[發明專利]一種PLC控制的選擇性催化還原沸石分子篩型的脫硝設備

在審

• 申請號: 202010022626.8
• 申請日: 2020-01-09
• 公開（公告）號: CN111185088A
• 公開（公告）日: 2020-05-22
• 發明（設計）人: 楊齊周
• 申請（專利權）人: 楊齊周
• 主分類號: B01D53/86
• 分類號: B01D53/86;B01D53/90;B01D53/56
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種PLC控制的選擇性催化還原沸石分子篩型的脫硝設備，其結構包括：進氣抽管(1)、可編程控制箱(2)、沸石脫硝立罐(3)、連通長管(4)、提氣管(5)、鼓風機(6)、傳送帶架(7)，其特征在于：

所述沸石脫硝立罐(3)嵌套于可編程控制箱(2)的后側，所述進氣抽管(1)插嵌在沸石脫硝立罐(3)的左側，所述沸石脫硝立罐(3)嵌套于連通長管(4)的右側，所述連通長管(4)插嵌在鼓風機(6)的左側，所述鼓風機(6)與傳送帶架(7)機械連接，所述提氣管(5)安設在鼓風機(6)的后側；

所述沸石脫硝立罐(3)設有電磁氣閥體(3A)、活塞缸槽(3B)、工字活塞架(3C)、催化噴淋盤(3D)、電離極板架(3E)、頂層加工室(3F)、脫硝分氣槽(3G)、漏斗提升架(3H)；

所述活塞缸槽(3B)與工字活塞架(3C)機械連接，所述電磁氣閥體(3A)設有六個并且分別插嵌在活塞缸槽(3B)的左右兩側，所述活塞缸槽(3B)通過電磁氣閥體(3A)與催化噴淋盤(3D)相互貫通，所述電離極板架(3E)與電磁氣閥體(3A)活動連接，所述催化噴淋盤(3D)與電離極板架(3E)分別安設在頂層加工室(3F)的上下兩側，所述頂層加工室(3F)緊貼于脫硝分氣槽(3G)的頂面上，所述漏斗提升架(3H)安裝于脫硝分氣槽(3G)的內部，所述活塞缸槽(3B)嵌套于可編程控制箱(2)的后側。

2.根據權利要求1所述的一種PLC控制的選擇性催化還原沸石分子篩型的脫硝設備，其特征在于：所述電磁氣閥體(3A)由電磁端帽(3A1)、氣閥活塞盤(3A2)、閥管槽(3A3)組成，所述氣閥活塞盤(3A2)與閥管槽(3A3)機械連接，所述電磁端帽(3A1)安裝于閥管槽(3A3)的頂部上。

3.根據權利要求2所述的一種PLC控制的選擇性催化還原沸石分子篩型的脫硝設備，其特征在于：所述氣閥活塞盤(3A2)由外橡膠厚環(3A21)、凸墊頂塊(3A22)、導流弧板(3A23)、通氣孔(3A24)組成，所述外橡膠厚環(3A21)與凸墊頂塊(3A22)插嵌成一體，所述導流弧板(3A23)與外橡膠厚環(3A21)緊貼在一起，所述通氣孔(3A24)安裝于外橡膠厚環(3A21)的內部。

4.根據權利要求1所述的一種PLC控制的選擇性催化還原沸石分子篩型的脫硝設備，其特征在于：所述催化噴淋盤(3D)由長進氣折管(3D1)、吊桿盤座(3D2)、噴淋加注槽(3D3)、噴嘴柱塊(3D4)組成，所述長進氣折管(3D1)插嵌在吊桿盤座(3D2)的左側，所述噴淋加注槽(3D3)與噴嘴柱塊(3D4)扣合在一起，所述吊桿盤座(3D2)嵌套于噴淋加注槽(3D3)的頂部上。

5.根據權利要求4所述的一種PLC控制的選擇性催化還原沸石分子篩型的脫硝設備，其特征在于：所述噴淋加注槽(3D3)由加注倒凹槽(3D31)、弓字催化管(3D32)、分流架管(3D33)、加注閥孔(3D34)組成，所述弓字催化管(3D32)插嵌在分流架管(3D33)的頂部上，所述分流架管(3D33)嵌套于加注閥孔(3D34)的頂部上，所述分流架管(3D33)安裝于加注倒凹槽(3D31)的內部。

6.根據權利要求1所述的一種PLC控制的選擇性催化還原沸石分子篩型的脫硝設備，其特征在于：所述電離極板架(3E)由極板塊(3E1)、極片球帽(3E2)、放射管(3E3)、導線管(3E4)組成，所述極板塊(3E1)與極片球帽(3E2)嵌套成一體，所述極片球帽(3E2)與放射管(3E3)扣合在一起，所述極板塊(3E1)與導線管(3E4)電連接。

7.根據權利要求6所述的一種PLC控制的選擇性催化還原沸石分子篩型的脫硝設備，其特征在于：所述極片球帽(3E2)由碳刷架(3E21)、輥壓耳板(3E22)、極片球槽(3E23)、輸出帽槽(3E24)組成，所述碳刷架(3E21)與輥壓耳板(3E22)相配合，所述輥壓耳板(3E22)安裝于極片球槽(3E23)的內部，所述極片球槽(3E23)與輸出帽槽(3E24)嵌套成一體。