[發明專利]陣列基板單元及其制備方法、陣列基板、顯示控制系統

在審

• 申請號: 202010043548.X
• 申請日: 2020-01-15
• 公開（公告）號: CN111158172A
• 公開（公告）日: 2020-05-15
• 發明（設計）人: 馮新凱;陳懷熹;李廣偉;張新彬;古克義;梁萬國
• 申請（專利權）人: 中國科學院福建物質結構研究所
• 主分類號: G02F1/03
• 分類號: G02F1/03;G02F1/035
• 代理公司: 北京元周律知識產權代理有限公司 11540
• 代理人: 校麗麗

1.一種陣列基板單元，其特征在于，包括：

襯底；

波導層，設置于所述襯底上；

電極層對，設置于所述襯底上，且所述波導層位于所述電極層對之間；

控制電路，與所述電極層對連接，用于控制電極層對之間的電壓值，以改變所述電極層對之間波導層中的光路。

2.根據權利要求1所述的陣列基板單元，其特征在于，所述波導層包括：

波導基底層；

襯底介質層，設置于所述波導基底層上；

導光介質層，覆蓋所述襯底介質層；

其中，所述導光介質層的折射率大于所述襯底介質層的折射率；

優選地，位于所述電極層對之間的波導層的數量為一個或多個。

3.根據權利要求2所述的陣列基板單元，其特征在于，所述導光介質層是通過具有輕離子注入的鈮酸鋰層經退火工藝形成的鈮酸鋰薄層。

4.根據權利要求1所述的陣列基板單元，其特征在于，所述襯底的材料選自鈮酸鋰、摻氧化鎂鈮酸鋰、鉭酸鋰、摻氧化鎂鉭酸鋰中的任一種；

所述電極層對選自金、銀、銅、鋁、鎂/銀、鋰/鋁金屬電極中的任一種；

優選地，所述電極層對是通過蒸鍍或印刷形成的金電極。

5.一種陣列基板，其特征在于，包括多個權利要求1-4任一項所述的陣列基板單元；

所述陣列基板是通過多個所述陣列基板單元排列連接形成的。

6.根據權利要求5所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板中不同的陣列基板單元具有不同的襯底；或者，

所述陣列基板中的不同的陣列基板單元位于同一襯底上。

7.一種陣列基板單元的制備方法，其特征在于，包括：

在襯底上形成波導層；

在所述襯底上形成電極層對，使所述波導層位于所述電極層對之間；

其中，所述電極層對與控制電路連接，通過控制電路調整電極層對之間的電壓值，以改變所述電極層對之間波導層中的光路。

8.根據權利要求7所述的陣列基板單元的制備方法，其特征在于，在襯底上形成波導層包括：

在所述襯底上提供波導基底層；

形成覆蓋所述波導基底層的襯底介質層和覆蓋所述襯底介質層的導光介質層；

對所述導光介質層進行構圖工藝，得到所述波導層；

其中，所述導光介質層的折射率大于所述襯底介質層的折射率。

9.一種顯示控制系統，其特征在于，所述顯示控制系統包括：

光源；

權利要求1-4任一項所述的陣列基板單元排列形成的陣列基板；

鏡頭，用于投射通過所述陣列基板的光源。

10.根據權利要求9所述的顯示控制系統，其特征在于，所述陣列基板中的任一陣列基板單元對應一個像素；

調整控制電路對陣列基板單元中的電極層對所施加的電壓值，改變所述電極層對之間波導層中光的偏轉方向，以改變所述陣列基板單元對應像素的顯示結果。