[發明專利]加濕器及加濕器的控制方法

在審

• 申請號: 202010026659.X
• 申請日: 2020-01-10
• 公開（公告）號: CN111435029A
• 公開（公告）日: 2020-07-21
• 發明（設計）人: 越智鐵美
• 申請（專利權）人: 日機裝株式會社
• 主分類號: F24F6/12
• 分類號: F24F6/12;F24F11/30;F24F11/64;F24F11/72;C02F1/32
• 代理公司: 上海旭誠知識產權代理有限公司 31220
• 代理人: 鄭立;丁惠敏

1.一種加濕器，其特征在于，包括：

供水箱，

處理室，其被配置在上述供水箱的下方，對從該供水箱供給的水進行紫外線殺菌處理，

紫外線照射部，其被設置在上述處理室，并照射紫外線，

霧化室，其被供給在上述處理室中被紫外線殺菌處理后的水，

霧化器，其被設置在上述霧化室，對水進行霧化，

路徑，其供被霧化的水噴向外部，以及

控制機構，其對被從上述供水箱經上述處理室供給到上述霧化室的水的流動進行控制。

2.如權利要求1所述的加濕器，其特征在于，

關于上述處理室，該處理室的容積比上述供水箱的容積小。

3.如權利要求2所述的加濕器，其特征在于，

上述處理室中，在內壁設置有被構成為供上述紫外線反射的反射部。

4.如權利要求3所述的加濕器，其特征在于，

上述反射部的表面由PTFE或Al構成。

5.如權利要求1～4的任何一項所述的加濕器，其特征在于，

上述紫外線照射部具有照射峰值波長處于250～300nm的范圍內的紫外線的LED；

上述LED被配置于上述處理室的底部。

6.如權利要求5所述的加濕器，其特征在于，

上述霧化器被設置于上述霧化室的底部；

該加濕器還包括搭載有控制上述LED和上述霧化器的電路的電路基板；

上述電路基板被配置于上述處理室及上述霧化室的下方。

7.如權利要求1～6的任何一項所述的加濕器，其特征在于，

上述處理室具有向上述霧化室供給被紫外線殺菌處理后的水的流出口；

上述流出口被設置于比上述霧化室的底部高的位置。

8.如權利要求1～7的任何一項所述的加濕器，其特征在于，

上述霧化器具有將水霧化為氣溶膠的超聲波振動器。

9.一種加濕器，其特征在于，包括：

處理室，其對從供水箱供給的水進行紫外線殺菌處理，

紫外線照射部，其被設置在上述處理室，并照射紫外線，

霧化室，其被配置于比上述處理室的底部靠下方處，并被供給在該處理室中被紫外線殺菌處理后的水，

霧化器，其被設置在上述霧化室，對水進行霧化，

路徑，其供被霧化的水噴向外部，

控制機構，其對被從上述供水箱經上述處理室供給到上述霧化室的水的流動進行控制，以及

水量推定部，其推定處于上述霧化室中的水量；

上述控制機構基于被推定出的水量來控制水從上述處理室向上述霧化室的供給。

10.一種加濕器的控制方法，其特征在于，包含：

將水從供水箱供給到被配置于該供水箱的下方的處理室的工序，

對被供給到處理室的水進行紫外線殺菌處理的工序，

向設置有霧化器的霧化室供給被紫外線殺菌處理后的水的工序，以及

對被供給到上述霧化室的水進行霧化的工序；

上述霧化室的底部比上述處理室的底部低，以使被紫外線殺菌處理后的水因自重而從上述處理室流入。

11.如權利要求10所述的加濕器的控制方法，其特征在于，

對被供給到處理室的水進行紫外線殺菌處理的工序是利用照射峰值波長處于250～300nm的范圍內的紫外線的LED來進行的；

上述LED被控制，使得與加濕器剛開始動作后的紫外線的輸出相比，加濕器的連續使用狀態下的輸出更小。