[發(fā)明專(zhuān)利]一種束流散射靶裝置和束流能散分析器

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010019776.3
• 申請(qǐng)日: 2020-01-08
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111175806B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-03-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 景龍;杜澤;魏源;武軍霞;張雍;朱光宇;謝宏明
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院近代物理研究所
• 主分類(lèi)號(hào): G01T1/29
• 分類(lèi)號(hào): G01T1/29
• 代理公司: 北京紀(jì)凱知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11245
• 代理人: 劉小娟

1.一種束流散射靶裝置，其特征在于，所述束流散射靶裝置包括限流板和散射靶，所述散射靶與所述限流板呈一斜角設(shè)置，其中，所述散射靶中心到探測(cè)器中心的連線(xiàn)與入射束流之間的夾角為銳角A，則所述斜角等于A(yíng)的一半；

所述限流板為鉭銅復(fù)合板，所述限流板上設(shè)有限流孔，所述限流板在所述限流孔周?chē)O(shè)有散熱通道，所述限流孔的出口方向呈喇叭狀，所述限流孔的中心位于束流前進(jìn)方向的幾何中心線(xiàn)上；

所述散射靶的入射面中心與所述限流板的限流孔中心線(xiàn)同軸。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的束流散射靶裝置，其特征在于，所述限流板的入射側(cè)為鉭板，射出側(cè)為銅板。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的束流散射靶裝置，其特征在于，所述散射靶通過(guò)楔子與所述限流板相連。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的束流散射靶裝置，其特征在于，所述散射靶為金靶，厚度為40nm-100nm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2或4所述的束流散射靶裝置，其特征在于，所述散熱通道為水冷通道，所述限流板還設(shè)有水冷入口和水冷出口，所述限流板內(nèi)設(shè)有所述水冷通道，所述水冷通道兩端分別連接所述水冷入口和水冷出口。

6.一種束流能散分析器，其特征在于，所述束流能散分析器包括探測(cè)器系統(tǒng)和散射靶系統(tǒng)，所述散射靶系統(tǒng)包括權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的束流散射靶裝置，所述探測(cè)器系統(tǒng)對(duì)經(jīng)所述束流散射靶裝置散射的束流進(jìn)行分析。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的束流能散分析器，其特征在于，所述探測(cè)器系統(tǒng)包括粒子探測(cè)器、前置放大器和多道分析儀，所述粒子探測(cè)器與所述前置放大器相連，所述粒子探測(cè)器位于真空環(huán)境中，表面垂直于被測(cè)粒子的入射方向放置，所述前置放大器置于大氣中，所述前置放大器與所述多道分析儀連接。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的束流能散分析器，其特征在于，所述散射靶系統(tǒng)還包括準(zhǔn)直器，所述準(zhǔn)直器與所述散射靶間隔設(shè)置，所述準(zhǔn)直器設(shè)有準(zhǔn)直孔，所述準(zhǔn)直孔與所述散射靶的中心點(diǎn)、所述粒子探測(cè)器的中心點(diǎn)三點(diǎn)一線(xiàn)設(shè)置。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的束流能散分析器，其特征在于，所述粒子探測(cè)器通過(guò)帶法蘭的信號(hào)饋通與所述前置放大器相連，所述法蘭為真空法蘭，所述粒子探測(cè)器處于所述真空法蘭連接的真空腔室內(nèi)，所述準(zhǔn)直器位于所述真空腔室外粒子入射的線(xiàn)路上，所述粒子探測(cè)器的表面與所述準(zhǔn)直器的表面平行。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的束流能散分析器，其特征在于，所述法蘭通過(guò)轉(zhuǎn)接法蘭與驅(qū)動(dòng)裝置相連，所述轉(zhuǎn)接法蘭一面連接所述真空腔室，另一面連接驅(qū)動(dòng)裝置；所述轉(zhuǎn)接法蘭上設(shè)有支撐筒，以支撐所述束流散射靶裝置；所述粒子探測(cè)器的基板材質(zhì)為高溫陶瓷。