[發(fā)明專利]壓力測量裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010034118.1
• 申請日: 2017-03-24
• 公開（公告）號: CN111189564B
• 公開（公告）日: 2022-09-02
• 發(fā)明（設計）人: 陳昱翰;黃智煒;廖祈杰;王維中
• 申請（專利權）人: 原相科技股份有限公司
• 主分類號: G01L1/14
• 分類號: G01L1/14;G01L25/00;G06F3/041
• 代理公司: 深圳市世紀恒程知識產(chǎn)權代理事務所 44287
• 代理人: 胡海國

1.一種壓力測量裝置，用于連接壓力感測模塊，其特征在于，所述壓力測量裝置為所述壓力感測模塊提供掃描頻率，所述壓力感測模塊基于所述掃描頻率得到檢測值，所述壓力測量裝置根據(jù)所述掃描頻率和所述檢測值計算出壓力值；

所述壓力檢測模塊還包括：

校正值產(chǎn)生模塊，用以產(chǎn)生不同掃描 頻率下的校正值，所述校正值隨所述掃描頻率變化而變化；以及，

校正模塊，所述校正模塊包含有對應多個所述掃描頻率的多個對應函數(shù)，其中每一個對應函數(shù)對應一個所述掃描頻率，所述校正模塊根據(jù)所述掃描 頻率選擇對應的所述校正值；

所述校正模塊，還用于在接收到一特別掃描頻率時，將與所述特別掃描頻率的頻率最接近的所述掃描頻率的對應函數(shù)作為所述特別掃描頻率的對應函數(shù)，并根據(jù)最接近的所述掃描頻率選擇所述特別掃描頻率對應的所述校正值；其中，所述特別掃描頻率與所述校正模塊包含的多個所述掃描頻率的頻率均不相同；

校正模塊用以根據(jù)所述校正值校正所述壓力值。

2.如權利要求1所述的壓力測量裝置，其特征在于，所述壓力感測模塊得到的所述檢測值隨所述掃描頻率變化而變化。

3.如權利要求2所述的壓力測量裝置，其特征在于，所述壓力測量裝置計算出的所述壓力值，隨著所述掃描頻率變化而變化。

4.如權利要求1所述的壓力測量裝置，其特征在于，所述壓力測量裝置包括存儲裝置，所述存儲裝置存儲有在所述掃描頻率下，所述壓力感測模塊的檢測值與所述壓力測量裝置的壓力值的對應函數(shù)，所述壓力測量裝置根據(jù)所述對應函數(shù)計算出所述壓力值。

5.如權利要求4所述的壓力測量裝置，其特征在于，所述掃描頻率包括第一掃描頻率和第二掃描頻率，所述第一掃描頻率與所述第二掃描頻率互異，所述第一掃描頻率對應的所述對應函數(shù)與所述第二掃描頻率對應 的所述對應函數(shù)互異。

6.如權利要求1所述的壓力測量裝置，其特征在于，所述壓力測量裝置包括存儲裝置，所述存儲裝置存儲查找表，在所述掃描頻率下在每相鄰一固定壓力處取得對應的檢測值，并儲存所述檢測值為所述查找表，所述壓力測量裝置根據(jù)所述查找表計算出所述壓力值。

7.如權利要求1至6任一項所述的壓力測量裝置，其特征在于，所述壓力感測模塊為電容元件，所述電容元件會對應所施加在其表面不同壓力而產(chǎn)生不同的等效電容值，所述壓力感測模塊所得的檢測值為電容值。