[發(fā)明專利]一種基于機(jī)器人的異形石材曲面的規(guī)劃拋光方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010029218.5 | 申請(qǐng)日: | 2020-01-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111113162B | 公開(公告)日: | 2021-04-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陸靜;申云;楊磊;黃身桂;崔長彩;徐西鵬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 華僑大學(xué) |
| 主分類號(hào): | B24B1/00 | 分類號(hào): | B24B1/00;B24B19/22 |
| 代理公司: | 廈門市首創(chuàng)君合專利事務(wù)所有限公司 35204 | 代理人: | 張松亭;姜謐 |
| 地址: | 362000 福建省*** | 國省代碼: | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 機(jī)器人 異形 石材 曲面 規(guī)劃 拋光 方法 | ||
1.一種基于機(jī)器人的異形石材曲面拋光軌跡規(guī)劃方法,其特征在于:包括如下步驟:
(1)選擇柔性拋光盤,該柔性拋光盤的柔性基體的邵氏硬度為30-50HSA,直徑為10-100mm且厚度為5-30mm,呈圓柱狀,該柔性拋光盤的表面通過半固結(jié)方式結(jié)合有拋光磨料;
(2)制備一拋光工件,該拋光工件包括一基座和一待拋光面,該基座為立方體狀,待拋光面設(shè)于其上頂面,該待拋光面為一圓錐體的部分側(cè)壁,該圓錐體的頂角為30°-60°,母線的長度為200-300mm,底面圓的半徑為100-200mm,該部分側(cè)壁所在的圓錐體的最上側(cè)母線平行于基座的上頂面,且該最上側(cè)母線與基座的上頂面的距離為10-50mm;
(3)用步驟(1)的柔性拋光盤沿所述最上側(cè)母線的方向?qū)λ龃龗伖饷孢M(jìn)行拋光,該柔性拋光盤的轉(zhuǎn)速為3000-5000rpm,進(jìn)給速度為1200-3600mm/min,壓縮量為0.8-1.2mm;
(4)對(duì)步驟(3)所得的已拋光的區(qū)域進(jìn)行測(cè)量,擬合出曲率與貼合弦長關(guān)系式,從而得到柔性拋光盤對(duì)待拋光面上的不同曲率的曲面的貼合程度大小,該貼合弦長為步驟(3)中的已拋光的區(qū)域的圓弧所對(duì)應(yīng)的弦長;
(5)根據(jù)待拋光的異形石材曲面的表面特點(diǎn)對(duì)其進(jìn)行分區(qū);
(6)將步驟(5)所分的每一區(qū)域的最大曲率代入步驟(4)所得的曲率與貼合弦長關(guān)系式,得到該區(qū)域的貼合弦長;
(7)根據(jù)每一區(qū)域的貼合弦長確定軌跡間距,利用CAM軟件編寫拋光軌跡,并用機(jī)器人夾持所述柔性拋光盤對(duì)異形石材曲面進(jìn)行拋光加工。
2.如權(quán)利要求1所述的異形石材曲面拋光軌跡規(guī)劃方法,其特征在于:所述步驟(4)中的曲率與貼合弦長的數(shù)據(jù)采集方法為:沿著所述最上側(cè)母線的方向,每隔5-20mm,測(cè)量此處垂直該最上側(cè)母線的方向的曲率圓的曲率,測(cè)量此處已拋光的圓弧所對(duì)應(yīng)的弦長,該弦長即為貼合弦長。
3.如權(quán)利要求1所述的異形石材曲面拋光軌跡規(guī)劃方法,其特征在于:所述步驟(6)中的最大曲率是指將其所在區(qū)域的曲面導(dǎo)入三維建模軟件中,生成曲率云圖,在該曲率云圖的最大曲率處取9-11個(gè)點(diǎn),求得平均值即為該最大曲率。
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