[發(fā)明專利]減反射曲面玻璃蓋板及制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010021424.1
• 申請日: 2020-01-16
• 公開（公告）號: CN111153601B
• 公開（公告）日: 2023-03-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉君鈞
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州勝利精密制造科技股份有限公司
• 主分類號: C03C17/42
• 分類號: C03C17/42
• 代理公司: 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 32103
• 代理人: 范晴;胡秋嬋

1.減反射曲面玻璃蓋板，其特征在于：包括曲面玻璃、及鍍設(shè)在所述曲面玻璃凹面的減反增透層和防污膜層，所述減反增透層、防污膜層沿所述曲面玻璃厚度方向由內(nèi)而外布置；所述減反增透層包括依次交替層疊的若干個(gè)高折射率膜層和若干個(gè)低折射率膜層，其中貼合所述曲面玻璃、及遠(yuǎn)離所述曲面玻璃的膜層為低折射率膜層，所述低折射率膜層為SiO₂膜層，所述高折射率膜層為Nb₂O₅ 膜層；

所述減反增透層為九層膜層結(jié)構(gòu)，包括由內(nèi)而外設(shè)置的第一低折射率膜層、第一高折射率膜層、第二低折射率膜層、第二高折射率膜層、第三低折射率膜層、第三高折射率膜層、第四低折射率膜層、第四高折射率膜層、及第五低折射率膜層；

所述第一低折射率膜層的厚度為10～35nm，第一高折射率膜層的厚度為6～7.5nm，第二低折射率膜層的厚度為58～62nm，第二高折射率膜層的厚度為20～23nm，第三低折射率膜層的厚度為28～32nm，第三高折射率膜層的厚度為62～66nm、第四低折射率膜層的厚度為8～12nm、第四高折射率膜層的厚度為35～39nm、第五低折射率膜層的厚度為92～96nm。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的減反射曲面玻璃蓋板，其特征在于：所述低折射率膜層的折射率為1.46～1.50，所述高折射率膜層的折射率為2.25～2.40。

3.減反射曲面玻璃蓋板的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1、采用超聲清洗機(jī)對曲面玻璃進(jìn)行表面清潔及活化；

S2、將處理后的曲面玻璃置于真空鍍膜室內(nèi)，在真空條件下等離子清洗后，沉積若干個(gè)低折射率膜層和若干個(gè)高折射率膜層，若干個(gè)低折射率膜層和若干個(gè)高折射率膜層依次交替層疊，且貼合曲面玻璃和遠(yuǎn)離曲面玻璃的膜層為低折射率膜層，其中，低折射率膜層為SiO₂膜層，高折射率膜層為Nb₂O₅ 膜層，破真空后取出鍍膜后的曲面玻璃；

S3、通過噴涂的方式噴涂防污膜層，并烘烤固化；

S4、清潔曲面玻璃表面殘留的過量的防污材料；

所述步驟S2中沉積的膜層為九層結(jié)構(gòu)，其中第一低折射率膜層的厚度為10～35nm，第一高折射率膜層的厚度為6～7.5nm，第二低折射率膜層的厚度為58～62nm，第二高折射率膜層的厚度為20～23nm，第三低折射率膜層的厚度為28～32nm，第三高折射率膜層的厚度為62～66nm、第四低折射率膜層的厚度為8～12nm、第四高折射率膜層的厚度為35～39nm、第五低折射率膜層的厚度為92～96nm。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的減反射曲面玻璃蓋板的制備方法，其特征在于：所述步驟S2中真空鍍膜室的濺射真空鍍膜室內(nèi)真空度為0.1pa～0.5pa，等離子清洗采用60sccm～100sccm氬氣，700V～1200V處理電壓，0.3mA～0.6mA處理電流，0.4～0.8m/min傳動速度進(jìn)行等離子清洗。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的減反射曲面玻璃蓋板的制備方法，其特征在于：所述步驟S2中SiO₂膜層的沉積過程為：將硅靶材料在一定功率下，補(bǔ)充濺射氣體和反應(yīng)氣體，濺射氣體為氬氣，反應(yīng)氣體為氧氣，其中氬氣流量為50～150sccm，氧氣流量為80～150sccm，沉積后形成折射率為1.46～1.50的SiO₂膜層。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的減反射曲面玻璃蓋板的制備方法，其特征在于：所述步驟S2中Nb₂O₅ 膜層的沉積過程為：將NbOx靶材料在一定功率下，補(bǔ)充濺射氣體和反應(yīng)氣體，濺射氣體為氬氣，反應(yīng)氣體為氧氣，其中氬氣流量為50～150sccm，氧氣流量為30～80sccm，沉積后形成折射率為2.25～2.40的Nb₂O₅膜層。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的減反射曲面玻璃蓋板的制備方法，其特征在于：所述步驟S3中將防污材料用氟碳溶劑稀釋至3‰～10‰質(zhì)量濃度，在0.12Mpa～0.16Mpa霧化壓力下噴槍霧化，并噴涂到曲面玻璃鍍膜層表面，并在100℃～150℃溫度下烘烤30分鐘得到防污膜層。