[發明專利]一種磁流變拋光裝置

有效

• 申請號: 202010041475.0
• 申請日: 2020-01-15
• 公開（公告）號: CN111168480B
• 公開（公告）日: 2021-05-07
• 發明（設計）人: 王新海;馬瑾;張永軍
• 申請（專利權）人: 陜西國防工業職業技術學院
• 主分類號: B24B1/00
• 分類號: B24B1/00;B24B57/02;B24B57/00
• 代理公司: 北京君泊知識產權代理有限公司 11496
• 代理人: 王程遠

本發明提供一種磁流變拋光裝置，包括底座，底座上通過伸縮設有工作臺，工作臺上設有旋轉承載平臺，承載平臺上設有固定件，承載平臺外圍設有支架，底座上還設有電源；支架上設有導軌、第一滑軌、第二滑軌、拋光工具和磁流變液儲存部，拋光工具包括支撐部，支撐部上設有磁流變液噴頭，磁流變液噴頭下設有拋光盤；磁流變液噴頭與磁流變液儲存部通過導料管連接；支撐部上還設有纏繞線圈的鐵芯，線圈與電源電連接。本發明裝置操作簡單方便且省時省力，拋光均勻且去除效率高；且便于檢修與拆裝；原料可回收利用，避免浪費，節約成本。

【技術領域】

本發明涉及光學元件拋光技術領域，尤其涉及一種磁流變拋光裝置。

【背景技術】

隨著科學技術的發展，現代光學系統對光學零件的表面形狀精度、表面粗糙度以及亞表面損傷程度的要求越來越高，這對光學制造技術不斷提出新的挑戰，各種先進的確定性拋光技術也不斷涌現。磁流變拋光作為一種新型的光學元件加工方法，通過磁場使拋光頭和工件表面之間的磁流變液體的流變性能發生變化，在工件表面與磁流變液接觸區域產生較大的剪切應力，從而使工件表面材料被去除。然而現有的磁流變拋光裝置存在去除效率低且去除均勻性低的問題。

【發明內容】

為了解決上述現有的磁流變拋光裝置存在去除效率低且去除均勻性低的問題，本發明提供一種磁流變拋光裝置。

一種磁流變拋光裝置，其特征在于，所述裝置包括底座，

所述底座上設有伸縮支撐桿，所述伸縮支撐桿上端設有工作臺，所述工作臺上設有能在所述工作臺上旋轉的承載平臺，所述底座上在所述承載平臺外圍固定連接有支架，所述底座上還設有電源；

所述承載平臺上活動連接有用于固定待拋光元件的固定件；

所述支架上設有導軌，所述導軌上通過滑槽連接有第一滑軌，所述第一滑軌上通過滑槽連接有第二滑軌，所述第二滑軌上固定連接有拋光工具；所述支架上端還設有支架頂，所述支架頂上設有用于盛放磁流變液的磁流變液儲存部，所述磁流變液儲存部底部設有出料口；

所述拋光工具包括支撐部，所述支撐部上設有磁流變液通道，所述磁流變液通道下端可拆卸連接有磁流變液噴頭，所述磁流變液噴頭上設有若干個噴孔，所述磁流變液噴頭下端通過螺紋可拆卸連接有拋光盤；所述磁流變液通道上端可拆卸連接有導料管，所述導料管上端與所述出料口可拆卸連接，所述導料管上還設有防止漏液的限流夾；所述支撐部上還通過螺栓I固定設有位于所述磁流變噴頭兩側的鐵芯，所述鐵芯外圍還纏繞有線圈，所述線圈與所述電源電連接。

優選的，所述底座上在所述承載平臺與所述支架之間還設有磁流變液回收池，所述磁流變液回收池底部設有坡度，所述磁流變液回收池坡度最低處設有出液口，所述出液口還設有相匹配的出液口活塞。

優選的，所述支架一側設有用于控制所述裝置工作的控制面板，所述控制面板包括用于控制所述線圈工作的第一按鍵、用于控制所述第一滑軌工作的第二按鍵和用于控制所述第二滑軌工作的第三按鍵，所述控制面板分別與所述電源、所述線圈、所述第一滑軌和所述第二滑軌電連接。

優選的，所述承載平臺與所述工作臺之間還設有轉動桿，所述轉動桿底部設有轉動塊，所述工作臺上設有與所述轉動塊相匹配的轉動槽，所述轉動桿與所述工作臺之間通過所述轉動塊和所述轉動槽活動連接，所述轉動桿上端與所述承載平臺焊接，所述轉動桿上焊接有第一齒輪，所述第一齒輪外嚙合有第二齒輪，所述第二齒輪鍵連接有第一電機，所述第一電機與所述電源電連接。

優選的，所述承載平臺兩側均設有滑槽，所述固定件下端兩側設有與所述滑槽相匹配的滑塊，所述滑塊上設有貫穿孔，所述貫穿孔內設有用于鎖緊所述固定件位置的螺桿。

優選的，所述磁流變液噴頭上設有外螺紋，所述磁流變液通道下端設有與所述外螺紋相匹配的內螺紋。