[發明專利]一種基于分塊線性重構鑒別分析的單樣本人臉識別方法有效
| 申請號: | 202010035534.3 | 申請日: | 2020-01-14 |
| 公開(公告)號: | CN111259780B | 公開(公告)日: | 2022-06-24 |
| 發明(設計)人: | 黃璞;楊章靜;陳鐳;楊國為 | 申請(專利權)人: | 南京審計大學 |
| 主分類號: | G06V40/16 | 分類號: | G06V40/16;G06V10/764;G06K9/62 |
| 代理公司: | 南京經緯專利商標代理有限公司 32200 | 代理人: | 朱小兵 |
| 地址: | 211815 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 分塊 線性 鑒別 分析 樣本 識別 方法 | ||
1.基于分塊線性重構鑒別分析的單樣本人臉識別方法,其特征在于,包括如下步驟:
步驟1、獲取人臉圖像訓練樣本集:所述人臉圖像訓練樣本集共包含N幅圖像,來自于N個不同的人,將每幅人臉圖像進行分塊,然后將分塊后的每幅圖像塊進行矩陣向量化操作,構造訓練樣本集;
步驟2、將任一圖像塊表示成k1個類內最近鄰圖像塊的線性組合,利用最小二乘法求解類內表示系數;同時,將任一圖像塊表示成k2個類間最近鄰圖像塊的線性組合,利用最小二乘法求解類間表示系數;
步驟3、計算樣本的類內重構散度與類間重構散度,并構造類內重構散布矩陣與類間重構散布矩陣;
步驟4、通過最大化類間重構散度與類內重構散度的比值求解最佳投影矩陣,并利用投影矩陣提取訓練樣本集與待識別樣本的特征;
步驟5、構造待識別人臉圖像類標的判別準則,判斷待識別人臉圖像的類標。
2.根據權利要求1所述的基于分塊線性重構鑒別分析的單樣本人臉識別方法,其特征在于,步驟1所述獲取人臉圖像訓練樣本集,具體如下:
假設有N幅來自N個不同人的人臉訓練圖像,每幅圖像的大小為w×h,將每幅人臉圖像分成M個不重疊的圖像塊,每個圖像塊的大小為p×q,且滿足w×h=M×(p×q);將每個圖像塊進行矩陣向量化操作,得到第i幅人臉圖像的第j個圖像塊訓練樣本為xij∈RD,其中D=p×q;此時,第i幅人臉圖像的圖像塊訓練樣本集可表示為Xi=[xi1,xi2,…,xiM]∈RD×M,i=1,2,…,M,總訓練樣本集可表示為X=[X1,X2,…,XN];
對于某一大小為w×h的待識別人臉圖像,同樣將其分成M個不重疊的圖像塊,每個圖像塊的大小為p×q;將每個圖像塊進行矩陣向量化操作,得到待識別樣本集Y=[y1,y2,…,yM]∈RD×M,其中yi∈RD表示待識別圖像的第j個圖像塊樣本。
3.根據權利要求1所述的基于分塊線性重構鑒別分析的單樣本人臉識別方法,其特征在于,步驟2所述將任一圖像塊表示成k1個類內最近鄰圖像塊的線性組合,利用最小二乘法求解類內表示系數,具體如下:
令xij表示第i幅人臉圖像的第j個圖像塊訓練樣本,將xij表示為其在Xi中k1個最近鄰樣本的線性組合,即:
其中表示xij在Xi中的第m個最近鄰點,為對應的重構系數,m=1,2,…,k1,為xij的k1個類內最近鄰樣本集合,為xij的類內表示系數向量;
利用最小二乘法可得的計算式為:
4.根據權利要求1所述的基于分塊線性重構鑒別分析的單樣本人臉識別方法,其特征在于,步驟2中所述將任一圖像塊表示成k2個類間最近鄰圖像塊的線性組合,利用最小二乘法求解類間表示系數,具體如下:
將xij表示成其在[X-Xi]中k2個最近鄰樣本的線性組合,即:
其中表示xij在[X-Xi]中的第n個最近鄰點,為對應的重構系數,n=1,2,…,k2,為xij的k2個類間最近鄰樣本集合,為xij的類間表示系數向量;
利用最小二乘法可得的計算式為:
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