[發明專利]一種用于電機內部的低損耗冷卻結構有效
| 申請號: | 202010029211.3 | 申請日: | 2020-01-13 |
| 公開(公告)號: | CN110829722B | 公開(公告)日: | 2020-04-07 |
| 發明(設計)人: | 王立云;謝海東;石利俊;趙艷東;蘇明澤;熊雄;李秋南 | 申請(專利權)人: | 成都微精電機股份公司 |
| 主分類號: | H02K9/00 | 分類號: | H02K9/00;H02K5/04;H02K5/20 |
| 代理公司: | 成都立新致創知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 51277 | 代理人: | 譚德兵 |
| 地址: | 610000 四川省成都市成*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 電機 內部 損耗 冷卻 結構 | ||
1.一種用于電機內部的低損耗冷卻結構,包括機殼(1)以及端蓋,機殼(1)內設有定子(16)和轉子(17),定子(16)設置在機殼(1)內部處,轉子(17)通過轉軸(18)沿機殼(1)軸線設置,其特征在于:
所述的機殼(1)左側的端蓋為端蓋A(2),其內周向開有多個活塞腔(3),活塞腔(3)與電機的冷卻腔道相連通;
所述的活塞腔(3)中放置有活塞磁塊(5),轉軸(18)上設有與活塞磁塊(5)相對應的永磁體(19),轉軸(18)轉動時通過永磁體(19)對活塞磁塊(5)產生作用力從而讓活塞磁塊(5)在活塞腔(3)中動作,使得活塞腔(3)中的介質沿冷卻腔道流動。
2.根據權利要求1所述的一種用于電機內部的低損耗冷卻結構,其特征在于:所述的活塞腔(3)處還設置有輔助件,活塞磁塊(5)通過永磁體(19)和輔助件在活塞腔(3)中作往復動作;
所述活塞磁塊(5)在活塞腔(3)中動作時,將活塞腔(3)中的介質壓入冷卻腔道中,或者將冷卻腔道中的介質抽入活塞腔(3)中,或者既將活塞腔(3)中的介質壓入冷卻腔道中又將冷卻腔道中的介質抽入活塞腔(3)中。
3.根據權利要求2所述的一種用于電機內部的低損耗冷卻結構,其特征在于:所述的永磁體(19)的磁性與活塞磁塊(5)的磁性同極,兩者產生排斥力,活塞腔(3)中設置有彈簧(10),活塞磁塊(5)在彈簧力作用下復位;
或者,所述的永磁體(19)的磁性與活塞磁塊(5)的磁性反極,兩者產生吸附力,活塞腔(3)中設置有彈簧(10),活塞磁塊(5)在彈簧力作用下復位;
或者,所述的活塞磁塊(5)對應有兩塊永磁體(19),一個永磁體(19)的磁性與活塞磁塊(5)磁性同極,另一個永磁體(19)的磁性與活塞磁塊(5)的磁性反極,在排斥力和吸附力的作用下讓活塞磁塊(5)動作。
4.根據權利要求3所述的一種用于電機內部的低損耗冷卻結構,其特征在于:所述的端蓋A(2)為非導磁的蓋,其中心沿軸向開有中心通孔,轉軸(18)從中心通孔穿出;
永磁體(19)位于中心通孔處的轉軸(18)上。
5.根據權利要求4所述的一種用于電機內部的低損耗冷卻結構,其特征在于:所述的冷卻腔道包括冷卻腔道A(401)和冷卻腔道B(402);
所述的冷卻腔道A(401),開設在機殼(1)的殼體上,且沿平行軸線方向將機殼(1)左右貫穿;
所述的冷卻腔道B(402),為機殼(1)內部各器件的間隙形成的冷卻腔道B(402)。
6.根據權利要求5所述的一種用于電機內部的低損耗冷卻結構,其特征在于:所述的活塞腔(3)被活塞磁塊(5)分割成活塞腔A和活塞腔B,活塞腔B靠近中心通孔,活塞腔A遠離中心通孔。
7.根據權利要求6所述的一種用于電機內部的低損耗冷卻結構,其特征在于:所述的活塞腔A通過單向閥A(6)與外部相連通,活塞腔A還通過單向閥B(7)與冷卻腔道A(401)連通;
所述活塞磁塊(5)向端蓋A(2)中心動作時,單向閥A(6)打開而單向閥B(7)關閉,外部介質經單向閥A(6)進入活塞腔A中;
所述活塞磁塊(5)向端蓋A(2)邊緣動作時,單向閥A(6)關閉而單向閥B(7)打開,活塞腔A內的介質經單向閥B(7)進入冷卻腔道A(401)中。
8.根據權利要求7所述的一種用于電機內部的低損耗冷卻結構,其特征在于:所述的活塞腔B通過單向閥C(8)與外部相連通,還通過單向閥D(9)與冷卻腔道B(402)相連通;
所述活塞磁塊(5)向端蓋A(2)中心動作時,單向閥C(8)關閉而單向閥D(9)打開;
所述活塞磁塊(5)向端蓋A(2)邊緣動作時,單向閥C(8)打開而單向閥D(9)關閉。
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