[發(fā)明專利]一種晶圓濕處理設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010030676.0
• 申請(qǐng)日: 2020-01-13
• 公開（公告）號(hào): CN111211073A
• 公開（公告）日: 2020-05-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 商帥
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 商帥
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種晶圓濕處理設(shè)備，其結(jié)構(gòu)包括防護(hù)罩結(jié)構(gòu)(1)、控制主機(jī)(2)、底腳(3)、控制面板(4)、固定結(jié)構(gòu)(5)、電機(jī)(6)，所述防護(hù)罩結(jié)構(gòu)(1)固定于控制主機(jī)(2)上方，所述控制主機(jī)(2)上設(shè)有控制面板(4)，所述控制主機(jī)(2)下方設(shè)有底腳(3)，所述控制主機(jī)(2)內(nèi)部設(shè)有電機(jī)(6)，所述固定結(jié)構(gòu)(5)與電機(jī)(6)機(jī)械連接，其特征在于：

所述固定結(jié)構(gòu)(5)包括夾緊爪結(jié)構(gòu)(51)、放置基座結(jié)構(gòu)(52)、旋轉(zhuǎn)軸桿(53)，所述夾緊爪結(jié)構(gòu)(51)安裝于放置基座結(jié)構(gòu)(52)上且機(jī)械連接，所述放置基座結(jié)構(gòu)(52)下方固定設(shè)有旋轉(zhuǎn)軸桿(53)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶圓濕處理設(shè)備，其特征在于：所述夾緊爪結(jié)構(gòu)(51)包括夾緊器(C1)、上頂板(C2)、防護(hù)板(C3)、嵌入支板(C4)，所述夾緊器(C1)貫穿安裝于上頂板(C2)上，所述上頂板(C2)與防護(hù)板(C3)為一體化結(jié)構(gòu)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種晶圓濕處理設(shè)備，其特征在于：所述嵌入支板(C4)前后兩側(cè)設(shè)有摩擦板。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種晶圓濕處理設(shè)備，其特征在于：所述夾緊器(C1)包括上拉板(C11)、拉桿(C12)、緩沖彈簧(C13)、壓板(C14)，所述上拉板(C11)與拉桿(C12)為一體澆筑成型，所述拉桿(C12)貫穿于緩沖彈簧(C13)中，所述拉桿(C12)下端焊接于壓板(C14)上。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶圓濕處理設(shè)備，其特征在于：所述放置基座結(jié)構(gòu)(52)包括嵌入孔(T1)、緩沖球(T2)、放置板架(T3)、連接孔(T4)、中基板(T5)，所述嵌入孔(T1)與放置板架(T3)為一體化結(jié)構(gòu)，所述緩沖球(T2)粘合于放置板架(T3)上，所述放置板架(T3)與連接孔(T4)為一體化結(jié)構(gòu)，所述放置板架(T3)共設(shè)有四根，且均勻分布于中基板(T5)四周。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種晶圓濕處理設(shè)備，其特征在于：所述防護(hù)罩結(jié)構(gòu)(1)包括機(jī)殼(11)、通孔(12)、導(dǎo)液結(jié)構(gòu)(13)、小支塊(14)、導(dǎo)流架(15)、上封蓋(16)，所述上封蓋(16)放置于機(jī)殼(11)上，所述通孔(12)與導(dǎo)流架(15)為一體化結(jié)構(gòu)，所述機(jī)殼(11)下端與導(dǎo)液結(jié)構(gòu)(13)上端相焊接。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種晶圓濕處理設(shè)備，其特征在于：所述導(dǎo)流架(15)由導(dǎo)流坡與內(nèi)導(dǎo)流座組成，且內(nèi)導(dǎo)流座設(shè)于導(dǎo)流坡內(nèi)側(cè)。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種晶圓濕處理設(shè)備，其特征在于：所述導(dǎo)液結(jié)構(gòu)(13)包括出水孔(S1)、導(dǎo)水槽(S2)、連接管(S3)，所述出水孔(S1)焊接于導(dǎo)水槽(S2)左側(cè)且相互連通，所述連接管(S3)共設(shè)有四根，且均勻焊接于導(dǎo)水槽(S2)上方。