[發明專利]真空熔煉爐

在審

• 申請號: 202010032721.6
• 申請日: 2020-01-13
• 公開（公告）號: CN111238227A
• 公開（公告）日: 2020-06-05
• 發明（設計）人: 孟仙;田鵬;蔡昌禮;鄧中山
• 申請（專利權）人: 云南科威液態金屬谷研發有限公司
• 主分類號: F27B14/04
• 分類號: F27B14/04;F27B14/10;F27B14/14;F27B14/20
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 韓世虹

1.一種真空熔煉爐，其特征在于：包括殼體以及控制器，所述殼體的內部設有分隔板，所述分隔板將所述殼體的內部空間分隔為相互獨立的至少兩個樣品腔室，每個所述樣品腔室中均設有至少兩個坩堝，每個所述樣品腔室中均設有加熱器；所述控制器包括與所述加熱器相對應的至少兩個溫度控制模塊，各所述溫度控制模塊分別通過控制線束與各所述加熱器一一對應連接。

2.根據權利要求1所述的真空熔煉爐，其特征在于：各所述樣品腔室中均設有坩堝支架，所述坩堝支架設有與所述坩堝一一對應的安裝槽，所述坩堝與所述安裝槽可拆卸安裝。

3.根據權利要求2所述的真空熔煉爐，其特征在于：所述加熱器設置于所述樣品腔室的底部，所述加熱器通過支撐柱與所述樣品腔室的底板相連，所述坩堝支架設置于所述加熱器上方。

4.根據權利要求1所述的真空熔煉爐，其特征在于：各所述樣品腔室的內側壁分別設有隔熱材料層。

5.根據權利要求1所述的真空熔煉爐，其特征在于：還包括設置于所述殼體外部的進氣總管，各所述樣品腔室分別通過進氣支管與所述進氣總管相連通；各所述進氣支管上分別設有進氣控制閥。

6.根據權利要求5所述的真空熔煉爐，其特征在于：所述進氣總管通過第一支架與所述殼體相連。

7.根據權利要求1所述的真空熔煉爐，其特征在于：還包括設置于所述殼體外部的排氣總管，各所述樣品腔室分別通過排氣支管與所述排氣總管相連通；各所述排氣支管上分別設有排氣控制閥。

8.根據權利要求7所述的真空熔煉爐，其特征在于：所述排氣總管通過第二支架與所述殼體相連。

9.根據權利要求1所述的真空熔煉爐，其特征在于：所述控制器還設有總電源開關以及與所述總電源開關電性連接的總電源指示燈，各所述溫度控制模塊分別與所述總電源開關電性連接。

10.根據權利要求1所述的真空熔煉爐，其特征在于：各所述樣品腔室的內部均設有壓力傳感器和溫度傳感器；各所述溫度控制模塊分別設有壓力顯示模塊和溫度顯示模塊，各所述壓力傳感器與各所述壓力顯示模塊對應電性連接，各所述溫度傳感器與各所述溫度顯示模塊對應電性連接；各所述溫度控制模塊還設有樣品腔室開關、樣品腔室指示燈、溫度控制開關和恒溫控制開關。