[發(fā)明專利]光學檢測系統(tǒng)以及光學檢測方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010037189.7 | 申請日: | 2020-01-14 |
| 公開(公告)號: | CN111157541B | 公開(公告)日: | 2023-03-14 |
| 發(fā)明(設計)人: | 季迪 | 申請(專利權)人: | 合肥維信諾科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/95 | 分類號: | G01N21/95;G01N21/01 |
| 代理公司: | 北京東方億思知識產權代理有限責任公司 11258 | 代理人: | 娜拉 |
| 地址: | 230037 安徽省合*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 檢測 系統(tǒng) 以及 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種光學檢測系統(tǒng)以及光學檢測方法,光學檢測系統(tǒng)包括:入射組件,能夠提供入射光線;光線調制裝置,設置在入射光線的傳輸光路上,光線調制裝置包括呈陣列分布的多個微反射鏡,各微反射鏡能夠反射入射光線使得入射光線照射到待測基板的表面。且光線調制裝置被配置為根據待測基板的表面形狀調制入射光線在待測基板表面的入射角度,入射光線經待測基板反射形成測試光線;以及圖像采集裝置,設置在測試光線的傳輸光路上,圖像采集裝置能夠采集測試光線并轉化成待測基板的灰度圖。本發(fā)明提供的光學檢測系統(tǒng)以及光學檢測方法,能夠提高光學檢測系統(tǒng)檢測的準確性。
技術領域
本發(fā)明涉及光學檢測技術領域,具體涉及一種光學檢測系統(tǒng)以及光學檢測方法。
背景技術
目前,在基板的制作工藝中有時會存在一些短路、斷路等不良現象。為了及時發(fā)現基板制作存在的各種不良,確保基板的質量,需要實時對基板進行檢測,以確定其中是否存在不良現象,以保證基板的正常顯示。
現有技術中,可以借助光學檢測設備對基板進行檢測,但是基板上的結構復雜,如果光學檢測設備不合理將會導致部分缺陷不能準確的檢測出。
因此,亟需提供一種光學檢測系統(tǒng)以及光學檢測方法。
發(fā)明內容
本發(fā)明提供一種光學檢測系統(tǒng)以及光學檢測方法,能夠提高光學檢測系統(tǒng)檢測的準確性。
一方面,根據本發(fā)明實施例提供一種光學檢測系統(tǒng),包括:入射組件,能夠提供入射光線;光線調制裝置,設置在入射光線的傳輸光路上,光線調制裝置包括呈陣列分布的多個微反射鏡,各微反射鏡能夠反射入射光線使得入射光線照射到待測基板的表面,且光線調制裝置被配置為根據待測基板的表面形狀調制入射光線在待測基板表面的入射角度,入射光線經待測基板反射形成測試光線;以及圖像采集裝置,設置在測試光線的傳輸光路上,圖像采集裝置能夠采集測試光線并轉化成待測基板的灰度圖。
根據本發(fā)明實施例的一個方面,光線調制裝置被配置為根據待測基板的折射率和/或反射率對微反射鏡的角度進行調整,以調整入射光線照射到待測基板上的角度和/或數量。
根據本發(fā)明實施例的一個方面,圖像采集裝置包括鏡頭以及光線傳感器,光線傳感器能夠采集穿過鏡頭的測試光線,光線調制裝置還能夠根據鏡頭的孔徑和/或光闌的尺寸對入射光線在待測基板表面的入射角度進行調制。
根據本發(fā)明實施例的一個方面,光線調制裝置被配置為通過調節(jié)各微反射鏡的偏轉角度調制入射光線在待測基板表面的入射角度。
根據本發(fā)明實施例的一個方面,入射組件包括:聚光組件,設置在入射光線的傳輸光路上的,聚光組件能夠將入射光線進行聚集并照射到光線調制裝置上。
根據本發(fā)明實施例的一個方面,入射組件還包括:勻光組件,設置在入射光線的傳輸光路上的,聚光組件、勻光組件以及光線調制裝置沿入射光線的傳輸方向上依次設置,勻光組件能夠調整入射光線的光強并將入射光線均勻地照射到光線調制裝置上。
根據本發(fā)明實施例的一個方面,入射組件包括沿入射光線的傳輸方向上依次設置的第一透鏡以及第二透鏡,第一透鏡包括相對設置的第一曲面和第二曲面,第一曲面的曲率半徑2.1±5%mm,第二曲面的曲率半徑為-18.7±5%mm,第一透鏡的厚度為13±5%mm,第一透鏡沿垂直于光軸方向的最大距離為18.5±5%mm,第二透鏡包括相對設置的第三曲面和第四曲面,第三曲面的曲率半徑為88.7±5%mm,第四曲面的曲率半徑為-88.7±5%mm,第二透鏡的厚度為6±5%mm,第二透鏡沿垂直于光軸方向的最大距離為18.5±5%mm,其中第一透鏡與第二透鏡之間的間距為22.3±5%mm;
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