)據(jù)得到測試輸入數(shù)據(jù)Y*;
S23:根據(jù)徑向基核函數(shù)來度量訓(xùn)練輸入數(shù)據(jù)dt中任意兩個矢量之間的相關(guān)性,
根據(jù)梯度上升法來最大化邊緣對數(shù)似然函數(shù)
得到超參數(shù)θd=[σk,l]的最優(yōu)值,其中,為加性高斯白噪聲方差,I為單位矩陣;
S24:根據(jù)測試輸入數(shù)據(jù)以及根據(jù)得到所述待定位節(jié)點的坐標(biāo),根據(jù)得到所述待定位節(jié)點的定位方差,其中,dn為第n個dt。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高精度的非視距追蹤定位方法,其特征在于,在所述步驟S22中,所述dt的下標(biāo)t的取值范圍為1~N,所述的下標(biāo)t的取值范圍為1~N。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高精度的非視距追蹤定位方法,其特征在于,所述待定位節(jié)點、基站均裝備有能進(jìn)行基于波達(dá)時間測距的天線,所述待定位節(jié)點根據(jù)所述天線得到與相應(yīng)的基站之間的距離
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