[發(fā)明專利]天線和其探測方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010028129.9
• 申請日: 2020-01-10
• 公開（公告）號: CN111129756A
• 公開（公告）日: 2020-05-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 鄒高迪;鄒新
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳邁睿智能科技有限公司
• 主分類號: H01Q1/38
• 分類號: H01Q1/38;H01Q1/48;H01Q1/50;H01Q13/10
• 代理公司: 寧波理文知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 33244
• 代理人: 李高峰;孟湘明

1.一天線，其特征在于，包括：

一參考地，所述參考地具有一第一極化面、一第一側(cè)面、相對于所述第一極化面的一第二極化面以及相對于所述第一側(cè)面的一第二側(cè)面；和

一輻射源，其中所述輻射源具有一饋電點，所述饋電點偏離于所述輻射源的物理中心點，所述輻射源具有一第三極化面、相對于所述第三極化面的一第四極化面、一第三側(cè)面以及相對于所述第三側(cè)面的一第四側(cè)面，其中所述第三極化面為所述輻射源在所述輻射源的物理中心點至所述饋電點的連線方向的側(cè)面，所述第四極化面為所述輻射源在所述輻射源的饋電點至物理中心點的連線方向的側(cè)面，所述輻射源以所述第三極化面、所述第四極化面、所述第三側(cè)面以及所述第四側(cè)面分別對應(yīng)于所述參考地的所述第一極化面、所述第二極化面、所述第一側(cè)面以及所述第二側(cè)面的方式被間隔地保持于所述參考地的一側(cè)，并在所述輻射源和所述參考地之間形成一輻射縫隙，所述參考地的所述第一側(cè)面與所述輻射源的所述第三側(cè)面之間存在一第一預(yù)設(shè)水平距離，所述參考地的所述第二側(cè)面與所述輻射源的所述第四側(cè)面之間存在一第二預(yù)設(shè)水平距離，所述天線產(chǎn)生的一探測微波能夠形成狹長的一探測面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的天線，其中所述參考地的所述第一側(cè)面與所述輻射源的所述第三側(cè)面之間的第一預(yù)設(shè)水平距離參數(shù)為K，其中所述參數(shù)K的數(shù)值范圍為：0≤K≤1/32λ，其中λ為所述天線100所發(fā)射的探測微波的波長參數(shù)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的天線，其中所述參考地的所述第二側(cè)面與所述輻射源的所述第四側(cè)面之間的所述第二預(yù)設(shè)水平距離參數(shù)為L，其中所述參數(shù)L的數(shù)值范圍為：0≤L≤1/32λ。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的天線，其中所述天線的所述參考地的所述第一極化面和所述輻射源的所述第三極化面之間存在一第三預(yù)設(shè)水平距離，所述第三預(yù)設(shè)水平距離參數(shù)為M，所述參數(shù)M的范圍為：M≥1/32λ。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的天線，其中所述參考地的所述第二極化面和所述輻射源的所述第四極化面之間存在一第四預(yù)設(shè)水平距離，定義所述第四預(yù)設(shè)水平距離為一參數(shù)N，其中所述參數(shù)N的范圍為：N≥1/32λ。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的天線，其中所述參考地的所述第一極化面和所述第二極化面的長度尺寸參數(shù)為A，所述參數(shù)A的數(shù)值范圍為：A≥λ/8。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的天線，其中所述參考地的所述第一側(cè)面和所述第二側(cè)面的長度尺寸參數(shù)為B，所述參數(shù)B的數(shù)值范圍為：B≥λ/8。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的天線，其中所述輻射源的所述第三極化面和所述第四極化面的長度尺寸參數(shù)C，所述參數(shù)C的數(shù)值范圍為：C≥λ/8。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的天線，其中所述輻射源的所述第一側(cè)面和所述第二側(cè)面的長度尺寸參數(shù)為D，所述參數(shù)D的范圍為：D≥λ/8。

10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一所述的天線，其中所述輻射源進一步具有一接地點，其中所述輻射源于所述接地點被接地。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的天線，其中所述接地點位于所述輻射源的物理中心點。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的天線，其中所述輻射源于所述接地點經(jīng)以金屬化過孔工藝形成的一金屬化孔被接地。

13.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一所述的天線，其中所述輻射源的所述第三側(cè)面和所述第四側(cè)面分別與所述參考地的所述第一側(cè)面和所述第二側(cè)面保持對齊，即所述參數(shù)K和所述參數(shù)L的數(shù)值滿足K＝0且L＝0。

14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的天線，其中所述輻射源的所述第三側(cè)面和所述第四側(cè)面分別與所述參考地的所述第一側(cè)面和所述第二側(cè)面保持對齊，即所述參數(shù)K和所述參數(shù)L的數(shù)值滿足K＝0且L＝0。