[發(fā)明專利]爆花反應(yīng)釉及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010043240.5 | 申請(qǐng)日: | 2020-01-15 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111170636A | 公開(公告)日: | 2020-05-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 潘俊云 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 醴陵市和興瓷業(yè)有限公司 |
| 主分類號(hào): | C03C8/00 | 分類號(hào): | C03C8/00;C03C8/14;C03C8/20;C04B41/89;C04B41/86 |
| 代理公司: | 深圳市千納專利代理有限公司 44218 | 代理人: | 黃良寶 |
| 地址: | 412200 湖南省*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 反應(yīng) 及其 制備 方法 | ||
1.一種爆花反應(yīng)釉,其特征在于它包括底釉和面釉;其中,
所述底釉所使用的釉料中含有的組分及各組分質(zhì)量份如下:
鉀長石:22份、碘:15份、方解石:20份、碳酸鋇:5份、氧化鋅:10份、界牌泥:15份、熔塊:38份;
所述面釉所使用的釉料中含有的組分及各組分質(zhì)量份如下:
碘:22份、方解石:20份、熔塊:12份、滑石:10份、氧化鋅:8份、貴州土:5份、硫酸鋯:15份。
2.一種如權(quán)利要求1所述的爆花反應(yīng)釉的制備方法,其特征在于方法的步驟中含有:
制備底釉漿和面釉漿;
在干凈的坯體上利用底釉漿上好底釉,再利用面釉漿上好面釉;
烘干后燒制而成;
其中,底釉漿和面釉漿的制備工藝如下:
按照各組分以及各組分質(zhì)量份備料;
備料濕法球磨后,再過篩,然后調(diào)成相應(yīng)波美度的釉漿。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于醴陵市和興瓷業(yè)有限公司,未經(jīng)醴陵市和興瓷業(yè)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010043240.5/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 一種數(shù)據(jù)庫讀寫分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測試終端的測試方法
- 一種服裝用人體測量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





