[發(fā)明專(zhuān)利]氣霧生成裝置及紅外發(fā)射器

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010041097.6
• 申請(qǐng)日: 2020-01-15
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113115996A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-07-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 嚴(yán)冬君;胡瑞龍;李文娟;武建;戚祖強(qiáng);雷寶靈;魯林海;徐中立;李永海
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 深圳市合元科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): A24F40/46
• 分類(lèi)號(hào): A24F40/46;A24F40/40
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種氣霧生成裝置，用于加熱可抽吸材料生成供吸食的氣溶膠；其特征在于，包括：

腔室，用于接收可抽吸材料；

紅外發(fā)射薄膜，被配置成向所述腔室輻射紅外線，進(jìn)而加熱可抽吸材料；

基體，被配置為對(duì)所述紅外發(fā)射薄膜進(jìn)行支撐。

2.如權(quán)利要求1所述的氣霧生成裝置，其特征在于，所述紅外發(fā)射薄膜被構(gòu)造成沿所述腔室的軸向延伸并至少部分圍繞所述腔室。

3.如權(quán)利要求1所述的氣霧生成裝置，其特征在于，所述紅外發(fā)射薄膜是電致的紅外發(fā)射薄膜。

4.如權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的氣霧生成裝置，其特征在于，所述紅外發(fā)射薄膜包括氧化鋅薄膜、摻雜稀土元素的氧化銦或氧化錫薄膜、石墨烯薄膜中的至少一種。

5.如權(quán)利要求4所述的氣霧生成裝置，其特征在于，所述紅外發(fā)射薄膜的厚度介于30～500nm。

6.如權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的氣霧生成裝置，其特征在于，所述紅外發(fā)射薄膜包括：

柔性襯底；

形成于柔性襯底上的紅外發(fā)射層。

7.如權(quán)利要求6所述的氣霧生成裝置，其特征在于，所述柔性襯底包括聚酰亞胺、柔性玻璃或陶瓷紙中的至少一種。

8.如權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的氣霧生成裝置，其特征在于，所述基體被構(gòu)造成沿所述腔室的軸向延伸并圍繞所述腔室的管狀，所述紅外發(fā)射薄膜卷繞于該基體的至少一部分外表面。

9.如權(quán)利要求8所述的氣霧生成裝置，其特征在于，還包括：

保持元件，被構(gòu)造成沿所述基體軸向延伸并至少部分圍繞所述紅外發(fā)射薄膜，并用于對(duì)紅外發(fā)射薄膜提供支撐；所述紅外發(fā)射薄膜在所述保持元件的支撐下卷繞于所述基體的外表面。

10.如權(quán)利要求9所述的氣霧生成裝置，其特征在于，所述保持元件被構(gòu)造成沿所述基體的徑向方向位于所述紅外發(fā)射薄膜外的管狀。

11.如權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的氣霧生成裝置，其特征在于，紅外發(fā)射薄膜包括：

發(fā)熱層；

形成于所述發(fā)熱層上的紅外發(fā)射層，被構(gòu)造成接收所述發(fā)熱層傳遞的熱量，并在被所述發(fā)熱層加熱時(shí)向所述腔室輻射紅外線加熱可抽吸材料。

12.如權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的氣霧生成裝置，其特征在于，所述紅外發(fā)射薄膜與所述腔室相背的表面形成有紅外反射層。

13.如權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的氣霧生成裝置，其特征在于，所述紅外發(fā)射薄膜上形成有用于為該紅外發(fā)射薄膜供電的導(dǎo)電涂層。

14.如權(quán)利要求13所述的氣霧生成裝置，其特征在于，所述紅外發(fā)射薄膜至少包括可獨(dú)立控制的第一紅外發(fā)射區(qū)域和第二紅外發(fā)射區(qū)域，以便獨(dú)立地向所述腔室輻射紅外線以加熱可抽吸材料的不同部分。

15.如權(quán)利要求13所述的氣霧生成裝置，其特征在于，所述導(dǎo)電涂層至少包括依次間隔設(shè)置的第一導(dǎo)電涂層、第二導(dǎo)電涂層和第三導(dǎo)電涂層，并將所述紅外發(fā)射薄膜分隔成位于所述第一導(dǎo)電涂層和第二導(dǎo)電涂層之間的第一紅外發(fā)射區(qū)域、以及位于所述第二導(dǎo)電涂層和第三導(dǎo)電涂層之間的第二紅外發(fā)射區(qū)域。

16.一種用于氣霧生成裝置的紅外發(fā)射器，其特征在于，包括：

基體；

紅外發(fā)射薄膜，結(jié)合于所述基體的至少一部分表面。