[發(fā)明專利]一種無機(jī)鈣鈦礦量子點(diǎn)分布式反饋激光器

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010022957.1
• 申請(qǐng)日: 2020-01-09
• 公開（公告）號(hào): CN111048976A
• 公開（公告）日: 2020-04-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉麗娟;孔曉波
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 曲阜師范大學(xué)
• 主分類號(hào): H01S3/08
• 分類號(hào): H01S3/08;H01S3/16
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種無機(jī)鈣鈦礦量子點(diǎn)分布式反饋激光器，其特征在于，由ITO透明基底、無機(jī)鈣鈦礦CsPbX₃量子點(diǎn)發(fā)光層、全息聚合物分散液晶光柵組成。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無機(jī)鈣鈦礦量子點(diǎn)分布式反饋激光器，其特征在于，所述的無機(jī)鈣鈦礦CsPbX₃量子點(diǎn)發(fā)光層為增益介質(zhì)層。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無機(jī)鈣鈦礦量子點(diǎn)分布式反饋激光器，其特征在于，全息聚合物分散液晶光柵為諧振腔。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3所述的無機(jī)鈣鈦礦量子點(diǎn)分布式反饋激光器的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

（1）取CsPbX₃量子點(diǎn)的分散液旋涂在潔凈的ITO透明基板上，形成無機(jī)鈣鈦礦CsPbX₃量子點(diǎn)發(fā)光層；

（2）將涂有量子點(diǎn)的透明基板與另一片干凈的透明基板堆疊，用隔墊物在基板四個(gè)角隔開，用固化膠封邊，制備成液晶盒，所述液晶盒厚度為3-20 μm；

（3）在暗室中，將50～70wt.%光敏單體、20～40wt.%液晶、0.01～10wt.%光引發(fā)劑、0.01～10wt.%共引發(fā)劑、5～20wt.%交聯(lián)劑混合均勻形成預(yù)聚物溶液，并通過毛細(xì)作用注入到上述液晶盒中；

（4）將注入預(yù)聚物溶液的液晶盒在兩束相干光下曝光，形成干涉圖案，經(jīng)固化后得到無機(jī)鈣鈦礦量子點(diǎn)分布式反饋激光器。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法，其特征在于，步驟1中，所述的CsPbX₃量子點(diǎn)中的X為Cl、Br、I元素或者任意二者組合，CsPbX₃量子點(diǎn)的分散液為CsPbX₃量子點(diǎn)分散在正辛烷或者甲苯溶劑中，分散液的濃度為5~20 mg/ mL，旋涂速度為1500~3000 r/min，旋涂時(shí)間為30~60 s。

6. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法，其特征在于，步驟1中，所述透明基底為玻璃、硅片等硬性基底，或者聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯（PEN）、聚甲基丙烯酸甲酯 (PMMA)超薄玻璃等柔性基底。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法，其特征在于，步驟3中，所述光敏單體為二季戊四醇羥基五丙烯酸酯 （DPHPA）、鄰苯二甲酸二烯二醇酯（PDDA）、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯（TMPTA）、季戊四醇三丙烯酸酯（PETA）中的一種或者幾種。

8. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法，其特征在于，步驟3中，所述液晶為TEB30A、E7、5CB、7CB、8CB中的一種或者幾種；所述光引發(fā)劑為孟加拉玫瑰紅、Irgacure 784、薯紅Y、羅丹明6G、亞甲基藍(lán)、香豆素6、香豆素343、二碘熒光素中的一種或者幾種。

9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法，其特征在于，步驟3中，所述共引發(fā)劑為N-苯基甘氨酸(NPG)、三乙醇胺(TEA)、乙酰苯基甘氨酸(APG)、3-溴苯基甘氨酸(3-PTG)、N-苯基甘氨酸乙酯(NPGEE)、對(duì)苯基甘氨酸(PPG)中的一種或者幾種；所述交聯(lián)劑為N-乙烯基吡咯烷酮(NVP)、鄰苯二甲酸二丁酯（DBP）、鄰苯二甲酸二環(huán)己酯(DCHP)和鄰苯二甲酸二異丁酯(DIBP)中的一種或者幾種。

10.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法，其特征在于，步驟4中，所述兩束相干光形成干涉圖案的激光光源為波長(zhǎng)400～550nm的連續(xù)激光，曝光光強(qiáng)為1～20mW/cm²。