[發明專利]一種基于噴墨融合的薄膜電極材料沉積方法

在審

• 申請號: 202010035269.9
• 申請日: 2020-01-14
• 公開（公告）號: CN111224020A
• 公開（公告）日: 2020-06-02
• 發明（設計）人: 楊小天;陸璐;沈兆偉;劉建文;閆興振;王超;趙春雷;遲耀丹;高曉紅;朱慧超;楊帆;任偉;王艷杰;岳廷峰;王冶
• 申請（專利權）人: 吉林建筑大學
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L51/48;C23C26/00
• 代理公司: 北京遠大卓悅知識產權代理事務所(普通合伙) 11369
• 代理人: 許小東

1.一種基于噴墨融合的薄膜電極材料沉積方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟1：在襯底上均勻旋轉涂覆光刻膠并干燥，光刻后，在所述襯底上獲得多組圖案化電極結構區域；

步驟2：通過壓電噴涂方法在所述圖案化電極結構區域上噴涂金屬粒子墨水，并干燥固化得到金屬電極層；

其中，噴涂金屬粒子墨水時，噴涂的針尖與所述襯底的距離小于等于45～50μm；噴涂電壓為200～230V，噴涂速度為0.8～1.3mm/s，噴涂厚度為50～70nm；

步驟3：將所述襯底置于有機溶劑中，剝離光刻膠獲得邊界整齊的薄膜電極。

2.如權利要求1所述的基于噴墨融合的薄膜電極材料沉積方法，其特征在于，所述襯底包括硬質襯底和柔性襯底；所述硬質襯底包括玻璃襯底或者硅片襯底；所述柔性襯底包括聚對苯二甲酸乙二醇酯襯底或者聚酰亞胺襯底。

3.如權利要求2所述的基于噴墨融合的薄膜電極材料沉積方法，其特征在于，當所述襯底為硬質襯底時，在襯底上旋轉涂覆光刻膠，控制轉速為290～320r/min，旋轉涂覆15～25s，轉速升至1800～2200r/min，旋轉涂覆25～35s，完成襯底上光刻膠的涂覆。

4.如權利要求3所述的基于噴墨融合的薄膜電極材料沉積方法，其特征在于，在襯底上完成光刻膠涂覆后，在60～70℃下烘干28～32min。

5.如權利要求2所述的基于噴墨融合的薄膜電極材料沉積方法，其特征在于，當所述襯底為柔性襯底時，在襯底上旋轉涂覆光刻膠，控制轉速為290～320r/min，旋轉涂覆15～25s，轉速升至2300～2600r/min，旋轉涂覆28～40s，完成襯底上光刻膠的涂覆。

6.如權利要求5所述的基于噴墨融合的薄膜電極材料沉積方法，其特征在于，在襯底上完成光刻膠涂覆后，在85～95℃下烘干4～8min。

7.如權利要求1-6中任意一項所述的基于噴墨融合的薄膜電極材料沉積方法，其特征在于，在所述步驟1中，在所述襯底上獲得多組圖案化電極結構區域包括：

在均勻旋轉涂覆光刻膠的襯底上遮蓋掩膜版，曝光15～20s，置于顯影液中顯影8～10s，在所述襯底上形成多組圖案化電極結構區域。

8.如權利要求7所述的基于噴墨融合的薄膜電極材料沉積方法，其特征在于，在所述步驟3中，將所述襯底置于有機溶劑中，超聲剝離30～35s，獲得邊界整齊的薄膜電極。

9.如權利要求8所述的基于噴墨融合的薄膜電極材料沉積方法，其特征在于，所述金屬粒子墨水為金屬銀納米粒子墨水或者金屬銅納米粒子墨水。

10.如權利要求8或9所述的基于噴墨融合的薄膜電極材料沉積方法，其特征在于，所述有機溶劑為丙酮溶液。