[發(fā)明專利]一種PLC控制的選擇性催化還原沸石分子篩型的脫硝設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010022626.8 | 申請(qǐng)日: | 2020-01-09 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111185088A | 公開(公告)日: | 2020-05-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊齊周 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 楊齊周 |
| 主分類號(hào): | B01D53/86 | 分類號(hào): | B01D53/86;B01D53/90;B01D53/56 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 310000 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 plc 控制 選擇性 催化 還原 分子篩 設(shè)備 | ||
1.一種PLC控制的選擇性催化還原沸石分子篩型的脫硝設(shè)備,其結(jié)構(gòu)包括:進(jìn)氣抽管(1)、可編程控制箱(2)、沸石脫硝立罐(3)、連通長管(4)、提氣管(5)、鼓風(fēng)機(jī)(6)、傳送帶架(7),其特征在于:
所述沸石脫硝立罐(3)嵌套于可編程控制箱(2)的后側(cè),所述進(jìn)氣抽管(1)插嵌在沸石脫硝立罐(3)的左側(cè),所述沸石脫硝立罐(3)嵌套于連通長管(4)的右側(cè),所述連通長管(4)插嵌在鼓風(fēng)機(jī)(6)的左側(cè),所述鼓風(fēng)機(jī)(6)與傳送帶架(7)機(jī)械連接,所述提氣管(5)安設(shè)在鼓風(fēng)機(jī)(6)的后側(cè);
所述沸石脫硝立罐(3)設(shè)有電磁氣閥體(3A)、活塞缸槽(3B)、工字活塞架(3C)、催化噴淋盤(3D)、電離極板架(3E)、頂層加工室(3F)、脫硝分氣槽(3G)、漏斗提升架(3H);
所述活塞缸槽(3B)與工字活塞架(3C)機(jī)械連接,所述電磁氣閥體(3A)設(shè)有六個(gè)并且分別插嵌在活塞缸槽(3B)的左右兩側(cè),所述活塞缸槽(3B)通過電磁氣閥體(3A)與催化噴淋盤(3D)相互貫通,所述電離極板架(3E)與電磁氣閥體(3A)活動(dòng)連接,所述催化噴淋盤(3D)與電離極板架(3E)分別安設(shè)在頂層加工室(3F)的上下兩側(cè),所述頂層加工室(3F)緊貼于脫硝分氣槽(3G)的頂面上,所述漏斗提升架(3H)安裝于脫硝分氣槽(3G)的內(nèi)部,所述活塞缸槽(3B)嵌套于可編程控制箱(2)的后側(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種PLC控制的選擇性催化還原沸石分子篩型的脫硝設(shè)備,其特征在于:所述電磁氣閥體(3A)由電磁端帽(3A1)、氣閥活塞盤(3A2)、閥管槽(3A3)組成,所述氣閥活塞盤(3A2)與閥管槽(3A3)機(jī)械連接,所述電磁端帽(3A1)安裝于閥管槽(3A3)的頂部上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種PLC控制的選擇性催化還原沸石分子篩型的脫硝設(shè)備,其特征在于:所述氣閥活塞盤(3A2)由外橡膠厚環(huán)(3A21)、凸墊頂塊(3A22)、導(dǎo)流弧板(3A23)、通氣孔(3A24)組成,所述外橡膠厚環(huán)(3A21)與凸墊頂塊(3A22)插嵌成一體,所述導(dǎo)流弧板(3A23)與外橡膠厚環(huán)(3A21)緊貼在一起,所述通氣孔(3A24)安裝于外橡膠厚環(huán)(3A21)的內(nèi)部。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種PLC控制的選擇性催化還原沸石分子篩型的脫硝設(shè)備,其特征在于:所述催化噴淋盤(3D)由長進(jìn)氣折管(3D1)、吊桿盤座(3D2)、噴淋加注槽(3D3)、噴嘴柱塊(3D4)組成,所述長進(jìn)氣折管(3D1)插嵌在吊桿盤座(3D2)的左側(cè),所述噴淋加注槽(3D3)與噴嘴柱塊(3D4)扣合在一起,所述吊桿盤座(3D2)嵌套于噴淋加注槽(3D3)的頂部上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種PLC控制的選擇性催化還原沸石分子篩型的脫硝設(shè)備,其特征在于:所述噴淋加注槽(3D3)由加注倒凹槽(3D31)、弓字催化管(3D32)、分流架管(3D33)、加注閥孔(3D34)組成,所述弓字催化管(3D32)插嵌在分流架管(3D33)的頂部上,所述分流架管(3D33)嵌套于加注閥孔(3D34)的頂部上,所述分流架管(3D33)安裝于加注倒凹槽(3D31)的內(nèi)部。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種PLC控制的選擇性催化還原沸石分子篩型的脫硝設(shè)備,其特征在于:所述電離極板架(3E)由極板塊(3E1)、極片球帽(3E2)、放射管(3E3)、導(dǎo)線管(3E4)組成,所述極板塊(3E1)與極片球帽(3E2)嵌套成一體,所述極片球帽(3E2)與放射管(3E3)扣合在一起,所述極板塊(3E1)與導(dǎo)線管(3E4)電連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種PLC控制的選擇性催化還原沸石分子篩型的脫硝設(shè)備,其特征在于:所述極片球帽(3E2)由碳刷架(3E21)、輥壓耳板(3E22)、極片球槽(3E23)、輸出帽槽(3E24)組成,所述碳刷架(3E21)與輥壓耳板(3E22)相配合,所述輥壓耳板(3E22)安裝于極片球槽(3E23)的內(nèi)部,所述極片球槽(3E23)與輸出帽槽(3E24)嵌套成一體。
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