[發(fā)明專利]反射式光尋址液晶空間光調(diào)制器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010027374.8
• 申請日: 2020-01-10
• 公開（公告）號: CN113126373B
• 公開（公告）日: 2022-10-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 范薇;邢智博
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所
• 主分類號: G02F1/1343
• 分類號: G02F1/1343;G02F1/1335
• 代理公司: 上海恒慧知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 31317
• 代理人: 張寧展

1.一種反射式光尋址液晶空間光調(diào)制器，其結(jié)構(gòu)包括1053nm線偏振讀出光入射窗口(1)、二向分色鏡(2)、偏振片(3)、液晶盒(4)、470nmLED準(zhǔn)直光源(5)、偏振分光器(6)、由計(jì)算機(jī)控制的LCoS型電尋址空間光調(diào)制器(7)、交流穩(wěn)壓電源(8)、檢偏器(9)和1053nm線偏振讀出光出射窗口(10)，所述的液晶盒(4)由依次的透明導(dǎo)電膜基底層(41)、第一透明導(dǎo)電層(42)、液晶取向?qū)蛹耙壕?43)、光導(dǎo)層(44)、反射膜層(45)和第二導(dǎo)電層(46)構(gòu)成，所述的第一透明導(dǎo)電層(42)和第二導(dǎo)電層(46)之間連接所述的交流穩(wěn)壓電源(8)，其特征在于：

所述第一透明導(dǎo)電層(42)為n型摻硅氮化鎵薄膜層或p型摻鎂氮化鎵薄膜層，所述的第二導(dǎo)電層(46)為氧化銦錫薄膜層；所述的光導(dǎo)層(44)兼作為第二導(dǎo)電層(46)的基底層；

所述的讀出光入射窗口(1)與液晶盒(4)之間依次設(shè)置有所述的二向分色鏡(2)和偏振片(3),所述470nmLED準(zhǔn)直光源(5)與LCoS型電尋址空間光調(diào)制器(7)位于所述偏振分光器(6)兩側(cè)，470nmLED準(zhǔn)直光源(5)的寫入光依次經(jīng)過偏振分光器(6)、LCoS型電尋址空間光調(diào)制器(7)后，依次通過偏振分光器(6)和二向分色鏡(2)，二向分色鏡(2)的方向與所述寫入光的入射方向及所述讀出光的入射方向均成45°，二向分色鏡(2)對所述寫入光全反而對所述讀出光全透，在二向分色鏡(2)的寫入光反射和讀出光透射方向依次設(shè)置有所述偏振片(3)、液晶盒(4)，所述檢偏器(9)和1053nm線偏振讀出光出射窗口(10)沿被液晶盒(4)反射的寫入光與讀出光的反射方向依次設(shè)置，偏振片(3)偏振方向和1053nm線偏振讀出光偏振方向平行，所述1053nm線偏振讀出光出射窗口(10)對寫入光全反而對讀出光全透。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射式光尋址液晶空間光調(diào)制器，其特征在于，所述的光導(dǎo)層(44)使用的材料為硅酸鉍(BSO)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射式光尋址液晶空間光調(diào)制器，其特征在于，所述的反射膜層(45)呈梯形或平板形，當(dāng)所述的反射膜層(45)呈平板形時(shí)，所述的液晶盒(4)在裝置中相對于光路傾斜放置；當(dāng)所述的反射膜層(45)呈梯形時(shí)，所述的液晶盒(4)在裝置中相對于光路垂直放置。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反射式光尋址液晶空間光調(diào)制器，其特征在于，所述第二導(dǎo)電層(46)為非透明導(dǎo)電層。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述的反射式光尋址液晶空間光調(diào)制器，其特征在于，所述的透明導(dǎo)電膜基底層(41)的材料為藍(lán)寶石。