[發明專利]一種基于形態成分分析的椒鹽噪聲濾波方法、裝置有效
| 申請號: | 202010034233.9 | 申請日: | 2020-01-13 |
| 公開(公告)號: | CN111242137B | 公開(公告)日: | 2023-05-26 |
| 發明(設計)人: | 葉坤濤;朱寶儀;李文;殷超;李晟;樂光學 | 申請(專利權)人: | 江西理工大學 |
| 主分類號: | G06V10/30 | 分類號: | G06V10/30;G06V10/34;G06T5/00 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 蔣姍 |
| 地址: | 341000 *** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 形態 成分 分析 椒鹽 噪聲 濾波 方法 裝置 | ||
1.一種基于形態成分分析的椒鹽噪聲濾波方法,其特征在于,包括:
獲取含有椒鹽噪聲的待濾波圖像;
計算所述待濾波圖像的維度,記為[n,m];初始化一個n*m維的全1標記矩陣,作為椒鹽噪聲標記圖;
獲取以像素值為0或255的像素點為中心的預設區域,并計算所述預設區域內各像素點之間的噪聲方差;
根據所述預設區域內的各像素點之間的噪聲方差,在所述椒鹽噪聲標記圖中標記椒鹽噪聲點的位置,更新并確定所述椒鹽噪聲標記圖;
基于形態成分分析算法對已標記所述椒鹽噪聲點的所述待濾波圖像進行稀疏重構,獲得濾除所述椒鹽噪聲的紋理成分圖、平滑成分圖以及邊緣成分圖;
將所述紋理成分圖、所述平滑成分圖以及所述邊緣成分圖進行線性融合;
所述基于形態成分分析算法對已標記所述椒鹽噪聲點的所述待濾波圖像進行稀疏重構,獲得濾除所述椒鹽噪聲的紋理成分圖、平滑成分圖以及邊緣成分圖,包括:初始化所述形態成分分析算法的參數;其中,所述參數包括迭代次數、正則化參數、停止參數、步長以及閾值;初始化所述待濾波圖像中的紋理部分、平滑部分以及邊緣部分;當所述閾值大于所述步長時,進行以下迭代操作:保持所述平滑部分以及所述邊緣部分不變,計算所述紋理部分的修正值,對所述紋理部分的修正值進行局部離散平穩小波變換,對變換域系數進行軟閾值處理,通過離散平穩小波逆變換重構所述紋理部分;保持所述邊緣部分以及更新后的所述紋理部分不變,計算所述平滑部分的修正值,對所述平滑部分的修正值進行曲波變換,對所述變換域系數進行軟閾值處理,通過曲波逆變換重構邊緣部分;保持更新后的所述紋理部分以及更新后的所述紋理部分不變,計算所述邊緣部分的修正值,對所述邊緣部分的修正值進行局部離散余弦變換,對所述變換域系數進行軟閾值處理,通過局部離散余弦逆變換重構邊緣部分;更新所述閾值;直至所述閾值小于等于所述步長時,則所述紋理部分為所述紋理成分圖,所述平滑部分為所述平滑成分圖,所述邊緣部分為所述邊緣成分圖。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述獲取以像素值為0或255的像素點為中心的預設區域,并計算所述預設區域內的各像素點之間的噪聲方差,包括:
獲取以像素值為0或255的像素點為中心的3*3的區域,并計算所述3*3的區域內的所述像素點之間的噪聲方差。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述根據所述預設區域內的各像素點之間的噪聲方差,在所述椒鹽噪聲標記圖中標記椒鹽噪聲點的位置,更新并確定椒鹽噪聲標記圖,包括:
判斷所述預設區域內的各像素點之間的噪聲方差與預設閾值之間的大小;
若所述預設區域內的所述像素點之間的噪聲方差大于等于所述預設閾值,則將所述預設區域內的位于中心的像素點作為椒鹽噪聲點并作標記,更新所述椒鹽噪聲標記圖。
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