[發明專利]有機發光二極管顯示面板及制備方法、顯示裝置有效
| 申請號: | 202010035826.7 | 申請日: | 2020-01-14 |
| 公開(公告)號: | CN111211245B | 公開(公告)日: | 2021-03-16 |
| 發明(設計)人: | 簡慶宏 | 申請(專利權)人: | 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/52 | 分類號: | H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570 | 代理人: | 刁文魁 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市東湖新技術*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 有機 發光二極管 顯示 面板 制備 方法 顯示裝置 | ||
1.一種有機發光二極管顯示面板的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括:
提供一襯底基板,所述襯底基板上形成有柔性薄膜層;
在所述柔性薄膜層上形成陽極層,所述陽極層上設置有通孔區,所述襯底基板背離所述通孔區的一側用于設置攝像頭,所述攝像頭在所述襯底基板上的正投影區處于所述通孔區內;
在所述通孔區內形成多個間隔設置的第一擋擋及第二擋擋,所述第一擋擋及所述第二擋擋均位于所述正投影區所在的通孔區內;
在所述陽極層上依次沉積發光層及陰極層以形成發光單元;
對所述顯示面板進行封裝。
2.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述第一擋擋和所述攝像頭光圈在所述襯底基板的所述正投影區內的位置對對,所述第二擋擋形成于所述第一擋擋所圍設的所述通孔區內。
3.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述對所述顯示面板進行封裝包括:
在所述發光單元及所述第一擋擋及所述第二擋擋上形成第一無機層,其中所述第一無機層上對對所述第一擋擋和所述第二擋擋相鄰位置處設置有凹槽;
在所述第一無機層除所述凹槽的位置上形成第一有機層;
在所述第一無機層及所述第一有機層上形成第二無機層。
4.根據權利要求3所述的制備方法,其特征在于,所述第一無機層及所述第二無機層采用化學氣相沉積的方法形成。
5.根據權利要求3所述的制備方法,其特征在于,所述第一有機層采用噴墨打印的方法形成。
6.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述在所述柔性薄膜層上形成陽極層之前進一步包括:
在所述襯底基板上依次形成有源層、柵極層以及源漏層。
7.一種有機發光二極管顯示面板,其特征在于,所述顯示面板包括:
襯底基板,所述襯底基板上形成有柔性薄膜層;
發光單元,包括陽極層、發光層以及陰極層,其中所述陽極層上設置有通孔區,所述襯底基板背離所述通孔區的一側用于設置攝像頭,所述攝像頭在所述襯底基板上的正投影區處于所述通孔區內;
第一擋擋及第二擋擋,間隔設置于所述通孔區內,且所述第一擋擋及所述第二擋擋均位于所述正投影區所在的通孔區內;
封裝層,形成于所述第一擋擋、所述第二擋擋以及所述發光單元上;所述封裝層包括:
第一無機層,形成于所述發光單元及所述第一擋擋及所述第二擋擋上,且所述第一無機層上對對所述第一擋擋和所述第二擋擋相鄰位置處設置有凹槽;
第一有機層,形成于所述第一無機層除所述凹槽的位置上;和
第二無機層,形成于所述第一無機層及所述第一有機層上。
8.根據權利要求7所述的顯示面板,其特征在于,所述第一擋擋和所述攝像頭光圈在所述襯底基板的所述正投影區內的位置對對,所述第二擋擋形成于所述第一擋擋所圍設的所述通孔區內。
9.一種顯示裝置,其特征在于,所述顯示裝置包括權利要求1-6中任一所述制備方法所制成的顯示面板或包括權利要求7-8中任一所述的顯示面板。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





