[發(fā)明專利]電感耦合等離子體處理裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010026911.7 | 申請日: | 2020-01-10 |
| 公開(公告)號: | CN111430210B | 公開(公告)日: | 2023-05-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 齊藤均;佐佐木和男;里吉務(wù);東條利洋 | 申請(專利權(quán))人: | 東京毅力科創(chuàng)株式會社 |
| 主分類號: | H01J37/32 | 分類號: | H01J37/32 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;張會華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電感 耦合 等離子體 處理 裝置 | ||
1.一種電感耦合等離子體處理裝置,其對矩形基板實施電感耦合等離子體處理,其中,
該電感耦合等離子體處理裝置具備:
處理容器;
載置臺,其用于在所述處理容器內(nèi)載置矩形基板;
矩形形狀的金屬窗,其構(gòu)成所述處理容器的頂壁,與所述處理容器電絕緣,并與所述載置臺相對設(shè)置;以及
天線單元,其設(shè)于所述金屬窗的上方,用于在所述處理容器內(nèi)生成電感耦合等離子體,
所述金屬窗被朝向各角部的放射狀的第1分割分割成相互電絕緣的分割區(qū)域,
所述天線單元具有構(gòu)成為多分割環(huán)狀天線的高頻天線,該高頻天線是將具有與所述金屬窗的上表面相對地形成的平面部的多個天線區(qū)段配置為所述平面部整體上成為矩形的框狀區(qū)域而成的,
所述多個天線區(qū)段分別是將天線用線沿著作為與所述金屬窗的上表面正交的方向的縱向以卷繞軸線與所述金屬窗的上表面平行的方式卷繞成螺旋狀而構(gòu)成的,
能夠控制向所述多個天線區(qū)段分別供給的電流,
所述多個天線區(qū)段之間被與所述金屬窗電絕緣的分隔板隔開。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電感耦合等離子體處理裝置,其中,
所述金屬窗被沿著周向的第2分割分割成相互電絕緣的多個環(huán)狀分割區(qū)域,
所述高頻天線與所述多個環(huán)狀分割區(qū)域的一個相對應(yīng)地設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電感耦合等離子體處理裝置,其中,
所述天線單元具有呈環(huán)狀的1個以上的其他高頻天線,所述其他高頻天線與所述多個環(huán)狀分割區(qū)域中的不對應(yīng)于所述高頻天線的環(huán)狀分割區(qū)域相對應(yīng)地設(shè)置。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電感耦合等離子體處理裝置,其中,
所述多個環(huán)狀分割區(qū)域是3個以上,所述高頻天線與所述多個環(huán)狀分割區(qū)域的最外周的外側(cè)環(huán)狀分割區(qū)域相對應(yīng)地設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電感耦合等離子體處理裝置,其中,
所述其他高頻天線是所述多分割環(huán)狀天線、或平面環(huán)狀天線。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電感耦合等離子體處理裝置,其中,
與所述多個環(huán)狀分割區(qū)域中的中間環(huán)狀分割區(qū)域相對應(yīng)地設(shè)置有構(gòu)成所述多分割環(huán)狀天線的所述其他高頻天線,該中間環(huán)狀分割區(qū)域與所述外側(cè)環(huán)狀分割區(qū)域相鄰地位于所述外側(cè)環(huán)狀分割區(qū)域的內(nèi)側(cè)。
7.根據(jù)權(quán)利要求3~6中任一項所述的電感耦合等離子體處理裝置,其中,
所述環(huán)狀分割區(qū)域的寬度比相對應(yīng)的所述高頻天線或所述其他高頻天線的寬度寬。
8.根據(jù)權(quán)利要求2~6中任一項所述的電感耦合等離子體處理裝置,其中,
所述金屬窗的與所述環(huán)狀分割區(qū)域的各邊相對應(yīng)的部分被與所述第2分割的方向正交的方向的第3分割分割成相互電絕緣的多個分割部。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電感耦合等離子體處理裝置,其中,
被所述第3分割分割而形成的所述分割部僅與所述天線區(qū)段的1個相對應(yīng)。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電感耦合等離子體處理裝置,其中,
被所述第3分割分割而形成的所述分割部的至少一部分的任一個分割部與所述天線區(qū)段的兩個以上相對應(yīng)。
11.根據(jù)權(quán)利要求1~6中任一項所述的電感耦合等離子體處理裝置,其中,
所述多個天線區(qū)段的一部分構(gòu)成所述多分割環(huán)狀天線的角部,是呈L字狀的多個角要素,所述多個天線區(qū)段的其他一部分構(gòu)成所述多分割環(huán)狀天線的邊部,是具有直線狀的多個邊要素。
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