[發(fā)明專利]一種用于化學(xué)機(jī)械拋光的漿料分布設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010029936.2
• 申請(qǐng)日: 2020-01-13
• 公開（公告）號(hào): CN111211050A
• 公開（公告）日: 2020-05-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊老又
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 楊老又
• 主分類號(hào): H01L21/306
• 分類號(hào): H01L21/306;H01L21/67
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種用于化學(xué)機(jī)械拋光的漿料分布設(shè)備，其結(jié)構(gòu)包括第一電機(jī)(1)、工件吸盤(2)、頂架(3)、漿料集中分布裝置(4)、導(dǎo)液管(5)、液箱(6)、底架(7)、底座(8)，其特征在于：

所述的底座(8)頂部設(shè)有底架(7)，所述的底架(7)內(nèi)部設(shè)有液箱(6)，所述的底架(7)兩側(cè)設(shè)有導(dǎo)液管(5)，所述的底架(7)頂部設(shè)有漿料集中分布裝置(4)，所述的漿料集中分布裝置(4)頂部設(shè)有頂架(3)，所述的頂架(3)底部設(shè)有工件吸盤(2)，所述的頂架(3)頂部設(shè)有第一電機(jī)(1)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于化學(xué)機(jī)械拋光的漿料分布設(shè)備，其特征在于：所述的漿料集中分布裝置(4)由多向排液機(jī)構(gòu)(41)、集中匯液機(jī)構(gòu)(42)、回液濾雜環(huán)筒(43)、液壓桿(44)、穩(wěn)向外架(45)、第二電機(jī)(46)組成，所述的多向排液機(jī)構(gòu)(41)內(nèi)部設(shè)有集中匯液機(jī)構(gòu)(42)，所述的集中匯液機(jī)構(gòu)(42)底部設(shè)有回液濾雜環(huán)筒(43)，所述的回液濾雜環(huán)筒(43)下方設(shè)有穩(wěn)向外架(45)，所述的穩(wěn)向外架(45)中心位置設(shè)有液壓桿(44)，所述的液壓桿(44)底部設(shè)有第二電機(jī)(46)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于化學(xué)機(jī)械拋光的漿料分布設(shè)備，其特征在于：所述的多向排液機(jī)構(gòu)(41)由集液圓框(41a)、排液環(huán)管(41b)、排液嘴(41c)、集液槽(41d)、軸套(41e)、出液孔(41f)組成，所述的集液圓框(41a)頂部設(shè)有排液環(huán)管(41b)，所述的排液環(huán)管(41b)內(nèi)圈上設(shè)有排液嘴(41c)，所述的集液圓框(41a)中心位置設(shè)有集液槽(41d)，所述的集液槽(41d)中心位置設(shè)有軸套(41e)，所述的集液槽(41d)內(nèi)部分布有出液孔(41f)。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于化學(xué)機(jī)械拋光的漿料分布設(shè)備，其特征在于：所述的集中匯液機(jī)構(gòu)(42)由轉(zhuǎn)盤(42a)、導(dǎo)流隔條(42b)、集液拋光盤(42c)、防溢圓環(huán)(42d)組成，所述的轉(zhuǎn)盤(42a)外圈上設(shè)有防溢圓環(huán)(42d)，所述的轉(zhuǎn)盤(42a)中心位置設(shè)有集液拋光盤(42c)，所述的轉(zhuǎn)盤(42a)頂部設(shè)有導(dǎo)流隔條(42b)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種用于化學(xué)機(jī)械拋光的漿料分布設(shè)備，其特征在于：所述的集液拋光盤(42c)由集液葉片(42c1)、拋光盤(42c2)、圓盤(42c3)、排液孔(42c4)組成，所述的圓盤(42c3)頂部設(shè)有拋光盤(42c2)，所述的圓盤(42c3)內(nèi)圈上設(shè)有集液葉片(42c1)，所述的拋光盤(42c2)外圈上設(shè)有排液孔(42c4)。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種用于化學(xué)機(jī)械拋光的漿料分布設(shè)備，其特征在于：所述的排液嘴(41c)由上向下傾斜設(shè)置在排液環(huán)管(41b)上。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種用于化學(xué)機(jī)械拋光的漿料分布設(shè)備，其特征在于：所述的防溢圓環(huán)(42d)所形成的圓周直徑等于集液圓框(41a)內(nèi)圈所形成的圓周直徑。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種用于化學(xué)機(jī)械拋光的漿料分布設(shè)備，其特征在于：所述的所述的拋光盤(42c2)設(shè)置在高度低于各個(gè)集液葉片(42c1)設(shè)置的高度，所述的排液孔(42c4)設(shè)置的高度低于拋光盤(42c2)設(shè)置的高度。