[發(fā)明專利]顯示面板及顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010017539.3 | 申請日: | 2020-01-08 |
| 公開(公告)號: | CN111123596B | 公開(公告)日: | 2022-07-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 聶曉輝 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;H01L27/02;H01L27/12 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人: | 刁文魁 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 顯示裝置 | ||
本發(fā)明提供一種顯示面板及顯示裝置,通過在所述測試區(qū)設(shè)置靜電釋放區(qū),并且在所述靜電釋放區(qū)設(shè)置通孔,使得所述靜電釋放區(qū)與所述主測試區(qū)相鄰的部位設(shè)置成梳齒狀,并且,梳齒的寬度小于測試線的寬度,使得靜電釋放區(qū)的電阻小于測試線的電阻,從而將測試區(qū)內(nèi)積累的靜電優(yōu)先在靜電釋放區(qū)釋放,從而避免測試區(qū)內(nèi)積累的靜電在測試線路上和主測試區(qū)釋放,有效保護(hù)測試區(qū)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及顯示面板及顯示裝置。
背景技術(shù)
顯示裝置可以把計算機(jī)的數(shù)據(jù)變換成各種文字、數(shù)字、符號或直觀的圖像顯示出來,并且可以利用鍵盤等輸入工具把命令或數(shù)據(jù)輸入計算機(jī),借助系統(tǒng)的硬件和軟件隨時增添、刪改、變換顯示內(nèi)容。顯示裝置根據(jù)所用之顯示器件分為等離子、液晶、發(fā)光二極管和陰極射線管等類型。
LCD(英文全稱:Liquid Crystal Display,液晶顯示器)。液晶顯示器是以液晶材料為基本組件,在兩塊平行板之間填充液晶材料,通過電壓來改變液晶材料內(nèi)部分子的排列狀況,以達(dá)到遮光和透光的目的來顯示深淺不一,錯落有致的圖象,而且只要在兩塊平板間再加上三原色的濾光層,就可實(shí)現(xiàn)彩色圖象的顯示。
有源矩陣式薄膜晶體管(Thin Film Transistor,TFT)液晶顯示是指使用TFT作為像素開關(guān)的液晶顯示技術(shù)。對于TFT器件,起核心作用的是半導(dǎo)體有源層,目前主流的材料為非晶硅(Amorphous Silicon,a-Si)和多晶硅(Polycrystalline Silicon,p-Si)。其中,低溫多晶硅薄膜晶體管(Low Temperature Poly-Si Thin Film Transistor,LTPS-TFT)具有制備溫度低,載流子遷移率高,器件尺寸小等突出優(yōu)點(diǎn),是發(fā)展低功耗、高集成度顯示面板的關(guān)鍵技術(shù)。
為有效檢出中小尺寸顯示面板的顯示功能,一般會在TFT基板端子區(qū)設(shè)置Testcircuit。Test circuit設(shè)計多組測試襯墊,當(dāng)TFT基板和CF基板組立成盒后,利用探針將測試信號接入測試襯墊,即可對面板點(diǎn)亮,實(shí)現(xiàn)檢測顯示功能的目的。
LTPS-TFT陣列基板的制作需經(jīng)歷成膜、光刻、清洗等多道工藝,涉及多種制程機(jī)臺。在生產(chǎn)過程中,陣列基板與制程機(jī)臺的摩擦接觸極易導(dǎo)致靜電積累,由于測試襯墊結(jié)構(gòu)上包含大面積金屬和非金屬疊層結(jié)構(gòu)更容易發(fā)生靜電積累和靜電釋放(ElectrostaticDischarge,ESD),由于測試襯墊的面積越大,抵抗靜電釋放損傷能力較強(qiáng),但與之相連的測試線路很細(xì),因此靜電釋放極易發(fā)生在與之相連的測試線路上,靜電釋放的瞬間熱量很高,足以熔斷測試線,進(jìn)而導(dǎo)致測試功能失效。因此需要尋求一種新型的顯示面板以解決上述問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個目的是提供一種陣列基板,其能夠避免靜電釋放發(fā)生在與測試襯墊相連的測試線路上,保護(hù)測試線路及測試襯墊不被熔斷,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)測試功能。
為了解決上述問題,本發(fā)明提供了一種顯示面板,其包括測試區(qū),所述測試區(qū)包括主測試區(qū)和靜電釋放區(qū)。所述測試區(qū)包括:第一金屬層,其包括測試線;第二金屬層,設(shè)置于所述第一金屬層上;以及ITO層,設(shè)置于所述第二金屬層上;第一通孔,貫穿所述第一金屬層,第二通孔,貫穿所述第二金屬層,且與第一通孔相對設(shè)置;第三通孔,貫穿所述ITO層,且與第二通孔相對設(shè)置。
進(jìn)一步的,其中所述第一通孔位于所述靜電釋放區(qū)內(nèi),且與所述主測試區(qū)相鄰。
進(jìn)一步的,其中所述第一通孔包括2個或2個以上的數(shù)量,所述第一通孔相互間隔排列。
進(jìn)一步的,其中所述第一通孔排列在同一直線上。
進(jìn)一步的,其中所述測試區(qū)還包括導(dǎo)電區(qū),其為相鄰兩個所述第一通孔之間的測試區(qū);所述導(dǎo)電區(qū)的寬度小于所述測試線的寬度。
進(jìn)一步的,其中所述靜電釋放區(qū)的電阻小于所述測試線的電阻。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





