[發(fā)明專利]一種基于稀疏表示和Fréchet距離融合的軌跡相似度計(jì)算方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010026567.1 | 申請(qǐng)日: | 2020-01-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111259098B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-04-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李芳;趙文婷;藍(lán)如師;劉憶寧;鐘艷如;臧美美;鄭金云;王如月;羅笑南 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 桂林電子科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G06F16/29 | 分類號(hào): | G06F16/29;G06F16/28 |
| 代理公司: | 桂林市華杰專利商標(biāo)事務(wù)所有限責(zé)任公司 45112 | 代理人: | 陸夢(mèng)云 |
| 地址: | 541004 廣西*** | 國(guó)省代碼: | 廣西;45 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 稀疏 表示 fr chet 距離 融合 軌跡 相似 計(jì)算方法 | ||
1.一種基于稀疏表示和Fréchet距離融合的軌跡相似度計(jì)算方法,其特征是:包括如下步驟:
(1)稀疏表示系數(shù)求解相似度sim1,將需要求解相似鄰居的軌跡表示為測(cè)試樣本,數(shù)據(jù)集中除測(cè)試樣本之外其他的軌跡表示為訓(xùn)練樣本,建立用戶軌跡的矩陣形式:
其中每一行表示的是該軌跡上等時(shí)間間隔選取的m個(gè)軌跡點(diǎn),每個(gè)軌跡點(diǎn)有v個(gè)屬性,Rm.v′代表軌跡上第m個(gè)軌跡點(diǎn)的第v個(gè)屬性值;
(2)對(duì)矩陣軌跡數(shù)據(jù)預(yù)先處理,稀疏表示形式如下:
β=a1α1++a2α2+…+anαn
其中,β為測(cè)試樣本,αi為訓(xùn)練樣本(i=1,2…n),ai為需要求解的系數(shù);
建立用戶軌跡的矩陣數(shù)據(jù)時(shí),軌跡上的取點(diǎn)數(shù)m多于它的屬性個(gè)數(shù)v;因此將原用戶軌跡矩陣全部做轉(zhuǎn)置處理:
y=a1x1+a2x2+…anxn
xi(i=1,2…n)為轉(zhuǎn)置后的軌跡矩陣t的表示;
(3)每個(gè)矩陣有n個(gè)屬性,每個(gè)屬性的取值范圍不同,對(duì)軌跡矩陣做歸一化處理;
(4)軌跡間的稀疏表示:
y=a1x1++a2x2+…+anxn
y為需要測(cè)試的軌跡樣本,xi(i=1,2…n)為訓(xùn)練的軌跡樣本,ai可理解為第i個(gè)訓(xùn)練樣本對(duì)測(cè)試樣本的貢獻(xiàn)值,將以上公式改寫(xiě)為:
y=XA
其中A=[a1?…?an]T,X=[x1?…?xn],并且x1?…?xn和y都是n*m的矩陣(m>n);如果A是一個(gè)非奇異矩陣,可以這樣得到A,
A=X-1y
否則,便這樣得到A,
A=(XTX+μI)-1XT
其中μ是一個(gè)很小的正數(shù),I是一個(gè)單位矩陣;得到A之后,也即是求得了對(duì)應(yīng)的a1?…?an各個(gè)系數(shù)的解,得到了第i個(gè)訓(xùn)練樣本對(duì)測(cè)試樣本的貢獻(xiàn)值,這個(gè)值越大,也就間接說(shuō)明了訓(xùn)練樣本和測(cè)試樣本相似度越高;
(5)Fréchet距離求解軌跡直接相似度sim2
任選軌跡集中;兩條軌跡P和Q,P軌跡長(zhǎng)度為M,Q軌跡長(zhǎng)度為N,將變量t約束到區(qū)間[0,1]內(nèi),α(t)和β(t)是運(yùn)動(dòng)位置描述函數(shù);那么有α(0)=0,α(1)=N,β(0)=0,β(0)=M;用P(α(t))和Q(β(t))分別表示t時(shí)刻P和Q在各自軌跡上的空間位置:
采用合適的離散弗雷歇距離算法來(lái)刻畫(huà)兩條曲線之間的距離,并作為其弗雷歇距離;
(6)基于多相似度融合的軌跡聚類:
通過(guò)以上相似度計(jì)算方法,需要測(cè)試的每條軌跡都可以得到相應(yīng)的前Top-k條軌跡:
每次迭代從未聚類的軌跡集合(Sunclu)中隨機(jī)選擇一條軌跡作為聚類中心軌跡Tp,根據(jù)軌跡間的相似度從Sunclu中選出與Tp相似度較高的k-1條軌跡組成一個(gè)大小為k的軌跡集合Snow,并將其添加到聚類集合Sclu中,重復(fù)上述聚類操作直到Sunclu中軌跡數(shù)(Sunclu)不足k,即無(wú)法達(dá)到k聚類的條件為止。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于稀疏表示和Fréchet距離融合的軌跡相似度計(jì)算方法,其特征是:步驟(5)所述采用合適的離散弗雷歇距離算法來(lái)刻畫(huà)兩條曲線之間的距離,并作為其弗雷歇距離,其實(shí)施過(guò)程如下:
1)待識(shí)別軌跡P可表示為
P={P(1),P(2),…,P(m)…,P(M)}
式中:P(m)=(xm,ym);m為軌跡P上的采樣點(diǎn)的序號(hào),m=1為起始采樣點(diǎn),m=M為末尾采樣點(diǎn);xm為第m個(gè)采樣點(diǎn)的橫坐標(biāo),ym為第m個(gè)采樣點(diǎn)的縱坐標(biāo);橫坐標(biāo)表示的是軌跡采樣點(diǎn)的經(jīng)度,縱坐標(biāo)表示的是軌跡點(diǎn)的緯度;
2)待識(shí)別軌跡Q可表示為
Q={Q(1),Q(2),…,Q(n)…,Q(N)}
式中:Q(n)=(x′n,y′n);n為軌跡Q上的采樣點(diǎn)的序號(hào),n=1為起始采樣點(diǎn),n=N為末尾采樣點(diǎn);x′n為第n個(gè)采樣點(diǎn)的橫坐標(biāo),y′n為第n個(gè)采樣點(diǎn)的縱坐標(biāo)‘橫坐標(biāo)表示的是軌跡采樣點(diǎn)的經(jīng)度,縱坐標(biāo)表示的是軌跡點(diǎn)的緯度;
3)計(jì)算軌跡P上各采樣點(diǎn)到軌跡Q上的各采樣點(diǎn)之間的距離,得到距離矩陣D
式中:表示軌跡Q上的第n個(gè)采樣點(diǎn)到軌跡P上的第m個(gè)采樣點(diǎn)的距離,1≤m≤M,1≤n≤N;
4)找出距離矩陣D中的最大距離dmax=max(D)以及最小距離dmin=min(D),初始化目標(biāo)距離f=dmin,并設(shè)置循環(huán)間隔
5)將距離矩陣D中小于或等于f的元素設(shè)置為1,大于f的元素設(shè)置為0,從而得到二值矩陣D′如下:
式中:
6)在二值矩陣D′中搜索一條滿足以下條件的路徑R:R的起點(diǎn)為d′11,終點(diǎn)為d′MN;路徑在通過(guò)點(diǎn)d′mn后,其下一個(gè)通過(guò)點(diǎn)只能為d′(m+1)n,d′m(n+1),d'(m+1)(n+1)中的一個(gè);路徑R中所有點(diǎn)的值都必須為1;用數(shù)學(xué)表達(dá)式的形式為,存在一條路徑R={d′11,…,d′mn,…,d′MN},滿足
d′11*…*d′mn*d′(m+k)(n+k)*…*d′MN=1
式中:1≤m≤M,1≤n≤N,1≤m+k≤M,1≤n+k≤N,k={0,1},k′={0,1}.
7)若在步驟6)中未找到滿足條件的路徑,則設(shè)置目標(biāo)距離f=f+r,之后重復(fù)步驟5)和6);若在步驟6)中找到滿足條件的路徑或者目標(biāo)距離f=dmax,則進(jìn)入下一步;
8)待識(shí)別軌跡P和待識(shí)別軌跡Q之間的弗雷歇距離F=f;
9)通過(guò)弗雷歇距離可以得到兩條軌跡點(diǎn)集之間的距離,距離越小,說(shuō)明兩條估計(jì)之間的相似度越高;距離越大,說(shuō)明兩條軌跡之間的相似程度越低,因此,對(duì)相似度S的定義如下:
式中:F為兩條軌跡之間的弗雷歇距離。
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