[發(fā)明專利]一種電容器金屬化薄膜加工真空鍍膜機(jī)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010029946.6 | 申請(qǐng)日: | 2020-01-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111218651A | 公開(公告)日: | 2020-06-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 許華清 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 許華清 |
| 主分類號(hào): | C23C14/26 | 分類號(hào): | C23C14/26;C23C14/14;H01G13/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 411201*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電容器 金屬化 薄膜 加工 真空鍍膜 | ||
1.一種電容器金屬化薄膜加工真空鍍膜機(jī),其特征在于:其結(jié)構(gòu)包括排氣閥(1)、真空罐(2)、分流電路系統(tǒng)(3)、控制面板(4)、機(jī)體(5),所述機(jī)體(5)的正上方安裝有控制面板(4),所述控制面板(4)的一側(cè)安裝有真空罐(2),所述真空罐(2)的頂端面上安裝有排氣閥(1),所述排氣閥(1)下方的真空罐(2)內(nèi)部頂端上安裝有分流電路系統(tǒng)(3),所述分流電路系統(tǒng)(3)設(shè)有卡板(32)、并聯(lián)結(jié)構(gòu)(33)、面板(34),所述面板(34)的外表面邊緣設(shè)有四個(gè)卡板(32),所述面板(34)和卡板(32)水平固定,所述面板(34)的正中間安裝有并聯(lián)結(jié)構(gòu)(33)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電容器金屬化薄膜加工真空鍍膜機(jī),其特征在于:所述并聯(lián)結(jié)構(gòu)(33)間的面板(34)上開有兩個(gè)以上的風(fēng)口(31)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種電容器金屬化薄膜加工真空鍍膜機(jī),其特征在于:所述并聯(lián)結(jié)構(gòu)(33)設(shè)有分口(331)、主板(332)、銜接管(333),所述主板(332)的一端設(shè)有銜接管(333),所述主板(332)的另一端設(shè)有兩道以上的分口(331),這些分口(331)互相平行,這些分口(331)靠近銜接管(333)的那端貫通,所述分口(331)和銜接管(333)連通。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種電容器金屬化薄膜加工真空鍍膜機(jī),其特征在于:所述分口(331)為上窄下寬的不完整圓的形狀。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種電容器金屬化薄膜加工真空鍍膜機(jī),其特征在于:所述主板(332)的分口(331)底部設(shè)有兩條以上的弧條(333),這些弧條(333)呈均勻等距分布。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種電容器金屬化薄膜加工真空鍍膜機(jī),其特征在于:所述銜接管(333)穿過的電線設(shè)有滑動(dòng)電阻(36),所述滑動(dòng)電阻(36)和面板(34)活動(dòng)接觸,所述滑動(dòng)電阻(36)和鍍膜蒸散電流用電路串聯(lián)在一起。
7.根據(jù)權(quán)利要求3或6所述的一種電容器金屬化薄膜加工真空鍍膜機(jī),其特征在于:所述銜接管(333)穿過的電線設(shè)有電容器(35),所述電容器(35)和鍍膜蒸散電流用電路串聯(lián)在一起。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電容器金屬化薄膜加工真空鍍膜機(jī),其特征在于:所述面板(34)的截面面積為圓形,其直徑大小和真空罐(2)頂端內(nèi)壁等同。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





