[發(fā)明專利]一種CuFe2O4薄膜電阻式隨機(jī)存儲器件及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010024981.9 | 申請日: | 2020-01-10 |
| 公開(公告)號: | CN111129300A | 公開(公告)日: | 2020-05-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 郝愛澤;寧雪兒;賈殿贈 | 申請(專利權(quán))人: | 新疆大學(xué) |
| 主分類號: | H01L45/00 | 分類號: | H01L45/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 830046 新疆維吾爾自治*** | 國省代碼: | 新疆;65 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 cufe2o4 薄膜 電阻 隨機(jī) 存儲 器件 及其 制備 方法 | ||
1.一種電阻式隨機(jī)存儲器件,由導(dǎo)電襯底、電阻存儲薄膜層和導(dǎo)電頂電極組成,其特點(diǎn)在于所述電阻存儲薄膜層為CuFe2O4薄膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電阻式隨機(jī)存儲器件,其特點(diǎn)在于所述薄膜厚度為 50~500nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電阻式隨機(jī)存儲器件,其特點(diǎn)在于所述導(dǎo)電襯底為Pt或者ITO,導(dǎo)電頂電極為Pt、Au、Ti或Cu電極。
4.權(quán)利要求1所述電阻式隨機(jī)存儲器件的制備方法是采用真空鍍膜技術(shù),在CuFe2O4薄膜表面鍍上導(dǎo)電頂電極,構(gòu)成Pt/CuFe2O4/Pt三明治結(jié)構(gòu)的電阻式隨機(jī)存儲器件。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法,其特點(diǎn)在于所述CuFe2O4薄膜的制備方法為溶膠凝膠法。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法,其特點(diǎn)在于所述溶膠凝膠法由以下步驟組成:制備CuFe2O4前驅(qū)體溶液,將其旋轉(zhuǎn)涂覆于導(dǎo)電Pt襯底上,制備CuFe2O4前驅(qū)體薄膜,對前驅(qū)體薄膜進(jìn)行熱處理,處理溫度為300~600 ℃,時間為1~120分鐘。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制備方法,其特點(diǎn)在于所述CuFe2O4前驅(qū)液是由Cu(NO3)2·3H2O、Fe(NO3)3·9H2O按1:2比例稱量作為溶質(zhì),加入比例為2:1的乙二醇甲醚和冰醋酸組成的混合溶液中,室溫攪拌8小時得到。
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