[發(fā)明專利]目標(biāo)圖形修正、掩膜版制作及半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)形成的方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010020264.9
• 申請(qǐng)日: 2020-01-08
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113093469A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-07-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王占雨;舒強(qiáng);覃柳莎;張迎春
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國(guó)際集成電路制造(北京)有限公司
• 主分類號(hào): G03F1/36
• 分類號(hào): G03F1/36;G03F7/20;H01L21/027
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 徐文欣

1.一種目標(biāo)圖形的修正方法，其特征在于，包括：

提供目標(biāo)圖形，且所述目標(biāo)圖形沿第一方向延伸；

將所述目標(biāo)圖形劃分為一個(gè)第一中心區(qū)以及分別位于所述第一中心區(qū)兩側(cè)的兩個(gè)第一邊緣區(qū)；

將各所述第一邊緣區(qū)的目標(biāo)圖形的邊緣分割為若干待補(bǔ)償邊；

獲取刻蝕偏移模型；

根據(jù)刻蝕偏移模型對(duì)每個(gè)待補(bǔ)償邊分別進(jìn)行第一補(bǔ)償修正，得到第一補(bǔ)償邊。

2.如權(quán)利要求1所述的目標(biāo)圖形的修正方法，其特征在于，當(dāng)所述目標(biāo)圖形沿第一方向上的尺寸大于預(yù)設(shè)值時(shí)，將所述目標(biāo)圖形劃分為一個(gè)第一中心區(qū)和兩個(gè)第一邊緣區(qū)的方法包括：獲取所述目標(biāo)圖形第一方向上的尺寸l_long；在所述目標(biāo)圖形中獲取第一中心區(qū)，所述第一中心區(qū)沿第一方向上的尺寸l₁，且l₁為大于等于最小分割值l_min；在所述目標(biāo)圖形中獲取第一邊緣區(qū)，所述第一邊緣區(qū)沿第一方向上的尺寸為l₀，且滿足l₀＝(l_long-l₁)/2。

3.如權(quán)利要求2所述的目標(biāo)圖形的修正方法，其特征在于，將各所述第一邊緣區(qū)目標(biāo)圖形的邊緣分割為若干待補(bǔ)償邊的方法包括：沿第一方向上，將所述第一邊緣區(qū)的目標(biāo)圖形的邊緣分割為N個(gè)待補(bǔ)償邊，且N取l_long/l_min的整數(shù)值；在所述若干待補(bǔ)償邊中獲取第一待補(bǔ)償邊，所述第一待補(bǔ)償邊為在第一方向上到第一中心區(qū)距離最遠(yuǎn)的待補(bǔ)償邊，且所述第一待補(bǔ)償邊的尺寸為l₀-(N-1)l_min，第一待補(bǔ)償邊以外的(N-1)個(gè)待補(bǔ)償邊的尺寸均為最小分割值l_min。

4.如權(quán)利要求3所述的目標(biāo)圖形的修正方法，其特征在于，所述刻蝕偏移模型包括：第一修正模型和第二修正模型；獲取所述刻蝕偏移模型的方法包括：提供第二測(cè)試圖形，在第一方向上所述第二測(cè)試圖形的尺寸大于預(yù)設(shè)值；以所述第二測(cè)試圖形為掩膜，進(jìn)行曝光工藝、顯影工藝以及蝕刻工藝之后，得到第二蝕刻圖形；將所述第二蝕刻圖形劃分為一個(gè)第二中心區(qū)以及分別位于所述第一中心區(qū)兩側(cè)的兩個(gè)第二邊緣區(qū)，且所述第二邊緣區(qū)的尺寸為l₀；將各第二邊緣區(qū)沿第一方向分割為若干分割圖形，在所述若干分割圖形中，到第二中心區(qū)距離最遠(yuǎn)的分割圖形為第一分割圖形，所述第一分割圖形沿第一方向的尺寸l₀-(N-1)l_min；測(cè)量所述第一分割圖形的尺寸CD_{AEI_end}；獲取CD_AEI；根據(jù)CD_{AEI_end}和CD_AEI，得到第一修正模型為，

f(1)＝CD_{AEI_end}-CD_AEI；

根據(jù)所述第一修正模型f(1)，得到第二修正模型為，

且2≤x≤N，N為大于等于2的自然數(shù)。

5.如權(quán)利要求4所述的目標(biāo)圖形的修正方法，其特征在于，所述第一補(bǔ)償修正的方法包括：根據(jù)第一修正模型，對(duì)各第一邊緣區(qū)的第一待補(bǔ)償邊進(jìn)行補(bǔ)償修正；根據(jù)第二修正模型，對(duì)第一邊緣區(qū)的第x段待補(bǔ)償邊進(jìn)行補(bǔ)償修正，且2≤x≤N，N為大于等于2的自然數(shù)。

6.如權(quán)利要求1所述的目標(biāo)圖形的修正方法，其特征在于，當(dāng)所述目標(biāo)圖形沿第一方向上的尺寸小于預(yù)設(shè)值時(shí)，將所述目標(biāo)圖形劃分為一個(gè)第一中心區(qū)和兩個(gè)第一邊緣區(qū)的方法包括：獲取所述目標(biāo)圖形第一方向上的尺寸l_short；在所述目標(biāo)圖形中獲取第一中心區(qū)，所述第一中心區(qū)沿第一方向上的尺寸l₃，且l₃等于最小分割值l_min；在所述目標(biāo)圖形中獲取第一邊緣區(qū)，所述第一邊緣區(qū)沿第一方向上的尺寸為l₂，且滿足l₂＝(l_short-l₃)/2。