[發明專利]一種高透膜及其制備方法

在審

• 申請號: 202010040172.7
• 申請日: 2020-01-15
• 公開（公告）號: CN111103639A
• 公開（公告）日: 2020-05-05
• 發明（設計）人: 孔祥永;葛建峰;徐金龍;耿龍飛
• 申請（專利權）人: 湖南中天碧水膜科技有限公司
• 主分類號: G02B1/14
• 分類號: G02B1/14;G02B1/16
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種高透膜，其特征在于，包括基材層，所述基材層包含第一光學面和第二光學面，所述第一光學面上設置有高折硬化層，低折硬化層，所述第二光學面上設置有普通硬化層，所述高折硬化層的折射率為1.60-1.70，所述低折硬化層的折射率小于1.4。

2.根據權利要求1所述的高透膜，其特征在于，所述高折硬化層的厚度范圍為0.5-2μm，所述低折硬化層的厚度范圍為90-110nm。

3.根據權利要求1所述的高透膜，其特征在于，所述第二光學面上設置有普通硬化層，所述普通硬化層的厚度范圍為0.5-1.0μm。

4.根據權利要求1所述的高透膜，其特征在于，所述普通硬化層的折射率范圍為1.48-1.52。

5.根據權利要求1所述的高透膜，其特征在于，所述低折硬化層中含有中空二氧化硅粒子，所述中空二氧化硅粒子的粒徑范圍為10-100nm。

6.根據權利要求1所述的高透膜，其特征在于，所述高折硬化層與所述低折硬化層中分別含有鋰鹽結構的抗靜電劑。

7.根據權利要求1所述的高透膜，其特征在于，所述高折硬化層鉛筆硬度范圍為400-600g/H，所述低折硬化層中鉛筆硬度范圍為400-600g/H。

8.一種包含權利要求1-6任一項所述的高透膜的制備方法，其特征在于，包含以下步驟：

S1，將制備好的高折硬化液涂布基材層的第一光學面上，然后進入多節烘箱進行固化，所述烘箱溫度分別設置范圍為40-150℃，UV能量設置在300-600mJ/cm²，獲得高折硬化層；

S2，將制備好的低折硬化液涂布在所述高折硬化層遠離基材層的一側，然后進入多節烘箱進行固化，所述烘箱溫度分別設置范圍在40-150℃，UV能量設置在300-600mJ/cm²，獲得低折硬化層。

9.根據權利要求8所述的高透膜的制備方法，其特征在于，所述S1中烘箱包含5節，所述烘箱溫度由膜材進入口開始依次設置范圍為50℃-70℃，50℃-80℃，60℃-90℃，70℃-100℃，60℃-90℃，所述S2烘箱中包含5節，所述S2中烘箱溫度由膜材進入口開始依次設置范圍為50℃-70℃，50℃-80℃，80℃-100℃，90℃-120℃，80℃-100℃。