[發(fā)明專利]一種基于時(shí)間干涉的深部經(jīng)顱磁線圈刺激裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010038587.0 | 申請(qǐng)日: | 2020-01-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111135465A | 公開(公告)日: | 2020-05-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 魏熙樂;黃默媛;盧梅麗;伊國(guó)勝;王江;鄧斌;于海濤;張鎮(zhèn);李會(huì)燕 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 天津大學(xué) |
| 主分類號(hào): | A61N2/04 | 分類號(hào): | A61N2/04 |
| 代理公司: | 天津市北洋有限責(zé)任專利代理事務(wù)所 12201 | 代理人: | 程毓英 |
| 地址: | 300072*** | 國(guó)省代碼: | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 時(shí)間 干涉 深部經(jīng)顱磁 線圈 刺激 裝置 | ||
1.一種基于時(shí)間干涉的深部經(jīng)顱磁線圈刺激裝置,包括兩個(gè)線圈單元和兩個(gè)高頻發(fā)生器,其特征在于,兩個(gè)線圈單元設(shè)為第I線圈單元和第II線圈單元,第I線圈單元上施加的刺激電流為電流Q1,第II線圈單元上施加的刺激電流為Q2,空間上,第I線圈單元與第II線圈單元分別位于大腦的兩側(cè),且第I線圈單元與第II線圈單元之間的夾角為θ,第I線圈單元與第II線圈單元上施加的刺激電流方向在初始時(shí)刻是相同的,且第I線圈單元與第II線圈單元上施加的刺激電流均為正弦波電流,分別為Q1=A×sin(2π×f1×t),Q2=A×sin(2π×f2×t),其中A為刺激電流的幅值,f1為第I線圈單元刺激電流的頻率,由第一高頻發(fā)生器1產(chǎn)生,f2為第II線圈單元刺激電流的頻率,由第二高頻發(fā)生器產(chǎn)生,t為刺激時(shí)刻。第I線圈單元與第II線圈單元上刺激電流的幅值相同,但頻率不同,且f1和f2均為不低于1000Hz的高頻,但f1和f2之間的差值為大腦的節(jié)律。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線圈刺激裝置,其特征在于,f1和f2均為不低于1000Hz的高頻。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線圈刺激裝置,其特征在于,在兩個(gè)線圈單元施加的電流幅值為20A,頻率f1為1kHz,f2為1.02kHz。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線圈刺激裝置,其特征在于,兩個(gè)線圈單元的內(nèi)直徑為80mm,外直徑為120mm。
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