[發明專利]光源設備、照明裝置、曝光裝置和用于制造物品的方法

在審

• 申請號: 202010034430.0
• 申請日: 2020-01-14
• 公開（公告）號: CN111503533A
• 公開（公告）日: 2020-08-07
• 發明（設計）人: 大阪昇;大枝洋一
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: F21K9/20
• 分類號: F21K9/20;F21V5/04;F21V14/06;F21V19/00;G03F7/20;F21Y115/10
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 宋巖

1.一種光源設備，所述光源設備包括其中布置有多個發光二極管LED芯片的LED陣列并且在預定平面上形成通過疊加來自所述多個LED芯片的光的光強度分布而獲得的光強度分布，所述光源設備包括：

一對透鏡陣列，所述一對透鏡陣列包括被配置為收集來自所述多個LED芯片的光的多個透鏡，

其中所述一對透鏡陣列之間的距離被改變，從而改變要在所述預定平面上形成的光強度分布。

2.如權利要求1所述的光源設備，其中所述一對透鏡陣列之間的距離被改變，從而改變要在所述預定平面上形成的光強度分布的峰值的位置。

3.如權利要求1所述的光源設備，其中所述一對透鏡陣列之間的距離被改變，從而在包括光軸的中心區域中具有峰值的第一光強度分布與在不包括光軸的外部區域中具有峰值的第二光強度分布之間改變光強度分布。

4.如權利要求1所述的光源設備，其中所述一對透鏡陣列中的位于更靠近所述LED陣列的一側上的一個透鏡陣列被移動，從而改變所述一對透鏡陣列之間的距離。

5.如權利要求1所述的光源設備，還包括被配置為移動透鏡陣列的驅動單元。

6.如權利要求1所述的光源設備，

其中透鏡陣列包括被配置為收集來自所述LED陣列的第一LED陣列的光的第一透鏡陣列以及被配置為收集來自所述LED陣列的第二LED陣列的光的第二透鏡陣列，以及

其中所述第一透鏡陣列和所述第二透鏡陣列中的至少一個是可移動的。

7.如權利要求6所述的光源設備，還包括被配置為單獨控制所述第一LED陣列的輸出和所述第二LED陣列的輸出的控制單元。

8.一種照明裝置，包括：

光源設備，所述光源設備包括其中布置有多個LED芯片的LED陣列并且在預定平面上形成通過疊加來自所述多個LED芯片的光的光強度分布而獲得的光強度分布；以及

光學系統，所述光學系統被配置為使用來自所述光源設備的光對照明目標平面進行照明，

其中所述光源設備包括一對透鏡陣列，在所述一對透鏡陣列中提供有被配置為收集來自所述多個LED芯片的光的透鏡，并且所述一對透鏡陣列之間的距離是可改變的以改變要在所述預定平面上形成的光強度分布。

9.如權利要求8所述的照明裝置，還包括被配置為改變照明模式的控制單元，其中所述光源設備的所述一對透鏡陣列之間的距離根據所述照明模式的改變而改變。

10.如權利要求8所述的照明裝置，還包括被配置為測量所述照明裝置的光瞳平面上的光瞳強度分布的測量儀器，其中所述光源設備的所述一對透鏡陣列之間的距離基于由所述測量儀器測量的光瞳強度分布而改變。

11.如權利要求8所述的照明裝置，還包括：

聚光透鏡；以及

光學積分器，

其中使用來自所述光源設備的光通過所述聚光透鏡在所述光學積分器的入射表面上形成通過疊加來自所述光源設備的所述多個LED芯片的光的光強度分布而獲得的光強度分布。

12.如權利要求11所述的照明裝置，其中所述光學積分器包括透鏡組。

13.一種對基板進行曝光的曝光裝置，所述曝光裝置包括：

如權利要求8至12中的任一項所述的照明裝置，所述照明裝置被配置為對掩模進行照明；以及

曝光單元，所述曝光單元被配置為在所述基板上對所述掩模的圖案進行曝光。

14.如權利要求13所述的曝光裝置，其中所述光源設備的所述一對透鏡陣列之間的距離基于所述圖案的成像特性而改變。

15.一種用于制造物品的方法，所述方法包括：

使用如權利要求13所述的曝光裝置來對基板進行曝光；以及

對經曝光的基板進行顯影，

其中物品是從經顯影的基板獲得的。