[發明專利]擴散膜及結構光投影模組校正裝置

在審

• 申請號: 202010044700.6
• 申請日: 2020-01-14
• 公開（公告）號: CN111175867A
• 公開（公告）日: 2020-05-19
• 發明（設計）人: 葉永青;岑權;羅菁冬
• 申請（專利權）人: 深圳睿晟自動化技術有限公司
• 主分類號: G02B5/02
• 分類號: G02B5/02;G02B1/14
• 代理公司: 深圳中一聯合知識產權代理有限公司 44414
• 代理人: 王政

1.一種擴散膜，其特征在于：包括透明的基材層、位于所述基材層的第一面上的第一光擴散層以及位于所述基材層的與所述第一面相對的第二面上的第二光擴散層，所述第一光擴散層和所述第二光擴散層內均沿所述擴散膜的厚度方向設有多組光擴散劑顆粒組，光擴散劑顆粒組包括同一平面上的呈陣列排布的多個光擴散劑顆粒，每組所述光擴散劑顆粒組中的各所述光擴散劑顆粒間的體積差小于20％。

2.根據權利要求1所述的擴散膜，其特征在于：所述第一光擴散層和所述第二光擴散層均由固化性組合物和多個所述光擴散劑均勻固化制成，所述固化性組合物占所述第一光擴散層或所述第二光擴散層的重量的20％～40％，所述固化性組合物包括粘合劑、交聯劑、抗靜電劑以及抗紫外線樹脂，且所述粘合劑、所述交聯劑、所述抗靜電劑以及所述抗紫外線樹脂的在所述固化性組合物中的重量占比均為15％～30％。

3.根據權利要求2所述的擴散膜，其特征在于：所述第一光擴散層與所述第二光擴散層的厚度均大于80μm，且小于120μm。

4.根據權利要求2所述的擴散膜，其特征在于：所述第一光擴散層與所述第二光擴散層的透光率均為65％～68％。

5.根據權利要求2所述的擴散膜，其特征在于：所述第一光擴散層與所述第二光擴散層的霧度均為68％～72％。

6.根據權利要求1所述的擴散膜，其特征在于：所述基材層為聚對苯二甲酸乙二醇酯基材層或透明硅膠基材層。

7.根據權利要求1所述的擴散膜，其特征在于：所述擴散膜還包括分別位于所述第一光擴散層和所述第二光擴散層的外側的兩層抗刮傷層。

8.根據權利要求7所述的擴散膜，其特征在于：兩層所述抗刮傷層分別粘結于所述第一光擴散層和所述第二光擴散層上。

9.結構光投影模組校正裝置，其特征在于：包括依次設置的光源、可用于形成結構光圖案的投影光學器件、擴散膜以及投影圖案檢測系統，所述擴散膜為如權利要求1～8任一項所述的擴散膜。

10.根據權利要求9所述的結構光投影模組校正裝置，其特征在于：所述結構光投影模組校正裝置包括多個疊層設置的所述擴散膜。