[發(fā)明專利]一種工程制圖模型投影系統(tǒng)及方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010024747.6 | 申請(qǐng)日: | 2020-01-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111325826A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-06-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳志遠(yuǎn);王麗萍;楊靜;陳近平;王芳 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 鄭州航空工業(yè)管理學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | G06T17/00 | 分類號(hào): | G06T17/00;G06T5/00 |
| 代理公司: | 北京科億知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 湯東鳳 |
| 地址: | 450046 河南省鄭*** | 國(guó)省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 工程 制圖 模型 投影 系統(tǒng) 方法 | ||
本發(fā)明屬于投影技術(shù)領(lǐng)域,公開(kāi)了一種工程制圖模型投影系統(tǒng)及方法,所工程制圖模型投影系統(tǒng)包括工程參數(shù)導(dǎo)入模塊、中央控制模塊、工程圖繪制模塊、校正模塊、三維建模模塊、渲染模塊、標(biāo)注模塊、信息修改模塊、投影模塊、投影檢測(cè)模塊、投影處理模塊、投影矯正模塊、預(yù)警模塊、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)模塊、顯示模塊。本發(fā)明通過(guò)信息修改模塊自動(dòng)獲取修改履歷信息,并自動(dòng)生成對(duì)應(yīng)的修改履歷表,自動(dòng)將修改履歷信息保存至修改履歷表,提高記錄工程圖修改信息的效率,為用戶提供便利。本發(fā)明提供的降噪方法可在GPU內(nèi)進(jìn)行,既可滿足用戶對(duì)拍攝的視頻圖像進(jìn)行實(shí)時(shí)降噪處理的需求,也可在視頻圖像的傳輸過(guò)程中對(duì)其進(jìn)行實(shí)時(shí)降噪處理,提高視覺(jué)效果。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于投影技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種工程制圖模型投影系統(tǒng)及方法。
背景技術(shù)
工程圖簡(jiǎn)稱圖樣以下叫圖樣是根據(jù)投影法來(lái)表達(dá)物體的投影面,根據(jù)投影的方式的不同可分為正投影和斜投影。工程圖最常見(jiàn)的有一維投影、二維投影和軸測(cè)投影(立體投影又叫三維投影)。按照中國(guó)規(guī)定圖紙需要畫(huà)圖框,根據(jù)圖框的不同可以分為Y型圖紙和X型圖紙。圖樣是工程界用來(lái)準(zhǔn)確表達(dá)物體形狀、大小和有關(guān)技術(shù)要求的技術(shù)文件。近代一切機(jī)器、儀器、工程建筑等產(chǎn)品和設(shè)備的設(shè)計(jì)、制造與施工、使用與維護(hù)等都是通過(guò)圖樣來(lái)實(shí)現(xiàn)的。設(shè)計(jì)者通過(guò)圖樣表達(dá)設(shè)計(jì)意圖和要求,制造者通過(guò)圖樣了解設(shè)計(jì)要求、組織生產(chǎn)加工,使用者根據(jù)圖樣了解產(chǎn)品構(gòu)造和性能、正確的使用方法和維護(hù)方法。因此,圖樣與文字、數(shù)字一樣是表達(dá)設(shè)計(jì)意圖、記錄創(chuàng)新構(gòu)思靈感、交流技術(shù)思想的重要工具之一,被喻為工程界的技術(shù)語(yǔ)言,工程技術(shù)人員必須熟練地掌握這種語(yǔ)言。然而,現(xiàn)有工程制圖模型投影系統(tǒng)對(duì)工程圖標(biāo)注采用手工標(biāo)注或半自動(dòng)標(biāo)注模式;手工標(biāo)注需要選擇每一個(gè)待標(biāo)注尺寸并指定標(biāo)注位置;半自動(dòng)標(biāo)注能夠標(biāo)注視圖中的孔以及其輪廓信息,無(wú)法標(biāo)注細(xì)節(jié)特征;同時(shí),對(duì)工程信息修改需要以手工逐條編輯的方式統(tǒng)計(jì)修改信息,費(fèi)時(shí)費(fèi)力。
綜上所述,現(xiàn)有技術(shù)存在的問(wèn)題是:現(xiàn)有工程制圖模型投影系統(tǒng)對(duì)工程圖標(biāo)注采用手工標(biāo)注或半自動(dòng)標(biāo)注模式;手工標(biāo)注需要選擇每一個(gè)待標(biāo)注尺寸并指定標(biāo)注位置;半自動(dòng)標(biāo)注能夠標(biāo)注視圖中的孔以及其輪廓信息,無(wú)法標(biāo)注細(xì)節(jié)特征;同時(shí),對(duì)工程信息修改需要以手工逐條編輯的方式統(tǒng)計(jì)修改信息,費(fèi)時(shí)費(fèi)力。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的問(wèn)題,本發(fā)明提供了一種工程制圖模型投影系統(tǒng)。
本發(fā)明是這樣實(shí)現(xiàn)的,一種工程制圖模型投影方法,所述工程制圖模型投影方法包括:
第一步,獲取工程圖數(shù)據(jù);從工程圖數(shù)據(jù)中抽取目標(biāo)實(shí)體;通過(guò)建模程序根據(jù)目標(biāo)實(shí)體構(gòu)建三維模型;
第二步,對(duì)二維視圖數(shù)據(jù)和三維模型數(shù)據(jù)進(jìn)行解析,并轉(zhuǎn)化為標(biāo)注所需的信息緩存至內(nèi)存中,同時(shí)將二維視圖數(shù)據(jù)和三維模型數(shù)據(jù)進(jìn)行比對(duì),建立二者之間的映射關(guān)系;二維視圖數(shù)據(jù)和三維模型數(shù)據(jù)進(jìn)行比對(duì)中,篩選二維視圖中的直線段和圓弧;遍歷三維模型下幾何體的邊信息,并以點(diǎn)集的形式表達(dá)后緩存至內(nèi)存中中;通過(guò)矩陣變換將三維模型的點(diǎn)集坐標(biāo)投影至二維視圖坐標(biāo)系中;
對(duì)二維視圖中的對(duì)象與三維點(diǎn)集坐標(biāo)投影的位置關(guān)系進(jìn)行比對(duì),并將位置關(guān)系一致的對(duì)象和點(diǎn)集投影保存至映射表中;所述點(diǎn)集是對(duì)三維模型下的邊按照一定數(shù)目進(jìn)行等分,其等分點(diǎn)構(gòu)成的集合即為點(diǎn)集;分別對(duì)點(diǎn)集中各點(diǎn)的X/Y/Z坐標(biāo)求加權(quán),為點(diǎn)集中心;
第三步,對(duì)三維模型進(jìn)行倒角分析,遍歷三維模型下的所有邊信息;若存在邊A的鄰面B的邊C,邊A上任意點(diǎn)X都能在邊C或邊C的二階導(dǎo)的延長(zhǎng)線上找到對(duì)應(yīng)點(diǎn)X’,使得邊A在X點(diǎn)的切線方向與邊C在X’點(diǎn)的切線方向相同,且X-X’方向垂直于切線方向,則認(rèn)為面B可能是倒角,將進(jìn)行進(jìn)一步判定:若面B為平面,則認(rèn)為為倒斜角;
若面B上各點(diǎn)曲率半徑相同,且在任意位置做截線后,得到圓弧的夾角一致并且?jiàn)A角小于135°,則認(rèn)為面B為倒圓角;最終獲取三維模型中的倒角面;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于鄭州航空工業(yè)管理學(xué)院,未經(jīng)鄭州航空工業(yè)管理學(xué)院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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