[發(fā)明專利]長距離端面粗糙晶體體內(nèi)缺陷測量裝置和方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010031413.1 | 申請日: | 2020-01-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111208089B | 公開(公告)日: | 2020-09-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉誠;何思源;潘興臣;朱健強(qiáng) | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 主分類號(hào): | G01N21/47 | 分類號(hào): | G01N21/47;G02B27/28 |
| 代理公司: | 上海恒慧知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人: | 張寧展 |
| 地址: | 201800 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 長距離 端面 粗糙 晶體 體內(nèi) 缺陷 測量 裝置 方法 | ||
一種長距離端面粗糙晶體體內(nèi)缺陷測量裝置,包括第一準(zhǔn)直光束、第二準(zhǔn)直光束、第一可變光闌、第二可變光闌、第一偏振分束器、第二偏振分束器、第一標(biāo)準(zhǔn)反射鏡、第二標(biāo)準(zhǔn)反射鏡、第一透鏡、第二透鏡、第一波前調(diào)制器、第二波前調(diào)制器、供第一波前調(diào)制器放置的第一二維平移臺(tái)、供第二波前調(diào)制器放置的第二二維平移臺(tái)、第一光斑探測器、第二光斑探測器和計(jì)算機(jī),且所述的第一光斑探測器、第二光斑探測器的輸出端分別與計(jì)算機(jī)相連;利用衍射光斑通過匹配的迭代算法就可以實(shí)現(xiàn)待測波前復(fù)函數(shù)的快速重建,進(jìn)而對待測晶體的缺陷實(shí)現(xiàn)快速篩查。測量裝置簡單可操作性強(qiáng),可應(yīng)用于元件的精密檢測,具有廣泛的應(yīng)用前景。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及波前相位恢復(fù)、光學(xué)檢測及成像技術(shù),特別是一種長距離端面粗糙晶體體內(nèi)缺陷測量裝置和方法。
背景技術(shù)
在測量粗糙打磨的晶體內(nèi)部缺陷時(shí),由于兩端面的影響不能對晶體內(nèi)部的缺陷進(jìn)行直接測量。目前分層PIE(參見Journal of the Optical Society of America A,Vol.29,No.8,pp:1606)是常用的厚樣品分布測量方法之一,其基本思路是將厚樣品在軸向離散分層化,將其等效為一定數(shù)量的切片,經(jīng)過迭代后得到每個(gè)切片的復(fù)振幅分布。該方法雖然可以用于對具有一定厚度的樣品進(jìn)行切片恢復(fù)重建,在對較厚的樣品進(jìn)行檢測時(shí),分層PIE方法不再適用,另外由于晶體受溫度影響的缺陷分布是連續(xù)變化的,在對厚樣品進(jìn)行分層檢測時(shí),誤差較大,端面的分布無法準(zhǔn)確分離,因此無法用于端面粗糙分布的厚樣品檢測。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明針對現(xiàn)有技術(shù)在晶體缺陷探測方面的不足,提出一種長距離端面粗糙晶體體內(nèi)缺陷測量裝置和方法。利用衍射光斑通過匹配的迭代算法就可以實(shí)現(xiàn)待測波前復(fù)函數(shù)的快速重建,進(jìn)而對待測晶體的缺陷實(shí)現(xiàn)快速篩查。測量裝置簡單可操作性強(qiáng),可應(yīng)用于元件的精密檢測,具有廣泛的應(yīng)用前景。
本發(fā)明的技術(shù)解決方案如下:
一種長距離端面粗糙晶體體內(nèi)缺陷測量裝置和方法,其特點(diǎn)在于,包括第一準(zhǔn)直光束、第二準(zhǔn)直光束、第一可變光闌、第二可變光闌、第一偏振分束器、第二偏振分束器、第一標(biāo)準(zhǔn)反射鏡、第二標(biāo)準(zhǔn)反射鏡、第一透鏡、第二透鏡、第一波前調(diào)制器、第二波前調(diào)制器、供第一波前調(diào)制器放置的第一二維平移臺(tái)、供第二波前調(diào)制器放置的第二二維平移臺(tái)、第一光斑探測器、第二光斑探測器和計(jì)算機(jī),且所述的第一光斑探測器、第二光斑探測器的輸出端分別與計(jì)算機(jī)相連;待測晶體放置在所述的第一偏振分束器和第二偏振分束器之間;所述的第一標(biāo)準(zhǔn)反射鏡位于待測晶體的端面關(guān)于第一偏振分束器的共軛位置,所述的第二標(biāo)準(zhǔn)反射鏡位于待測晶體的另一端面關(guān)于第二偏振分束器的共軛位置;
第一準(zhǔn)直光束經(jīng)所述的第一可變光闌入射到所述的第一偏振分束器,經(jīng)該第一偏振分束器分為二束,一束到達(dá)待測晶體一端面,經(jīng)待測晶體反射后,入射到第一偏振分束器,經(jīng)該第一偏振分束器透射后依次經(jīng)第一透鏡和第一波前調(diào)制器,入射到第一光斑探測器上,另一束入射到第一標(biāo)準(zhǔn)反射鏡,經(jīng)該第一標(biāo)準(zhǔn)反射鏡反射后,再次入射到第一偏振分束器,經(jīng)該第一偏振分束器反射后依次經(jīng)第一透鏡和第一波前調(diào)制器,入射到第一光斑探測器上;
第二準(zhǔn)直光束經(jīng)所述的第二可變光闌入射第二偏振分束器,經(jīng)該第二偏振分束器分為二束,一束到達(dá)待測晶體另一端面,經(jīng)待測晶體反射后,入射到第二偏振分束器,經(jīng)該第二偏振分束器透射后依次經(jīng)第二透鏡和第二波前調(diào)制器,入射到第二光斑探測器上,另一束入射到第二標(biāo)準(zhǔn)反射鏡,經(jīng)該第二標(biāo)準(zhǔn)反射鏡反射后,再次入射到第二偏振分束器,經(jīng)該第二偏振分束器反射后依次經(jīng)第二透鏡和第二波前調(diào)制器,入射到第二光斑探測器上;
所述的第一光斑探測器和第二光斑探測器記錄衍射光斑,并傳輸至計(jì)算機(jī)儲(chǔ)存。
所述的第一準(zhǔn)直光束和第二準(zhǔn)直光束為平行光,所述的第一可變光闌用于調(diào)整第一準(zhǔn)直光束口徑,第二可變光闌用于調(diào)整第二準(zhǔn)直光束口徑。
所述的第一偏振分束器將第一準(zhǔn)直光束分為兩束非相干偏振光,兩束光分別由第一標(biāo)準(zhǔn)反射鏡和待測晶體的端面反射至第一偏振分束器;
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
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G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





