[發(fā)明專利]一種射電望遠(yuǎn)鏡天線反射面變形檢測方法及系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010021337.6 | 申請日: | 2020-01-09 |
| 公開(公告)號: | CN111089535B | 公開(公告)日: | 2021-05-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 葉騫;黃劍輝 | 申請(專利權(quán))人: | 上海交通大學(xué) |
| 主分類號: | G01B7/16 | 分類號: | G01B7/16 |
| 代理公司: | 北京高沃律師事務(wù)所 11569 | 代理人: | 楊媛媛 |
| 地址: | 200240 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 射電望遠(yuǎn)鏡 天線 反射 變形 檢測 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種射電望遠(yuǎn)鏡天線反射面變形檢測方法,其特征在于,包括:
在射電望遠(yuǎn)鏡天線口徑場內(nèi)選取預(yù)設(shè)大小的窗口;所述窗口位于除所述口徑場中心與邊緣之外的位置中的任意位置;
獲取使所述窗口處口徑場的相位分別產(chǎn)生第一形變量、第二形變量和第三形變量時(shí)射電望遠(yuǎn)鏡天線測量的二維遠(yuǎn)場強(qiáng)度分布圖,得到第一遠(yuǎn)場幅值分布、第二遠(yuǎn)場幅值分布和第三遠(yuǎn)場幅值分布;所述第一形變量、所述第二形變量和所述第三形變量互不相等;
將所述第一遠(yuǎn)場幅值分布、第二遠(yuǎn)場幅值分布、第三遠(yuǎn)場幅值分布、第一形變量、第二形變量、第三形變量代入如下公式
計(jì)算得到h、hkcosα和hksinα的值;
其中h為未使窗口處口徑場的相位產(chǎn)生形變時(shí)天線的衍射遠(yuǎn)場幅值,k為窗口單獨(dú)產(chǎn)生的遠(yuǎn)場幅值,α為未使窗口處口徑場的相位產(chǎn)生形變時(shí)天線的衍射遠(yuǎn)場相位,t1為第一形變量,t2為第二形變量,t3為第三形變量,第一遠(yuǎn)場幅值分布q(t1)為在第一形變量下天線的衍射遠(yuǎn)場幅值;第二遠(yuǎn)場幅值分布q(t2)為在第二形變量下天線的衍射遠(yuǎn)場幅值;第三遠(yuǎn)場幅值分布q(t3)為在第三形變量下天線的衍射遠(yuǎn)場幅值;
將hkcosα和hksinα代入如下公式
計(jì)算得到α的值;
將h和α代入如下公式
E=∠F-1(heiα).
計(jì)算得到口徑場相位分布E;其中F-1表示傅立葉逆變換;
根據(jù)所述口徑場相位分布、口徑場坐標(biāo)系的坐標(biāo)、光速、天線反射面焦距、觀測頻率,計(jì)算天線反射面變形分布。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射電望遠(yuǎn)鏡天線反射面變形檢測方法,其特征在于,所述獲取使所述窗口處口徑場的相位分別產(chǎn)生第一形變量、第二形變量和第三形變量時(shí)射電望遠(yuǎn)鏡天線測量的二維遠(yuǎn)場強(qiáng)度分布圖,得到第一遠(yuǎn)場幅值分布、第二遠(yuǎn)場幅值分布和第三遠(yuǎn)場幅值分布,具體包括:
調(diào)整所述窗口正對的反射面區(qū)域沿軸向方向的形變使所述窗口處口徑場的相位產(chǎn)生第一形變量的形變;
獲取在所述第一形變量下射電望遠(yuǎn)鏡天線測量的二維遠(yuǎn)場強(qiáng)度分布圖,得到第一遠(yuǎn)場幅值分布;
調(diào)整所述窗口正對的反射面區(qū)域沿軸向方向的形變使所述窗口處口徑場的相位產(chǎn)生第二形變量的形變;
獲取在所述第二形變量下射電望遠(yuǎn)鏡天線測量的二維遠(yuǎn)場強(qiáng)度分布圖,得到第二遠(yuǎn)場幅值分布;
調(diào)整所述窗口正對的反射面區(qū)域沿軸向方向的形變使所述窗口處口徑場的相位產(chǎn)生第三形變量的形變;
獲取在所述第三形變量下射電望遠(yuǎn)鏡天線測量的二維遠(yuǎn)場強(qiáng)度分布圖,得到第三遠(yuǎn)場幅值分布。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射電望遠(yuǎn)鏡天線反射面變形檢測方法,其特征在于,所述窗口的大小滿足所述窗口正對的反射面區(qū)域的面積占整個(gè)反射面總面積的1%~5%。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射電望遠(yuǎn)鏡天線反射面變形檢測方法,其特征在于,所述根據(jù)所述口徑場相位分布計(jì)算天線反射面變形分布,具體包括:
利用如下公式
計(jì)算天線反射面變形分布;
其中(x,y)為口徑場坐標(biāo)系的坐標(biāo);δ(x,y)為天線反射面軸向變形分布,c為光速,L為天線反射面焦距,E(x,y)為口徑場相位分布,f為觀測頻率。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射電望遠(yuǎn)鏡天線反射面變形檢測方法,其特征在于,所述第一形變量、所述第二形變量或所述第三形變量等于0。
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