[發明專利]顯示面板及其制備方法、顯示裝置有效
| 申請號: | 202010039138.8 | 申請日: | 2020-01-14 |
| 公開(公告)號: | CN111223906B | 公開(公告)日: | 2022-09-09 |
| 發明(設計)人: | 張偉;李慧;李存智;吳欣慰;孫世成;郭鐘旭 | 申請(專利權)人: | 重慶京東方顯示技術有限公司;京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32;H01L51/56;H01L51/00 |
| 代理公司: | 北京市立方律師事務所 11330 | 代理人: | 張筱寧;宋海斌 |
| 地址: | 400714 重慶市*** | 國省代碼: | 重慶;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 面板 及其 制備 方法 顯示裝置 | ||
1.一種顯示面板的制備方法,所述顯示面板(1)包括顯示區(1a)和引腳區(1b),其特征在于,所述制備方法包括步驟:
在基板上沉積第一導電層(100);
在所述第一導電層(100)上涂覆第一光刻膠層(200),對位于所述顯示區(1a)的所述第一光刻膠層(200)圖形化并保留位于所述引腳區(1b)的第一光刻膠層(200);
對所述第一導電層(100)進行刻蝕后,去除殘余的第一光刻膠層(200);
在所述第一導電層(100)遠離所述基板的一側設置絕緣層(300),對所述絕緣層(300)圖形化;
在圖形化的所述絕緣層(300)和所述第一導電層(100)遠離所述基板的一側沉積第二導電層(400),所述第二導電層(400)覆蓋所述顯示區(1a)和所述引腳區(1b);
在所述第二導電層(400)遠離基板的一側涂覆第二光刻膠層(500),對位于所述顯示區(1a)所述第二光刻膠層(500)進行圖形化并去除位于所述引腳區(1b)的第二光刻膠層(500);
對所述第二導電層(400)進行刻蝕,露出位于所述引腳區(1b)的圖形化的所述絕緣層(300);
以位于所述引腳區(1b)的圖形化的所述絕緣層(300)為掩膜,對位于所述引腳區(1b)的第一導電層(100)進行干刻。
2.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述對所述絕緣層(300)圖形化,包括步驟:
對位于所述顯示區(1a)的所述絕緣層(300)和位于所述引腳區(1b)的所述絕緣層(300)中的至少一個采用半色調掩膜圖形化,以使位于所述引腳區(1b)的所述絕緣層(300)的厚度與對位于所述引腳區(1b)的所述第一導電層(100)進行干刻的刻程相適應。
3.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述對所述第二導電層(400)進行刻蝕,包括步驟:
采用濕刻對所述第二導電層(400)進行刻蝕。
4.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述對位于所述引腳區(1b)的第一導電層(100)進行干刻之后,還包括步驟:
去除位于所述引腳區(1b)的第一導電層(100)上殘余的所述絕緣層(300)。
5.根據權利要求4所述的制備方法,其特征在于,所述去除位于所述引腳區(1b)的第一導電層(100)上殘余的所述絕緣層(300),包括步驟:
采用灰化去除位于所述引腳區(1b)的第一導電層(100)上殘余的所述絕緣層(300)。
6.一種顯示面板(1),其特征在于,包括:采用如上述權利要求1-5中任一項所述的制備方法制備得到。
7.根據權利要求6所述的顯示面板(1),其特征在于,所述第一導電層(100)為源漏極層,所述第二導電層(400)為陽極層。
8.根據權利要求7所述的顯示面板(1),其特征在于,所述源漏極層包括疊層設置的第一鈦金屬層、鋁金屬層和第二鈦金屬層。
9.一種顯示裝置,其特征在于,包括:如上述權利要求6-8中任一項所述的顯示面板(1)。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





