[發明專利]一種基于空氣動力學自清潔的污染性氣體處理設備在審
| 申請號: | 202010022685.5 | 申請日: | 2020-01-09 |
| 公開(公告)號: | CN111203079A | 公開(公告)日: | 2020-05-29 |
| 發明(設計)人: | 楊國文 | 申請(專利權)人: | 楊國文 |
| 主分類號: | B01D53/74 | 分類號: | B01D53/74;B01D53/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 313300 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 空氣動力學 清潔 污染 性氣 處理 設備 | ||
1.一種基于空氣動力學自清潔的污染性氣體處理設備,其結構包括管道連接法蘭(1)、設備電控箱(2)、防滑支腳(3)、設備檢修門(4)、光解處理器主體(5),其特征在于:
所述光解處理器主體(5)為矩形結構,所述防滑支腳(3)位于光解處理器主體(5)底部且與光解處理器主體(5)焊接在一起,所述管道連接法蘭(1)位于光解處理器主體(5)左右兩側,所述設備檢修門(4)通過合頁連接于光解處理器主體(5)正面,所述設備電控箱(2)通過螺栓固定于左側設備檢修門(4)的正面;
所述光解處理器主體(5)由控制燈箱(5a)、紫外線燈管(5b)、自清潔裝置(5c)、處理器外殼(5d)、過濾網(5e)組成,所述處理器外殼(5d)采用中空矩形結構,所述控制燈箱(5a)通過螺栓固定于處理器外殼(5d)頂部,所述紫外線燈管(5b)等距均勻分布于控制燈箱(5a)下方,所述過濾網(5e)與處理器外殼(5d)焊接在一起,所述自清潔裝置(5c)安裝于處理器外殼(5d)底部且與紫外線燈管(5b)相互貼合。
2.根據權利要求1所述的一種基于空氣動力學自清潔的污染性氣體處理設備,其特征在于:所述自清潔裝置(5c)由氣流提升結構(c1)、提升控制器(c2)、管柱清潔器(c3)組成,所述提升控制器(c2)嵌套于處理器外殼(5d)底部,所述管柱清潔器(c3)與紫外線燈管(5b)貼合在一起,所述氣流提升結構(c1)位于管柱清潔器(c3)左右兩側且相互扣合。
3.根據權利要求2所述的一種基于空氣動力學自清潔的污染性氣體處理設備,其特征在于:所述氣流提升結構(c1)由第一翼板(c11)、密封塊(c12)、密封塊滑軌(c13)、第二翼板(c14)、氣體引流槽(c15)、固定軸(c16)、驅動柱(c17)組成,所述固定軸(c16)與管柱清潔器(c3)表面相互扣合,所述第二翼板(c14)與固定軸(c16)貼合在一起,所述第一翼板(c11)與固定軸(c16)采用間隙配合,所述氣體引流槽(c15)貫穿連接于第一翼板(c11)與第二翼板(c14)中間,所述密封塊滑軌(c13)位于第二翼板(c14)左側,所述密封塊(c12)嵌套于密封塊滑軌(c13)頂部,所述密封塊滑軌(c13)與第一翼板(c11)扣合在一起。
4.根據權利要求2所述的一種基于空氣動力學自清潔的污染性氣體處理設備,其特征在于:所述提升控制器(c2)由清潔器槽(c21)、控制器導軌(c22)、驅動推板(c23)、控制板(c24)組成,所述控制器導軌(c22)水平嵌套于處理器外殼(5d)底部,所述控制板(c24)與控制器導軌(c22)采用間隙配合,所述驅動推板(c23)等距均勻分布于控制板(c24)上表面,所述清潔器槽(c21)位于驅動推板(c23)之間。
5.根據權利要求2所述的一種基于空氣動力學自清潔的污染性氣體處理設備,其特征在于:所述管柱清潔器(c3)由滑動柱(c31)、升力控制架(c32)、驅動齒環(c33)、滑動柱導軌(c34)、清潔器主體(c35)組成,所述清潔器主體(c35)為中空圓柱結構且與紫外線燈管(5b)貼合在一起,所述滑動柱導軌(c34)嵌套于清潔器主體(c35)中間,所述升力控制架(c32)與清潔器主體(c35)采用間隙配合,所述滑動柱(c31)與升力控制架(c32)成一體化結構,所述驅動齒環(c33)位于升力控制架(c32)正面中間。
6.根據權利要求5所述的一種基于空氣動力學自清潔的污染性氣體處理設備,其特征在于:所述清潔器主體(c35)由清潔器環架(351)、酒精存放槽(352)、管壁清潔裝置(353)組成,所述清潔器環架(351)采用中空環形結構且與紫外線燈管(5b)軸心共線,所述酒精存放槽(352)位于清潔器環架(351)底部,所述管壁清潔裝置(353)均勻分布于清潔器環架(351)內部。
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