[發明專利]一種產生可控會聚渦旋光束的光學系統在審
| 申請號： | 202010034585.4 | 申請日： | 2020-01-14 |
| 公開（公告）號： | CN111323925A | 公開（公告）日： | 2020-06-23 |
| 發明（設計）人： | 江萍;牛野;楊華軍 | 申請（專利權）人： | 電子科技大學 |
| 主分類號： | G02B27/09 | 分類號： | G02B27/09 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 產生 可控 會聚 渦旋 光束 光學系統 | ||
【權利要求書】：
1.一種產生可控會聚渦旋光束的光學系統，其特征是利用空間光調制器加載的相位調制灰度圖等效替代了螺旋相位片、透鏡和光闌，對入射準直激光進行調制產生會聚渦旋光束；等效螺旋相位片用于產生不同拓撲荷數的渦旋光束，等效透鏡用于對會聚光束的焦距進行調節，等效光闌實現在拓撲荷數及焦距不變的情況下改變會聚處橫截面渦旋光斑的大小。
2.根據權利要求1所述的一種產生可控會聚渦旋光束的光學系統，其特征是空間光調制器加載的相位調制灰度圖中等效螺旋相位片的部分對入射光進行調制后，可以使其變為渦旋光，產生的渦旋光的拓撲荷數由等效螺旋相位片的相位變化周期決定。
3.根據權利要求1所述的一種產生可控會聚渦旋光束的光學系統，其特征是相位調制灰度圖中等效透鏡部分對產生的渦旋光束進行會聚，焦距由等效透鏡的焦距決定，會聚處的光軸截面為會聚光束的焦平面，會聚光束在焦平面處成的像為環形光斑。
4.根據權利要求1所述的一種產生可控會聚渦旋光束的光學系統，其特征是拓撲荷數和焦距不變的情況下，相位調制灰度圖中等效光闌部分發生改變后，產生的會聚光束在會聚處的光斑大小也會發生變化，光闌孔徑變小的時候，焦平面環形光斑半徑會變大，反之亦然。
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