[發明專利]一種低共熔離子液體中電沉積制備MoS2 有效
| 申請號: | 202010038029.4 | 申請日: | 2020-01-14 |
| 公開(公告)號: | CN111101180B | 公開(公告)日: | 2022-03-11 |
| 發明(設計)人: | 李作鵬;楊肖萌;秦君;郭永;馮鋒 | 申請(專利權)人: | 山西大同大學 |
| 主分類號: | C25D9/04 | 分類號: | C25D9/04;C25B1/00;C25B1/50 |
| 代理公司: | 太原晉科知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 14110 | 代理人: | 鄭晉周 |
| 地址: | 037009*** | 國省代碼: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 低共熔 離子 液體 沉積 制備 mos base sub | ||
1.一種低共熔離子液體中電沉積制備MoS2薄膜材料的方法,其特征在于:包括如下步驟:
第一步,電解液的配制:按比例分別稱量氯化膽堿與醇類或尿素,在真空干燥箱中70℃真空干燥3h后,混合均勻,再加入鉬源和硫源,混合均勻,60~80℃條件下加熱0.5~1h,形成透明液體,得到電解液;
所述鉬源和硫源包括濃度為0.005M的四硫代鉬酸銨和0.5M的氯化銨或濃度為5 mM的Na2MoO4和過量的Na2S,pH值用鹽酸調到8.0;
第二步,基底材料的處理:將1mm厚的紫銅、黃銅或不銹鋼裁剪成1cm×3cm的條形,表面處理后,備用;
第三步,取電解液于燒杯中,攪拌加熱至70~75℃后,停止攪拌,將基底材料鍍片夾在電解裝置的工作電極上,插入電解液中1~1.5cm,打開工作電壓,將電解電流控制在1~2mA/cm2,電解10~15min,關閉工作電源,將基底材料鍍片用鑷子取下,放入無水乙醇中浸泡5~10min后,取出用蒸餾水沖洗干凈即可。
2.根據權利要求1所述的一種低共熔離子液體中電沉積制備MoS2薄膜材料的方法,其特征在于:第一步中所述醇類為碳原子小于等于四的多元醇。
3.根據權利要求1所述的一種低共熔離子液體中電沉積制備MoS2薄膜材料的方法,其特征在于:第一步中所述醇類包括乙二醇、丙二醇或丙三醇。
4.根據權利要求1所述的一種低共熔離子液體中電沉積制備MoS2薄膜材料的方法,其特征在于:第一步中所述氯化膽堿的摩爾數占氯化膽堿與醇類或尿素的總摩爾數的百分比為17%~33%。
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